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北風窗
2026/09/16
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中國晶片團隊最新突破!
9月15日消息,據報導,中國科學院半導體研究所科研人員研製出一種新型“鐵電隧穿結”。利用原子層間僅埃米級的微小滑移,即可讓開關電阻相差約1900萬倍,並反覆開關超過1000億次,為開發更省電、更耐用的記憶體與存算一體晶片提供了新路徑! 據悉,鐵電隧穿結可看作一個微型“三明治”:上下兩層是電極,中間夾著一層極薄的鐵電材料。這層材料本為絕緣體,電子難以通過;但當厚度薄到一定程度後,電子就能像“穿牆”一樣隧穿而過。 同時,鐵電材料的極化方向可以翻轉,方向一變,這堵“牆”的高低也隨之改變:牆矮時電子容易通過、電流大,記作一種狀態;牆高時電子難以通過、電流小,記作另一種狀態。兩種狀態電阻差別越大,資料讀出就越準確。 然而,長期困擾學界的是,大電阻差與耐反覆讀寫往往難以兼得。傳統鐵電材料“力氣大”,能讓電阻差別很明顯,但反覆開關後容易“疲勞”,壽命有限。
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