01 前沿導讀 據荷蘭半導體觀察者馬克·海金克在《新鹿特丹商報》發佈的新聞指出，華為正在推動晶片設計的技術進步，並且還通過開源指令集RISC-V進行晶片設計工作，嘗試用這種開源技術的方法繞過美國X86指令集以及英國ARM指令集的限制。 中國企業在晶片設計上面找到了可替代的技術方法，但是中國晶片最大的瓶頸是缺乏先進的平板印刷工具——EUV光刻機，這是一個尚未被中國企業找到替代方案的技術工具。

最近一段時間，一種關於中國光刻機的論調在自媒體平台反覆出現，傳播得相當廣。大意是說，等到國產光刻機真正做出來了，就應該賣成白菜價，不必指望它賺錢。理由也講得頗有章法：光刻機屬於產業基礎，跟供電、自來水、鐵路一樣，是國計民生的支撐，不該當作牟利工具；中國光刻機的投資方多是國資或者像華為這樣的產業鏈關聯方，他們本來要的就不是財務回報，而是解決卡脖子；低價進入市場可以一舉壓制ASML、尼康、佳能，讓對手賺不到錢，最後被迫退出。 這種論述在評論區和短影片裡非常有市場，因為它精準擊中了一種樸素的情緒：我們國家好不容易做出來的東西，當然要讓自己人用得起，最好還能順手幹掉對手。情緒沒錯，但產業是另一回事。如果真照這個邏輯去推國產光刻機的定價策略，最先受傷的恰恰是中國自己好不容易拼起來的本土供應鏈。 先從那個看似有力的類比說起。把光刻機比作供電、自來水，是整套論述裡最經不起推敲的地方。供電、自來水之所以可以幾十年不大幅漲價，是因為它們所依託的核心技術早在幾十年前就已經穩定下來。火電機組的熱效率從上世紀九十年代到今天，提升幅度有限；自來水的過濾、消毒、管網鋪設，本質上是一套成熟工藝的規模化複製。在一項成熟到幾乎不再有代差躍遷的技術上，把價格壓低、把利潤讓給下游，是合理的，因為它不需要繼續養一支昂貴的研發隊伍來維持自己的存在。 光刻機不是這樣的東西。

01 前沿導讀 據媒體報導指出，美國商務部長對ASML提出質疑，認為其違規出口給中國EUV光刻機。但該說法遭到了ASML的否定，並且ASML解釋稱EUV光刻機的體積大，產量有限且需要技術人員維護，從未向中國出口過相關產品和配件。 彭博行業研究的分析師對此指出，中國企業越來越有能力利用傳統工具製造更加先進的晶片，這種工程技術上面的進步是引起美國部門擔憂的真正原因，而並非是因為ASML在出口管制上面出現了疏漏。

AI不是風口，是海嘯。中國AI的機遇空間巨大，不是某幾家公司跑贏，而是從算力、儲存，到裝置、材料的全產業鏈崛起。 1、算力晶片：全力追趕 國產AI算力大突破。2025年國內AI加速卡總出貨400萬張，國產165萬張，國產滲透率40%。 輝達CUDA有二十年護城河，H200等產品領先，全球市佔率接近90%。

該方案能夠消除棘手的光學3D掩模效應，提升光刻解析度，以更低成本製造更小尺寸晶片。 從支撐新一代人工智慧的資料中心，到關鍵醫療裝置、汽車，以及移動裝置或電腦，基於半導體的晶片是現代生活不可或缺的核心器件。 隨著技術迭代、功耗需求持續攀升，科研人員致力於研發尺寸更小的晶片，這就需要在單奈米級尺度上完成精密電路設計。極紫外（EUV）光刻等技術為實現微型晶片開闢了新路徑，但該技術面臨巨大的物理、工程與成本難題，限制了現階段的落地與規模化量產。 沖繩科學技術大學院大學（OIST）的Tsumoru Shintake教授在《微納圖形、材料與計量期刊》發表研究，提出對高數值孔徑（高NA）極紫外光刻所使用的照明系統與投影物鏡進行顛覆性重構設計。模擬結果顯示，該方案能夠消除棘手的光學3D掩模效應，提升光刻解析度，相較現有極紫外工藝，以更低成本製造更小尺寸晶片。

