第一、二、三、四代半導體材料各有利弊,在特定的應用場景中存在各自的比較優勢,但不可否認的是,中國在第一、二代半導體的發展中,無論是在宏觀層面的市場佔有率、企業佔位或在微觀層面的製備工藝、裝置製造等方面,中國與世界領先水準之間都存在著明顯的差距。
國內可能並且走在世界前沿的半導體材料或者能讓中國在半導體行業實現彎道超車並以此為契機助力中國經濟高品質發展的機會應該是對新型材料的研究與開拓,比如應用場景廣泛、波及產業眾多、產業佔位靠前的在功率、射頻等方面可以大放異彩的氧化鎵材料;其具備製備成本較低、相對環保、性價比更高、材料屬性優勢明顯、工藝製造精妙但成本相對較低優勢等特性。
在第三代半導體發展得如火如荼之際,氧化鎵、氮化鋁、鑽石等第四代半導體材料也開始受到關注。其中,氧化鎵( Ga2O3 )是國際普遍被關注並認可已開啟產業化的第四代半導體材料。
氧化鎵( Ga2O3 ) 在耐壓、電流、功率、損耗等維度都有其優勢,此前被用於光伏領域的應用,直到2012年開始,業內對它更大的期待是用於功率器件,全球80 %的研究單位都在朝該方向發展。