今天的KLA已經覆蓋晶圓缺陷檢測、量測、光罩檢測、電子束、軟體、服務、先進封裝以及部分專用半導體工藝裝置。本篇文章就對KLA的歷史做一次全面梳理，這些看起來分散的產品線是怎樣在過去50年裡逐步形成，並最終組合成今天KLA的完整過程控制業務？

01. 1975到1990年  從缺陷檢測開始提供獨立製造資訊

KLA Instruments成立於1975年。公司早期最重要的兩類業務是光罩檢測和晶圓檢測。RAPID業務建立了自動化光罩和掩模檢測市場，WISARD業務隨後推動自動化晶圓缺陷檢測。

這些裝置提供了一層獨立於生產裝置之外的製造資訊。沉積、刻蝕、光刻和拋光等裝置負責完成晶圓加工，而檢測裝置負責判斷加工結果。晶圓廠最終關心的是良率。一片晶圓經過數百道製造步驟以後，只要其中某一個環節持續產生缺陷，前面已經投入的大量工藝成本都會受到影響。檢測越早發現異常，晶圓廠越有機會在更多晶圓繼續流過問題工藝之前進行修正。

02. 1991到1996年  從工程分析走向線上生產監控

KLA早期的晶圓檢測裝置主要承擔工程分析任務。裝置可以非常仔細地檢查晶圓，但檢測往往發生在生產線之外，速度的重要性低於靈敏度。工程師通常在已經發現良率問題以後，再利用檢測裝置尋找原因。

2100系列改變了裝置的使用方式。

第一代2110在1991年推出，此後KLA持續提高檢測速度和靈敏度。到1995年，2100系列已經同時具備用於工程分析的靈敏度，以及直接進入生產流程進行inline monitoring（線上監控）所需要的速度。客戶使用晶圓檢測裝置的方式開始從單台離線分析，轉向在先進生產線的多個關鍵工藝步驟配置多套系統。

KLA當時判斷，線上監控對應的市場空間可能達到傳統工程分析市場的數倍。

裝置進入生產線以後，它在晶圓廠裡的作用隨之改變。Inline monitoring（線上監控）需要持續判斷生產過程是否仍處於正常範圍，同時要求高吞吐和高靈敏度，因為檢測結果需要及時反饋給生產流程，工程師才能在後續晶圓繼續加工以前調整工藝。

這一變化對KLA後來的商業模式影響很深。如果一台裝置長期放在生產線上，它就需要穩定運行，需要針對不同工藝建立檢測方案，需要和同一產線上的其他裝置保持一致，也需要持續維護。客戶對裝置的判斷也逐漸從單次測試結果擴展到它能否長期支援量產。檢測裝置由此開始成為客戶的生產基礎裝置。

KLA在同一時期繼續補上另外兩塊能力。

1994年，公司成立PRISM軟體部門。Discovery等軟體開始從多個資料來源收集、記憶體和關聯良率資訊，幫助晶圓廠把不同檢測和量測結果放到同一個分析環境裡。KLA當時也提出，把自身產品以及其他廠商量測裝置產生的資訊連接起來，形成更完整的檢測和分析體系。

同年年底，KLA通過收購Metrologix進入電子束量測。公司原有的光學套刻和關鍵尺寸量測已經具備較強市場位置，電子束進一步增加了另一種測量方式。到1995年，KLA的主要業務已經包括晶圓檢測、光罩檢測、光學量測、電子束量測、軟體分析、晶圓探針和掃描電子顯微鏡檢測。

應用工程也已經進入公司的核心經營體系。1995年KLA擁有90多名應用工程師。他們需要幫助客戶把裝置應用到具體製造問題中，包括如何設定檢測方案，如何利用缺陷資訊改善良率，以及如何把裝置能力用於即時工藝控制。KLA當時已經把這支團隊視為競爭優勢。全球銷售、服務和應用工程團隊超過400人，日本還設有多個地區服務中心。

