ASML與IMEC攜手，High-NA EUV光刻機！

全球領先的光刻裝置供應商ASML與比利時微電子研究中心（Imec）本周宣佈建立為期五年的合作夥伴關係，旨在推動亞2奈米製程技術及高NA EUV晶片製造工具的開發。此次合作將使Imec的研究人員和開發人員能夠使用ASML的最新光刻技術，包括高NA（0.55數值孔徑光學）裝置，以加速下一代半導體製造技術的研發。

根據合作協議，Imec將獲得ASML全面的先進晶圓製造裝置，包括Twinscan NXT（DUV）、Twinscan NXE（低NA EUV，0.33數值孔徑光學）和Twinscan EXE（高NA EUV，0.55數值孔徑光學）光刻系統。此外，Imec還將整合ASML的YieldStar光學計量解決方案和HMI的單光束及多光束檢測工具，以提升其研發和生產效率。

這些裝置將安裝在Imec位於比利時魯汶的試驗生產線上，並納入歐盟和佛蘭德資助的NanoIC試驗生產線。ASML的最新裝置將用於開發下一代半導體生產技術，特別是2奈米以下的製造技術。據專家分析，為了在2奈米以下的製造節點上實現高效生產，光刻工具必須支援單次曝光的8奈米解析度，這一目標目前只有高NA EUV能夠實現。然而，每台高NA EUV系統的成本高達3.5億美元，這使得許多新進入者和研究人員難以獲取此類裝置。

此前，ASML和Imec的研究人員主要在荷蘭Veldhoven的ASML專用研究設施中使用高NA（0.55 NA EUV）光刻機。ASML在自己的工廠安裝了這些第一代高NA EUV機器，用於初始測試、評估以及與Imec和其他合作夥伴的合作研究。根據新的合作協議，Imec將在其位於比利時魯汶的研究線路中直接使用高NA裝置，特別是在其最先進的試驗設施和歐盟及佛蘭德資助的NanoIC試驗線路中。這標誌著Imec研究人員首次能夠在自己的設施中直接使用高NA EUV技術，從而顯著加快其研發進度。

此次合作是Imec在下一代7A項目（IPCEI22201）中的重要組成部分，該項目由荷蘭政府資助，旨在推動歐洲共同利益的重要項目（IPCEI）。Imec總裁兼首席執行官Luc Van den hove表示：“我們很高興能夠繼續與ASML建立長期獨特的合作夥伴關係，為行業提供30多年來最先進的模式解決方案。納入ASML的完整產品組合將使我們能夠擴大和進一步成熟我們的試點生產線能力，為整個半導體生態系統提供最先進的研發，以應對人工智慧驅動的技術進步的挑戰。鑑於Imec對可持續創新的高度重視，這一合作中的可持續性目標是一個很好的補充。”

此次ASML與Imec的合作不僅將加速亞2奈米製程技術的開發，還將為全球半導體產業提供重要的技術支援和創新動力。 (晶片行業)