晶片裝置製造商艾斯摩爾周五表示，從未向中國運送過極紫外（EUV）光刻機。此前有報導稱，美國官員擔心該公司最先進的裝置之一可能已經流入中國。 “ASML從未向中國運送過EUV光刻機，也從未向中國運送過任何專門設計用於EUV光刻機的元件、模組或裝置，”這家晶片製造商在發給路透社的電子郵件聲明中表示。 彭博新聞早前報導稱，美國商務部長霍華德·盧特尼克曾表示擔憂，ASML 的極紫外光刻（EUV）裝置可能違反美國主導的出口限制流入中國。 報告還指出，盧特尼克在一系列會議上向這家荷蘭公司的高層領導表達了這些擔憂。

中美高科技博弈的火焰，已直接燒向全球半導體裝置領域的“皇冠明珠”。據彭博社報導，美國商務部長霍華德·盧特尼克已在多次會面中，直接向荷蘭光刻機巨頭ASML高層表達強烈擔憂，懷疑該公司一款最尖端的極紫外（EUV）光刻機可能已違反出口管制，流入中國。這一指控將ASML置於“危機模式”，也令本已脆弱的美歐關係面臨新的壓力。 據知情人士透露，盧特尼克早在今年4月的一場會議中，就當面向ASML首席執行長克里斯托夫·富凱等高管提出了對EUV光刻機可能已進入中國的擔憂。EUV系統是台積電等晶圓代工廠為輝達、蘋果製造尖端處理器的核心裝置，自川普第一任期起，美國就已禁止ASML向中國出口此類裝置。然而，這場緊張的閉門會議在公開層面卻被刻意淡化。會後，盧特尼克與富凱均在其LinkedIn上以正面措辭形容會面，對EUV爭議隻字不提。 面對美方的嚴厲質疑，ASML隨即全力投入一場“證實一件不存在的事”的行動。公司在聲明中明確表示：“ASML從未向中國發運過EUV光刻機，也未向中國發運過任何專門設計用於EUV機器的元件、模組或裝置。”ASML列舉了多項技術理由來反駁美方質疑：目前全球共有314台EUV光刻機在運行，另有26台已退役，中國大陸境內的數量是“零”；每台EUV光刻機體積如同一輛校巴，重約180噸，且為限量生產；裝置需要ASML員工進行持續維護，系統能自動檢測任何中斷或異常行為；由於特殊操作規程，客戶“未經ASML參與，無法拆卸、運輸和重新安置EUV”。ASML首席執行長富凱在更早的採訪中也強調，公司已建立內部防火牆，能接觸EUV技術的員工與中國員工完全隔離，並指出逆向工程一台從未擁有過的機器幾乎不可能。 然而，美方官員聲稱他們掌握“敏感證據”，顯示ASML正向中國出口專門用於運輸EUV機器的特製裝置及相關零部件。但當媒體多次要求美方提供出貨證據時，官員均以涉及敏感情報源為由拒絕。美國商務部也未回應其是否掌握EUV系統已在中國境內的實質證據。彭博報導指出，ASML私下已進入“危機模式”，並起草了一份題為“無跡象表明中國境記憶體在任何ASML EUV”的檔案在華盛頓傳閱。

01. 前沿導讀 據英國《金融時報》刊登的新聞指出，歐洲舉行了一場桌面模擬演練，以此來推導未來產業發展可能會面臨的問題。ASML作為歐洲地區的明星企業，是全球唯一一家可以製造出商業化EUV光刻機的公司，所以一上來就被歐盟拿出來當做“籌碼”。 如果限制ASML光刻機的對華出口，是否會讓歐盟掌握主動權？ 該方案一提出來，就遭到了多個歐洲國家的反對。