晶片製造有新突破 6月5日，璞璘科技發佈消息稱，公司與深圳力策合作採用真空氣壓式奈米壓印方案實現8英吋光晶片量產突破：依託璞璘科技自主研發的PL-AS真空氣壓式晶圓級奈米壓印光刻裝置，配合定製化雙層壓印膠材料體系與核心工藝，完全繞開深紫外（DUV）光刻路線，成功實現8英吋光晶片晶圓可規模化量產，並將晶片製造成本壓縮至傳統DUV方案的十分之一。 璞璘科技是一家專注於奈米壓印裝置及材料研發的企業。公司官網顯示，2025年8月，其自主設計研發的首台PL-SR系列噴墨步進式奈米壓印裝置，順利通過驗收並交付至國內客戶，該裝置可對應線寬＜10nm的奈米壓印光刻工藝。 奈米壓印不用光學曝光，靠“奈米印章”物理壓印復刻奈米圖案，具有超高解析度、易量產、低成本、一致性高的技術優點，被認為是目前光刻技術替代方案之一。