到1995年前後，KLA已經形成後來公司體系中的幾個重要組成部分。裝置負責產生獨立製造資訊。軟體開始連接和分析這些資訊。應用工程負責把裝置能力放進客戶的具體製造環境。線上監控讓裝置長期進入生產流程。

03. 1997年  KLA與Tencor把兩個過程控制能力合在一起

Tencor Instruments成立於1976年，在1997年合併以前已經經營超過20年。其業務覆蓋晶圓檢測、薄膜量測等，長期積累了晶圓表面、薄膜和物理尺寸測量能力。Tencor早期的Alpha-Step系列用於台階高度、表面形貌、粗糙度和薄膜應力測量，隨後又發展出Surfscan等晶圓表面檢測和生產監控平台。

KLA當時的能力重心有所不同。它已經圖形晶圓檢測、光罩檢測、套刻、關鍵尺寸量測、良率分析軟體以及應用工程方面建立了較深積累。到1995年，電子束量測業務也已經進入公司的產品體系。

1997年4月，兩家公司完成合併，KLA Instruments隨後更名為KLA-Tencor。

這次合併首先擴大了檢測和量測的覆蓋範圍，合併後的公司可以同時覆蓋客戶更多製造環節。

第二個變化來自客戶現場能力。KLA原本已經擁有較大規模的銷售、服務和應用工程團隊，Tencor也擁有長期積累的客戶裝機基礎。合併以後，更多產品開始共享全球服務和技術支援體系。對於需要大量現場偵錯、應用開發和長期維護的過程控制裝置，這種組織能力直接影響產品能否長期運行在量產環境中。

第三個變化來自研發規模和技術選擇。

過程控製麵對的問題不會長期停留在一種缺陷、一種材料或一種測量方式上。隨著工藝變化，公司需要同時發展光學、電子束、薄膜、表面、形貌和軟體分析等不同技術。產品範圍擴大以後，同一家公司可以在多個技術方向持續投入，也可以讓不同產品共享部分工程能力和客戶經驗。

1997年的合併由此形成了一個更完整的過程控制平台。KLA原有的產品線，與Tencor的長期積累被放到同一個產品、應用工程、服務和研發體系中。合併後的KLA-Tencor能夠從更多製造環節獲得獨立資訊，並把這些資訊放進同一套良率管理體系。

04. 1998到2005年  平台形成以後繼續填補技術缺口

1997年的合併沒有結束KLA的能力擴張。隨後幾年，公司持續通過內部研發和規模較小的技術收購補充已有平台。

這些交易通常圍繞某一項具體技術展開。收購對象本身未必需要發展成獨立的大型業務，KLA更關注它們能否增加某種檢測方式、軟體能力、智慧財產權或特定應用。

1998年前後，公司先後收購Nanopro、VARS和DeviceWare等資產，繼續補充晶圓檢測和軟體能力，同時通過Amray增加掃描電子顯微鏡相關技術。2001年收購QC Optics以後，又取得雷射檢測相關智慧財產權。

這一階段逐漸形成一種後來KLA長期存在的能力擴展方式。

公司核心平台已經建立，大量新增技術可以通過內部研發形成，也可以通過規模較小的收購補充，再放進現有產品、應用工程和客戶體系中。

到2003年，合併後的產品體系已經相當完整。

公司同時提供線上晶圓缺陷監控、光罩檢測、關鍵尺寸量測、套刻量測、薄膜和表面量測，以及全廠良率資料分析。產品、軟體、分析、服務和專業技術支援已經共同構成一套良率管理體系。

從這個階段開始，KLA的發展越來越少依賴單個明星產品。公司擁有的檢測和量測位置越多，能夠從不同工藝步驟獲得的資訊就越豐富。軟體負責組織這些資訊，應用工程師負責把裝置和分析結果放進具體工藝，服務團隊則保證裝置長期運行在客戶生產線上。現在KLA的基本業務條線和組織形態在這一階段已經初步形成。

