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北風窗
昨天 13:10
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美智庫統計:中國晶圓廠落地 343 台 ASML 浸潤光刻機,270 台高端機型可長期支撐 7nm 製程
半導體行業消息顯示,美國智庫發佈的一份統計報告勾勒出國內光刻機存量格局:從 2012 年至 2026 年一季度,國內晶片製造企業累計引進了 343 台 ASML 浸潤式 DUV 光刻機。在這批裝置當中,超過 270 台屬於 NXT:1980i 型號,這類裝置既能穩定量產成熟工藝晶片,借助多重曝光技術,也能夠實現 7nm 等級晶片的生產,足以支撐先進製程晶片製造多年。 一場針對浸潤式 DUV 光刻機的管制收緊,正在半導體行業持續發酵。今年 4 月西方國家推出 MATCH 法案,目標直指 ASML 浸潤式光刻機。法案條款要求,禁止 ASML 繼續向國內 5 家重點晶片企業出售浸潤式光刻機,同時切斷裝置零部件供應與現場售後維修服務。法案還設定時限,要求 ASML 等相關企業在 150 天內按照美方制裁標準落實管控,否則美方將直接對企業實施管控。 如今 150 天的時限已經臨近到期,但 MATCH 法案後續落地的動作卻遲遲沒有新進展。荷蘭政府與 ASML 公司都公開表達了反對立場。在他們看來,這項法案違背全球半導體產業分工邏輯,管制權限本應由荷蘭自主決定,美方強行推動域外管制並不合理。 在此之前,EUV 光刻機早已被禁止對華銷售。失去中國市場,對於 ASML 而言只是少了一小部分高端客戶。而一旦浸潤式 DUV 光刻機也被納入禁售清單,影響範圍會急劇擴大,幾乎覆蓋 ASML 在中國的絕大多數客戶。
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戰略玩家Chasel
前天 08:31
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1014 台股盤前|外資重砍後,聚焦CPI與半導體財報
台股昨天重挫960.65點、收48,341.31點,外資賣超1,653.42億元,創史上第三大單日賣超。今天先觀察賣壓是否收斂,以及承接能否從金融、航運等少數族群擴散至電子股;昨日的資金分布,尚不能當成今日買盤延續的證據。 依盤前日報,隔夜費半下跌0.23%、連五日收黑,但輝達、AMD與博通收紅,美光及應用材料仍承壓。跌幅縮小之外,半導體內部的強弱差異仍大,是否回穩需要更多個股與後續量價確認。 今天事件焦點包括美國CPI與ASML財報,明天接續台積電法說。通膨影響利率預期與估值,企業財報則驗證訂單、需求和獲利,兩者須分別追蹤。ASML設備售價是否調整,也應等待公司正式說明。 記憶體的核心問題,是技術進展何時轉成實際供給。長鑫的新技術消息增加競爭疑慮,但產品推出、客戶認證與穩定量產各有不同門檻。後續應追蹤良率、出貨及新增產能,才能評估對報價與台廠獲利的影響。
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RexAA
2026/10/11
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光刻機的“上帝之眼”:為什麼全世界只有蔡司能做?
在半導體行業,ASML的光刻機是公認的“工業皇冠上的明珠”。一台EUV光刻機由幾十萬個零件組成,重達12噸,售價超過26億人民幣。但很多人不知道的是,這台“印鈔機”最核心的部件——光學系統,全球只有一家公司能造。 它叫蔡司(Zeiss)。 有人說:“德國可以沒有西門子,也可以沒有奔馳,但唯獨離不開蔡司。”這話一點也不誇張。全球約80%到90%的晶片,在生產過程中都使用了蔡司的光學元件。越是先進的晶片,越離不開蔡司的鏡頭。業內因此稱蔡司的鏡頭為光刻機中的 “上帝之眼”。 原子等級的精度:把誤差控制在3個矽原子直徑內
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RexAA
2026/10/10
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ASML:EUV光刻機十年計畫啟動!
據路透社報導,全球光刻機龍頭ASML正與其光學合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss)共同推進一項名為“Hyper NA”的十年期項目,旨在開發下一代晶片製造工具。該裝置預計可列印5奈米級的更小電路,同時將大量復用ASML與蔡司現有的技術系統。 Hyper NA的體積預計比ASML當前的高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機小三分之一以上,這意味著在同等產能下,裝置佔地面積將顯著縮減,為晶圓廠節省寶貴的潔淨室空間。知情人士透露,ASML已啟動相關技術的研發工作,但尚未對量產做出正式承諾,具體推進節奏將取決於公司內部調整、合作夥伴進展以及市場競爭態勢。 在技術路徑上,蔡司已開始製造精度足以滿足Hyper NA要求的反射鏡。其他在研的晶片製造工具也計畫採用更短波長的光源。由於更換光源方案意味著整個照明系統需要重新設計,ASML可能會沿用現有EUV光源技術,以降低開發風險和成本。 當前,晶片製造商正持續在設計、性能和能效方面最佳化半導體,聚焦更小的特徵尺寸以提升速度並降低功耗。在這一處理程序中,光刻技術始終是核心瓶頸。ASML的Hyper NA項目若成功落地,將為未來十年先進製程的持續微縮提供關鍵支撐。不過,從研發到量產,光刻裝置的商業化之路通常漫長且充滿不確定性,Hyper NA能否如期在約十年內面世,仍有待觀察。 (晶片行業)
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北風窗
2026/10/07
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華為:挑戰ASML光刻機!
