分享ASML與其他團隊在 2026 年 SPIE 先進光刻會議發表的 EUV 光刻模擬研究報告，聚焦高 NA、超高 NA EUV 場景下3D 掩模（M3D） 相對傳統基爾霍夫（KH）理想掩模的成像增益。 報告主要內容 一、研究基礎：兩種掩模建模體系 基爾霍夫（KH）理想掩模模型：

艾司摩爾（ASML）於 2026 年 7 月 15 日公布了其 2026 年 Q2 營運成果，營收為 93.27 億歐元，優於分析師預測的 89.33 億歐元，淨利為 29.18 億歐元，超過市場預期的 26.63 億歐元，財報發布後，股價小幅上漲 2.23%。 執行長 Christophe Fouquet 表示，人工智慧相關領域的持續投資和技術的持續發展推動先進邏輯和儲存晶片需求飆升，我們的客戶在不斷的擴產，這推動艾司摩爾產品組合的銷售成長。 基於強勁成長動能，公司預計未來兩年的產能將持續成長； 2026 年 Q2 營收為 93.26 億歐元，年增 21.3%；

里昂發表報告指，儘管ASML(ASML.US)和台積電(TSM.US)公佈了極為強勁的2026年第二季財報並給出樂觀的指引，全球半導體股票仍持續承壓。費城半導體指數已自6月的高點回落20%，而韓國記憶體大廠三星電子與SK海力士則分別重挫30%及37%。市場主要擔憂AI資本支出的可持續性，加上近期有報導指出如Kimi 3等中國AI模型正以更低成本快速縮小與美國頂尖模型的效能差距，這可能影響對算力及記憶體的需求。 里昂對2027年雲端超大型業者的資本支出保持看好，並認為該行預測的31%增長率(達到1.1兆美元)仍有上行空間。該行認為AI模型之間加劇的競爭最終對AI需求是利多——正如過去所見，模型效率的提升與成本的下降，應能推動AI更廣泛的採用並擴展其應用場景。 該行重申予SK海力士(000660.KS)韓股「高度確信跑贏大市」評級，目標價370萬韓圜，重申予三星電子(005930.KS)及美光(MU.US)「跑贏大市」評級，目標價分別54萬韓圜及1,700美元。 (AASTOCKS)

高盛交易台把當日TMT焦點放在TSMC資本開支上調、ASML業績後的倉位波動和CXMT上市帶來的流動性影響。TSMC把2026年資本開支提高至 600億—640億美元，明顯高於此前520億—560億美元，並表示未來三年資本開支將顯著超過過去三年。先進節點、CoWoS和2nm擴產仍是主要投向；ASML業績與指引強勁，但擁擠倉位使裝置和記憶體類股在利多兌現後出現波動。高盛仍較青睞CPU、ASIC、記憶體晶片與半導體裝置等細分方向，認為這些領域能更直接受益於AI基礎設施建設。 一、半導體市場情緒 高盛於2026年7月16日台積電（TSMC）第二季度法說會後發佈研究報告，核心圍繞三個相互關聯的事件展開分析：台積電資本開支的大幅上調、ASML裝置訂單的潛在拉動效應、以及CXMT（長鑫記憶體）IPO所反映的半導體市場情緒。 高盛將台積電（2330.TW）目標價由3,000元新台幣上調至3,100元新台幣，ADR目標價由550美元上調至600美元，重申"買入"評級。與此同時，高盛將ASML的12個月目標價由1,770歐元上調至2,000歐元，維持"買入"評級。

大摩將ASML本次業績的核心增量放在毛利率改善提前、Low-NA EUV產能確認和浸沒式裝置同步擴張。先進邏輯/晶圓代工與DRAM訂單佔比約 51%/49%，需求結構較均衡。公司預計2027年底Low-NA EUV產能約90台，2028年約110台，且這一數字尚未計入新園區的潛在增量；新一代裝置的單台生產率提升還會放大有效產能。 一、核心綜述 1. 報告背景 7 月 15 日 ASML 披露 Q2 財報，營收、毛利率、全年指引全面大幅超預期；摩根士丹利 7 月 16 日緊急發佈深度跟蹤報告，核心結論：ASML 高毛利率中樞（55% 區間）落地時間較此前模型預判提前整整 1 年，景氣周期盈利彈性被市場嚴重低估。

半年內兩次上調指引。 半導體股票正在降溫，而半導體裝置訂單仍在瘋漲。 過去不到一個月，全球晶片股指數費城半導體指數從6月22日的歷史高點回撤約16%，7月15日當天再跌2.08%。與類股的普遍調整形成反差，光刻機巨頭艾斯摩爾在同一天交出了一份明顯超出預期的財報： 2026年Q2收入93.26億歐元，同比增長21%；

全球光刻機巨頭ASML正計畫上調其晶片製造裝置的價格，此舉可能使其與最大客戶台積電之間的矛盾公開化。據科技媒體《The Information》援引知情人士報導，ASML近期已與台積電討論提高極紫外（EUV）光刻系統的價格，同時已告知部分客戶，計畫將深紫外（DUV）光刻裝置的價格上調約10%。面對ASML的漲價計畫，台積電已明確表達反對意見並開始抵制。 這場價格博弈的核心，是ASML對其“價值定價”模式的重新詮釋。長期以來，ASML的定價與裝置的生產效率（即每小時處理的晶圓數量）強相關。但如今，公司希望將定價邏輯擴展至更廣泛的價值維度。 “我們一直在不斷提升低數值孔徑（Low NA）光刻機的生產效率，這自然為未來潛在的提價提供了相當大的空間。”ASML首席財務官Roger Dassen在7月15日的業績電話會上表示。他進一步指出，除了生產效率的提升，公司還希望為“更好的成像質量、更優的套刻精度”等非產出方面的優勢收取費用。 此番漲價的底氣，源於AI浪潮引爆的半導體裝置需求。ASML的EUV光刻機是生產先進製程晶片不可或缺的核心裝置，而公司在該領域擁有事實上的壟斷地位。RBC Capital Markets分析師指出，台積電、三星電子和SK海力士等主要客戶業績強勁，當前市場環境“已具備漲價條件”。

高盛把ASML本次業績增量放在訂單可見度和製造能力擴張，而不只是單季超預期。二季度收入約 93.27億歐元，較一致預期高6%，營業利潤高13%；公司把2026年收入指引上調至 430—450億歐元，毛利率指引升至54%—56%。AI推動先進邏輯與儲存同步擴產，EUV、浸沒式DUV和安裝基礎服務均獲得上修，2027—2028年產能準備已提前啟動。 一、二季度業績綜述：全面超預期 2026年7月15日，ASML公佈二季度財報，核心財務指標全面超出市場預期： 從業務結構看，二季度裝置收入65.64億歐元，裝機售後服務27.62億歐元。邏輯晶片與儲存晶片營收佔比分別為51%和49%。本季度共交付16台EUV系統（營收佔比57%）和23台ArFi浸沒式系統（營收佔比29%）。