受國產光刻機取得重大技術突破的利多刺激，周三（9月18日），A股市場中的光刻機板塊大幅上揚，多隻股票強勢漲停。
近日，工信部發佈了《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》。該檔案顯示，在電子專用裝備目錄下，積體電路裝置方面：氟化氬光刻機，光源193納米，解析度≤65nm，套刻≤8nm，能夠支援28納米工藝晶片的量產。中國首台（套）重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機裝置、核心系統和關鍵零部件等。
這一進展意味著國產光刻機已經能夠實現65納米工藝的晶片生產，這是中國在半導體裝置領域的一個重要里程碑，也表明了中國在未來幾年內有可能達到國際先進水平的決心。
除了光刻機，工信部在印發的《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》中，還有多類積體電路生產裝備，包括硅外延爐、濕法清洗機、氧化爐、塗膠顯影機、高能離子注入機、低能離子注入機、電漿干法刻蝕機、特種金屬膜層刻蝕機、化學氣相沉積裝備、物理氣相沉積裝備、化學機械拋光機、雷射退火裝備、光學線寬量測裝備。
重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。通達信資料顯示，這一利多促使光刻機指數開盤暴漲3.26%，隨即迅速將最大漲幅擴展至3.88%。儘管受雙創板單邊下跌的影響，光刻機指數漲幅一度縮減至1.60%，不過截至收盤該板塊漲幅回升到2.57%，報1452.44點，成交金額144.87億元，較節前陡增65%。(半導體技術天地)