中國半導體產業正以更大力度推進晶片製造裝置的國產化,華為處於這一努力的核心位置。面對美國及其盟友對先進半導體裝置的出口管制,華為正利用較老的深紫外(DUV)系統與本土新工程技術,試圖縮小與行業領先者的差距。這場裝置自主化的競賽,可能決定未來全球晶片工廠的控制權歸屬。 出口管制正在產生一種出人意料的激勵效應。據《南華早報》和Tom's Hardware報導,旨在限制中國獲取先進半導體裝置的措施,反而可能為本土製造商提供了強大的動力去建構替代方案。這並不意味著勝利近在眼前——半導體裝置以難以複製著稱,即便是單一先進光刻系統,也依賴精密光學、雷射器、軟體、機械以及數千個精心協調的元件,其複雜程度更像是一個微縮的工業生態系統。然而,壓力改變了優先順序。曾經依賴海外供應商的企業,如今有了更明確的商業理由投資國內替代方案,即便這些方案效率更低、成本更高、部署更慢。 極紫外(EUV)光刻是先進晶片生產中最耀眼的明星技術,它允許製造商印製極小的電路圖案,但系統需要對光、運動、真空條件、光學和污染控制進行非凡的掌控。ASML長期主導這一市場,專業供應商則提供關鍵元件和子系統。據《南華早報》援引的行業報導,從零開始重建這一網路極其困難,尤其是在出口限制之下。這種複雜性解釋了為何中國的進展很可能分階段到來:製造出一台能工作的裝置是一回事,使其吞吐量、可靠性、維護要求和生產成本達到商業標準則完全是另一回事。 在EUV系統不可獲得的情況下,中國晶片製造商繼續尋找方法拓展深紫外(DUV)裝置的能力。通過多重曝光、工藝調整和精心設計最佳化,較老的裝置能夠支援比許多觀察者此前預期更小的節點生產。Tom's Hardware和《南華早報》的報導將這一路徑與中國在7奈米等級生產晶片的努力聯絡起來。這並不意味著DUV等同於EUV——它可能需要更多工藝步驟、消耗更多時間並提高成本,但當最新裝置無法購買時,它提供了一條實際可行的路線。對消費者而言,重要的一點是:技術進步並不總是通過向最新機器的乾淨跨越來實現,有時它來自耐心的工程、巧妙的變通,以及工廠學會從並非為此設計的工具中搾取更多價值。
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RexAA
2026/10/06
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日媒:中企正努力開發國產光刻技術,但目前仍需依靠囤積的ASML裝置造晶片,這些裝置為國產突破爭取時間
01 前沿導讀 《日經亞洲》此前針對“中國能造出自己的ASML嗎?”這個問題進行長篇報導,報導認為中國企業正全力以赴開發中國國產光刻裝置,但是短期內仍需要通過購買ASML光刻機來製造晶片。 取得中國國產技術突破需要時間,而晶圓廠手中掌握著大量ASML成熟的製造裝置,這顯然為中國企業的突破贏得了時間。 02 技術整合
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小小天下
2026/09/27
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歐洲半導體投資冷清,上半年ASML在歐洲的營收佔比竟然為 0%!
根據外媒 Tom’ s Hardware 報導,荷蘭半導體裝置大廠 ASML 雖然是歐洲市值最高的企業之一,但今年上半年在歐洲的營收佔比竟降至 0%。ASML 高層直言,問題不在ASML的裝置沒有競爭力,而是因為歐洲缺乏足夠的半導體投資與晶圓廠需求。 ASML 全球公共事務執行副總裁 Frank Heemskerk 日前在荷蘭一場活動中表示,「我們在歐洲完全沒有銷售」,原因在於歐洲沒有投入足夠資金,也沒有足夠多的新晶圓廠正在興建。他指出,歐洲目前最大的問題是市場沒有形成對這類高度專業化半導體裝置的需求。 根據 ASML 財報,歐洲佔公司營收比重從 2022 年的 2%、2023 年的 4%,降至 2024 年的 5%、2025 年的 1%;而到了 2026 年前兩季,歐洲營收佔比已降至 0%。相較之下,ASML 當前真正的成長動能主要來自 AI 帶動的先進邏輯與記憶體投資。 這也顯示,AI 熱潮正推動台灣、韓國、美國、日本等地積極擴建晶圓廠,ASML 的 EUV 與高數值孔徑 EUV(High-NA EUV)裝置供不應求,但作為 ASML 所在地的歐洲,卻沒有成為這波先進製程投資的主要目的地。
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RexAA
2026/09/22
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中國自己造不出晶片?美智庫預言,ASML: 閉嘴吧,別再“逼”中國了
幾年前,海外一家知名智庫曾經下過一個很篤定的判斷:離開了歐美日整套半導體裝置與材料,中國的先進晶片製造會被死死困在14nm這道門檻,很難再往前走。 在當時不少西方業內人士的設想當中,半導體是集結多國幾十年工業積澱才結出來的果實。只要把高端光刻機、特種材料這幾個關鍵閥門一關,我們的先進製程發展就會原地踩下剎車。誰也沒有想到,短短幾年過後,事情的發展完全跳出了原先的預判。 就連光刻機大廠ASML的高管也公開發出提醒,出口管制並沒有停下中國技術迭代的腳步,反倒倒逼本土產業鏈拚命補齊短板。長此以往,西方企業很有可能就此丟掉這塊體量巨大的中國市場。 從智庫言之鑿鑿的“停滯預言”,再到裝置廠商開始憂心自己的生意,這場晶片博弈的走向,確實出乎很多人的意料。
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