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RexAA
2026/08/24
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硬核分解:全球CPO領域EML器件海內外格局全梳理
隨著AI算力高速迭代,800G、1.6T光模組加速落地,CPO共封裝光學逐步從實驗室走向產業化。EML電吸收調製雷射器作為高速光互聯的核心光源,雖然主流CPO光引擎更多採用ELS‑CW外接連續雷射方案,但NPO近封裝、資料中心中長距互聯、OCS光交換系統依舊大量使用EML晶片,是算力網路不可缺少的核心器件。 2026年全球EML整體市場規模約16‑20億美元,全年總需求3.2‑3.8億顆,其中200G EML需求達到1.5億顆,高端200G以上產品國產化率不足5%,海外寡頭佔據絕大多數市場份額,國產廠商正加速完成客戶認證與產能爬坡。本文從海外龍頭格局、中國梯隊現狀、客戶供應鏈、產業矛盾與未來趨勢多維度展開分析。 一、全球海外寡頭格局:高度壟斷,長單鎖貨成為常態 全球高端100G‑200G EML市場,Lumentum、Coherent、住友電工三家合計佔據65%‑70%市場份額,全部擁有6英吋磷化銦InP IDM完整產線,覆蓋外延、晶圓加工、晶片封裝全流程,頭部雲廠商普遍採用2‑3年長單鎖定產能,高端晶片交期普遍拉長至12‑18個月。
科技
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#EML
#AI算力
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RexAA
2026/05/31
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光源權力轉移 EML 到 CW/ELS 源傑跟索爾思的位置在那?
AI 資料中心的光通訊升級,表面上看是從 800G 到 1.6T、3.2T、6.4T、12.8T 的速率迭代,實際上是一次更深層的架構遷移:光互連正在從前面板可插拔模組,逐步走向 LPO、NPO、CPO,最後進入 OIO。 速率只是結果,真正改變產業權力格局的是光源位置、調製器位置、製造平台與系統維修模式的變化。 在 800G/1.6T 時代,光源仍在光模組裡,EML 是核心。在 3.2T 時代,NPO 很可能成為 scale-up 與 scale-out 的主戰場。到 6.4T 時代,CPO 的必要性明顯提升,光源開始外接化。到 12.8T/OIO 時代,光源不再是模組內器件,而是系統級供光資源。 這條路線決定了光源行業的權力轉移,EML 時代是 InP IDM 的天下;CW/ELS 時代,純 CW 雷射器 IDM、Fabless、III-V Foundry、襯底、隔離器、TEC、透鏡與外接雷射模組供應鏈都被重新打開。
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