05. 2006到2018年  現代KLA核心能力棧逐漸成形

2006年以後，KLA經歷了一輪更集中的能力補強。新增能力已經明顯超出傳統晶圓缺陷檢測，進一步進入晶圓量測、工藝感測、晶圓幾何形貌、先進封裝檢測等領域。

2006年，KLA收購ADE。ADE是裸晶圓量測與檢測的重要供應商，長期積累了晶圓幾何形貌和表面量測能力。收購完成以後，KLA進一步擴大了裸晶圓、表面和晶圓幾何量測產品體系。

2007年，KLA又收購OnWafer和SensArray。兩家公司開發能夠隨晶圓進入工藝裝置的感測器，用來測量晶圓在裝置內部經歷的實際工藝環境，包括溫度和電漿體等參數。

這類能力與傳統缺陷檢測提供了不同的資訊。

傳統檢測主要觀察某一道工藝完成以後，晶圓表面留下了什麼結果。嵌入式感測器則可以直接進入裝置，觀察晶圓在加工過程中經歷了什麼環境。兩類資訊結合以後，工程師能夠同時看到工藝條件和最終製造結果，更容易定位問題來源。

KLA隨後又通過Therma-Wave等資產繼續加深薄膜和工藝量測能力。這幾項收購放在一起看，反映了公司2006到2007年非常明顯的一次技術擴展。公司同時增加了晶圓幾何形貌、表面量測、薄膜量測和工藝感測能力。

2008年收購ICOS，又把能力進一步延伸到半導體封裝與互連檢測。ICOS的裝置用於檢查封裝後的半導體器件及相關互連結構。

同一時期，KLA還通過Vistec MIE等資產增加光罩位置精度量測、光罩關鍵尺寸量測和相關檢測能力，進一步加密光罩過程控制體系。

到2008年前後，KLA-Tencor的產品已經覆蓋圖形和非圖形晶圓檢測、缺陷複檢、光罩檢測、封裝和互連檢測、關鍵尺寸量測、套刻量測、薄膜厚度、表面形貌、材料組成、晶圓形狀和應力量測、工藝腔體條件監控、計算光刻以及全廠良率資料管理。

到2010年代中後期，這套能力結構已經基本穩定。KLA的主要業務同時覆蓋檢測量測、軟體和服務，應用範圍從晶圓製造延伸到光罩、先進封裝、功率器件、化合物半導體和MEMS。

06. 2019年以後  KLA開始用不同方式繼續擴大能力

2019年完成Orbotech收購以後，KLA增加的能力與此前多數小型技術收購有所不同。

此前很多收購主要用於補充已有過程控制平台，例如增加一種量測方式、一套軟體、一項檢測技術或者某個新的應用。Orbotech帶來的業務範圍更廣，覆蓋PCB、顯示面板、專用半導體工藝裝置以及更廣泛的電子製造環節。

其中SPTS擁有刻蝕、物理氣相沉積、化學氣相沉積等工藝裝置，主要服務MEMS、功率半導體、射頻器件和先進封裝。Orbotech原有的PCB業務則包括AOI（自動光學檢測）、直接成像、雷射加工、印刷和CAM（電腦輔助製造）軟體。這些業務把KLA進一步帶入PCB、IC載板和電子製造領域。

2020年，KLA成立Electronics, Packaging and Components Group，將Orbotech、SPTS以及此前已經擁有的ICOS放進同一個組織，進一步整合封裝檢測、PCB和IC載板、專用半導體工藝裝置等能力。

這些業務後來的發展並不一致。

SPTS繼續保留下來。到FY2026，專用半導體工藝裝置收入約5.03億美元，產品繼續覆蓋刻蝕、沉積和電漿切割等工藝，並服務功率半導體、射頻、MEMS和先進封裝。

PCB和IC載板相關業務同樣繼續存在。FY2026的PCB與元器件檢測收入約4.6億美元，其中仍然保留大量Orbotech和Frontline形成的檢測、成像和工程軟體能力。

