#ASML
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半導體行業消息顯示,美國智庫發佈的一份統計報告勾勒出國內光刻機存量格局:從 2012 年至 2026 年一季度,國內晶片製造企業累計引進了 343 台 ASML 浸潤式 DUV 光刻機。在這批裝置當中,超過 270 台屬於 NXT:1980i 型號,這類裝置既能穩定量產成熟工藝晶片,借助多重曝光技術,也能夠實現 7nm 等級晶片的生產,足以支撐先進製程晶片製造多年。 一場針對浸潤式 DUV 光刻機的管制收緊,正在半導體行業持續發酵。今年 4 月西方國家推出 MATCH 法案,目標直指 ASML 浸潤式光刻機。法案條款要求,禁止 ASML 繼續向國內 5 家重點晶片企業出售浸潤式光刻機,同時切斷裝置零部件供應與現場售後維修服務。法案還設定時限,要求 ASML 等相關企業在 150 天內按照美方制裁標準落實管控,否則美方將直接對企業實施管控。 如今 150 天的時限已經臨近到期,但 MATCH 法案後續落地的動作卻遲遲沒有新進展。荷蘭政府與 ASML 公司都公開表達了反對立場。在他們看來,這項法案違背全球半導體產業分工邏輯,管制權限本應由荷蘭自主決定,美方強行推動域外管制並不合理。 在此之前,EUV 光刻機早已被禁止對華銷售。失去中國市場,對於 ASML 而言只是少了一小部分高端客戶。而一旦浸潤式 DUV 光刻機也被納入禁售清單,影響範圍會急劇擴大,幾乎覆蓋 ASML 在中國的絕大多數客戶。
美智庫統計:中國晶圓廠落地 343 台 ASML 浸潤光刻機,270 台高端機型可長期支撐 7nm 製程
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據路透社報導,全球光刻機龍頭ASML正與其光學合作夥伴卡爾蔡司(Carl Zeiss)共同推進一項名為“Hyper NA”的十年期項目,旨在開發下一代晶片製造工具。該裝置預計可列印5奈米級的更小電路,同時將大量復用ASML與蔡司現有的技術系統。 Hyper NA的體積預計比ASML當前的高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機小三分之一以上,這意味著在同等產能下,裝置佔地面積將顯著縮減,為晶圓廠節省寶貴的潔淨室空間。知情人士透露,ASML已啟動相關技術的研發工作,但尚未對量產做出正式承諾,具體推進節奏將取決於公司內部調整、合作夥伴進展以及市場競爭態勢。 在技術路徑上,蔡司已開始製造精度足以滿足Hyper NA要求的反射鏡。其他在研的晶片製造工具也計畫採用更短波長的光源。由於更換光源方案意味著整個照明系統需要重新設計,ASML可能會沿用現有EUV光源技術,以降低開發風險和成本。 當前,晶片製造商正持續在設計、性能和能效方面最佳化半導體,聚焦更小的特徵尺寸以提升速度並降低功耗。在這一處理程序中,光刻技術始終是核心瓶頸。ASML的Hyper NA項目若成功落地,將為未來十年先進製程的持續微縮提供關鍵支撐。不過,從研發到量產,光刻裝置的商業化之路通常漫長且充滿不確定性,Hyper NA能否如期在約十年內面世,仍有待觀察。 (晶片行業)
ASML:EUV光刻機十年計畫啟動!
中國半導體產業正以更大力度推進晶片製造裝置的國產化,華為處於這一努力的核心位置。面對美國及其盟友對先進半導體裝置的出口管制,華為正利用較老的深紫外(DUV)系統與本土新工程技術,試圖縮小與行業領先者的差距。這場裝置自主化的競賽,可能決定未來全球晶片工廠的控制權歸屬。 出口管制正在產生一種出人意料的激勵效應。據《南華早報》和Tom's Hardware報導,旨在限制中國獲取先進半導體裝置的措施,反而可能為本土製造商提供了強大的動力去建構替代方案。這並不意味著勝利近在眼前——半導體裝置以難以複製著稱,即便是單一先進光刻系統,也依賴精密光學、雷射器、軟體、機械以及數千個精心協調的元件,其複雜程度更像是一個微縮的工業生態系統。然而,壓力改變了優先順序。曾經依賴海外供應商的企業,如今有了更明確的商業理由投資國內替代方案,即便這些方案效率更低、成本更高、部署更慢。 極紫外(EUV)光刻是先進晶片生產中最耀眼的明星技術,它允許製造商印製極小的電路圖案,但系統需要對光、運動、真空條件、光學和污染控制進行非凡的掌控。ASML長期主導這一市場,專業供應商則提供關鍵元件和子系統。據《南華早報》援引的行業報導,從零開始重建這一網路極其困難,尤其是在出口限制之下。這種複雜性解釋了為何中國的進展很可能分階段到來:製造出一台能工作的裝置是一回事,使其吞吐量、可靠性、維護要求和生產成本達到商業標準則完全是另一回事。 在EUV系統不可獲得的情況下,中國晶片製造商繼續尋找方法拓展深紫外(DUV)裝置的能力。通過多重曝光、工藝調整和精心設計最佳化,較老的裝置能夠支援比許多觀察者此前預期更小的節點生產。Tom's Hardware和《南華早報》的報導將這一路徑與中國在7奈米等級生產晶片的努力聯絡起來。這並不意味著DUV等同於EUV——它可能需要更多工藝步驟、消耗更多時間並提高成本,但當最新裝置無法購買時,它提供了一條實際可行的路線。對消費者而言,重要的一點是:技術進步並不總是通過向最新機器的乾淨跨越來實現,有時它來自耐心的工程、巧妙的變通,以及工廠學會從並非為此設計的工具中搾取更多價值。
華為:挑戰ASML光刻機!