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北風窗
2026/07/12
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澤平宏觀—國產“芯”爆發,輝達最擔心的事來了
中國“芯”爆發,DeepSeekV4與八大國產GPU適配,更低算力成本、更頂級性能。 算力國產化加速,國產GPU全面崛起。 AI不是風口,是海嘯。 擁抱康波周期,不要做老登。 1、輝達最擔心的事來了,國產算力爆發 一是硬體適配。DeepSeekV4在發佈首日即實現華為昇騰、寒武紀、海光、摩爾線程、沐曦、崑崙芯、阿里平頭哥、天數智芯八大國產晶片廠商的全量適配。“發佈即跑通”,有力證明國產算力足以支撐兆級參數的大模型運行。
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北風窗
2026/04/29
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澤平宏觀—中國“芯”能否超越輝達?
DeepSeekV4爆了,全面擁抱國產算力,中國“芯”崛起。1、 國產晶片與輝達是否還有差距?先上結論:差距在快速縮小,大叢集方案讓中國芯迎來了全新變數。華為昇騰950是今年的國產主力,主打推理,單卡算力對標輝達H100,FP4性能局部反超H100,雖訓練端與H200仍有差距,但遠優於特供版H20。但與輝達下一代Rubin架構對比,單卡性能仍然落後。未來,真正的突破還在於用系統化思維,重新定義晶片戰爭。比如華為CloudMatrix 384叢集,與輝達GB200 NVL72叢集對比,實現了1.7倍的算力表現。這說明現在競爭進入了超大規模晶片叢集比拚階段。未來要通過數萬顆國產晶片高效協同,實現算力質變。2、 能不能超越?超越正在進行時,中國晶片正迎來關鍵的趕超窗口。未來主要從製程、光刻機、核心原料三大環節突破。製程。我們仍在成熟製程(28nm及以上)向先進製程(14nm、7nm及以下)的爬坡中,比如等效7nm工藝需依賴DUV多重曝光,良率與成本均需要提升。光刻機。全球90%以上的光刻機市場被荷蘭和日本佔據。艾斯摩爾市佔80%,佳能、尼康佔15%。用於7nm以下製程的高端EUV光刻機只有艾斯摩爾能生產,國產28nm DUV光刻機已經實現突破,等待EUV研發破局。原材料。高純度矽片、光刻膠、特種氣體等基礎原材料仍依賴進口。比如日本信越化學、JSR壟斷的ArF光刻膠等。未來需要更多工業積累和研究突破。中國晶片產業正快速崛起。華為、寒武紀等本土晶片品牌快速發展,IDC資料顯示AI加速卡市場國內廠家滲透率突破40%;中興通訊的5nm製程ASIC完成流片、中芯國際步入先進製程良率和產能突破期。長期看,國產晶片必然從“能用”跨越到“好用又便宜”,憑藉產業鏈、規模化和成本優勢,複製新能源汽車和太陽能的奇蹟。中國芯重構全球格局,只是時間問題。3、 AI不是風口,是海嘯我從美國考察回來提醒:AI不是風口,是海嘯。DeepSeekV4與八大國產GPU適配,更低算力成本、更頂級性能。 算力國產化加速,這是國產GPU全面崛起最好契機。 前期預測:2026年超級應用大爆發,中國力量崛起。AI的背後是算力,算力的背後是電力。這是我們這代人最重要的機遇,人生發財靠周期。 (澤平宏觀)
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