顯示面板業務的發展結果不同。2024年，KLA決定停止製造大部分相關產品，只繼續支援已經安裝在客戶現場的裝置。

KLA也在同期形成了另一條業務擴張路徑。

隨著HBM、2.5D和3D封裝以及混合鍵合發展，先進封裝需要處理更小的缺陷、更複雜的晶圓翹曲、凸點、重布線層、矽通孔和鍵合對準問題，部分檢測和量測要求已經逐漸接近前道製造。

KLA可以繼續使用多年積累的光學檢測、晶圓幾何形貌、套刻、電子束和應用工程能力處理這些新問題。ICOS繼續覆蓋封裝和元器件檢測，SPTS則補充刻蝕、沉積和電漿切割等工藝能力。

已經投入多年的技術能力，因此可以經過新的產品開發和應用工程，繼續進入新的製造問題。

這一模式同樣可以出現在GAA（環繞柵極電晶體）、HBM以及其他先進工藝中。製造結構改變以後，檢測對象和量測要求會變化，底層積累的光學、電子束、量測、軟體和應用工程能力仍然可以繼續使用。

從2019年以後幾項重要業務的發展可以看到，KLA擴大能力範圍的方式已經更加多樣。公司可以通過收購進入新的技術和市場，也可以把已有技術遷移到新的製造環節，同時會停止繼續投入長期表現不理想的業務。這幾種方式共同影響著今天KLA的業務組合。

07. 50年積累形成三套相互連接的經營循環

把KLA從1975年至今的發展放在一起看，公司的產品不斷變化，幾項核心能力卻一直在持續累積。

08. 第一套循環  負責把技術變成客戶真正使用的生產工具

製造工藝發生變化以後，客戶會遇到新的缺陷和量測問題。KLA需要選擇值得投入的問題，再開發新的光學、電子束、量測或軟體能力。

產品完成開發以後，還需要應用工程師進入客戶現場，把裝置調整到具體工藝、材料、結構和工藝配方中。客戶經過測試和認證，裝置才能進入正式量產，並進一步擴展到更多生產線和裝置。

整個過程可以概括為：製造問題 → 技術開發 → 產品 → 應用工程 → 客戶認證 → 量產 → 裝機擴張。

應用工程在這裡承擔了技術與客戶生產之間的連接作用。晶圓廠購買檢測和量測裝置時，需要確認裝置能夠穩定識別真正重要的缺陷，同時控制誤報、檢測時間和使用成本。裝置還需要和客戶已經運行的生產流程、軟體以及其他量測工具配合。技術性能經過具體生產環境驗證以後，才會形成持續的商業價值。

09. 第二套循環  從裝置進入量產以後開始

KLA的服務體系從很早時期就參與客戶現場工作。1995年，公司全球銷售、服務和應用工程團隊已經超過400人，當時主要承擔安裝、維修、應用支援和客戶現場服務。

隨著裝機規模擴大，服務開始形成越來越明顯的獨立經濟價值。

2003年，KLA的服務收入已經達到2.63億美元，接近公司收入的20%。收入主要來自裝置保修期結束後的維護合同，以及按時間和材料計費的維修服務。到2021年，KLA的服務收入已經達到約18億美元，全球裝機量超過4.8萬套。超過75%的服務收入來自類似訂閱的長期服務合同，續約率超過95%，平均合同期限超過3年。2026財年，服務收入進一步達到31.26億美元，佔公司總收入23%。

裝機量持續增加以後，進入保修期外的裝置數量隨之擴大，可以長期產生維護、備件、升級和應用支援需求的裝置越來越多。

裝機基礎還會帶來另一類價值。服務工程師和應用工程師長期接觸裝置故障、工藝變化、配方調整和新的製造問題，其中一部分經驗可以被整理成新的服務方法、應用知識和產品需求，再進入後續裝置和軟體開發。

這條循環可以概括為：量產裝置 → 裝機基礎 → 服務與現場支援 → 應用經驗 → 產品改進和下一代需求。

這些長期積累主要體現為工程知識和組織經驗。客戶的原始生產資料、圖像和工藝配方通常受到嚴格管理，因此大量裝機裝置本身並不能直接說明不同客戶的資料可以互相使用。KLA能夠持續積累的主要是服務、應用開發和產品支援過程中形成的工程經驗，以及經過總結處理以後可以繼續用於新產品和新應用的方法。

10. 第三套循環負責把已經賺到的資本和已有技術繼續投入新的製造問題

KLA需要為未來數年的技術變化持續投入研發。部分能力通過內部開發形成，部分缺失技術通過收購補充，已經成熟的技術還可以進入新的應用市場。

過去幾十年的發展已經出現了多種形式。

早期晶圓檢測和大量核心產品主要依靠內部研發。部分軟體、量測和感測技術通過規模較小的收購進入公司。Orbotech帶來更大範圍的外部能力擴張。先進封裝大量使用已有前道技術。顯示面板業務退出以後，公司停止繼續製造大部分相關產品。

整個過程可以概括為：利潤和現金 → 研發與能力投入 → 內部開發、收購或技術遷移 → 新產品和新市場 → 收入與現金 → 再投入。

三套循環連接起來以後，KLA今天的經營方式就非常清楚。第一套循環讓技術進入客戶生產流程。第二套循環讓進入生產流程的裝置繼續產生服務收入和現場經驗。第三套循環把利潤、技術和經驗繼續投入新的製造問題。KLA過去50年的大量產品、研發和收購，實際上都是圍繞著三套循環來做的。

11. 長期積累的是持續解決製造問題的能力

今天KLA擁有非常寬的產品組合，但產品數量本身無法解釋公司的長期競爭力。

一家企業可以同時擁有很多產品。如果這些產品面對不同客戶、使用不同技術和銷售體系，也很難共享工程、服務和研發能力，它們仍然只是多個業務的集合。

但KLA核心過程控制業務中的產品之間存在非常強的聯絡。晶圓檢測、量測、電子束、光罩檢測和軟體雖然使用不同技術，但都圍繞同一類製造問題工作。客戶需要知道缺陷在那裡、尺寸是否偏離、圖形是否對準、薄膜是否正確，以及某一個異常來自那一道工藝。

這些問題之間經常互相關聯。檢測發現異常以後，可能需要電子束進一步確認。量測發現形貌或套刻發生變化以後，可能需要繼續尋找上游工藝原因。軟體負責把來自不同裝置的資訊放進分析流程。應用工程師再把這些裝置和資訊調整到客戶的實際生產環境中。服務負責讓裝置長期穩定運行。

營收36.6億美元；調整後EPS1.05美元。

經營活動產生的現金流9.064 億美元。自由現金流量為 8.171 億美元。資本回報為8.763億美元。

總裁兼首席執行長瑞克·華萊士表示：

「KLA 6月份的季度業績進一步印證了推動我們增長的趨勢正在增強，我們預計公司各項業務的增長勢頭將在2026年下半年加速，並持續到2027年。KLA在人工智慧基礎設施擴展的關鍵路徑上擁有獨特的優勢，隨著晶圓代工/邏輯晶片領域前沿設計的數量和複雜性不斷增加，以及記憶體器領域日益增長的複雜性和性能要求，對工藝控制的需求也越來越大。此外，人工智慧基礎設施的建設也為先進封裝領域帶來了新的增長機遇，而KLA市場領先的工藝控​​制產品組合在該領域佔據了有利地位。」

預計總收入將在 40 億美元上下浮動 2 億美元之間。

GAAP毛利率預計在61.6% +/- 1.0%的範圍內。

非GAAP毛利率預計在62.5% +/- 1.0%的範圍內。

預計GAAP稀釋後每股收益在1.14美元±0.10美元範圍內。

非GAAP稀釋後每股收益預計在1.16美元±0.10美元範圍內。 (富途資訊)

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