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俄羅斯成功研發：350奈米光刻機裝置！
俄羅斯澤列諾格勒奈米技術中心（ZNTC）和白俄羅斯Planar公司合作完成了俄羅斯首個能夠支援350奈米級工藝技術（0.35微米）的光刻系統的開發。這一成果標誌著俄羅斯在半導體製造裝置領域邁出了重要一步，儘管該系統的設計已經過時了幾十年，但其完成仍具有重要的象徵意義。
該光刻系統已經通過了官方檢查，並正在澤列諾格勒進行整合試驗。ZNTC和Planar公司一年前正式推出了這台基於固態雷射器的200毫米光刻機，其曝光場尺寸為22毫米×22毫米（484平方毫米）。儘管ZNTC和Planar沒有透露該工具的關鍵技術細節，包括雷射波長或雷射發射功率，但該公司表示，它使用了一種節能的“固態”雷射器，發射範圍“更窄”，使用壽命更長。
固態雷射器在半導體製造中廣泛應用，但主要用於輔助角色，如晶圓檢查、缺陷分析、標記和微加工過程，包括晶圓切割或修剪元件。在主要光刻曝光的先進節點中，固態雷射器並不常用。相反，ASML等領先晶圓廠工具製造商通常使用汞弧燈、KrF（氟化氪）或ArF（氟化氬）雷射器。
對於350奈米及更先進的工藝技術，ASML的i-line步進機使用波長為365奈米的汞弧燈（405奈米和436奈米較少見）。對於250奈米及更先進的節點，ASML使用了波長為248奈米的KrF雷射器。從130奈米節點開始，ASML的深紫外光刻系統使用了193奈米波長的ArF雷射器。
儘管ZNTC的光刻機在技術上已經過時，但其完成仍具有重要的象徵意義，表明俄羅斯在半導體製造裝置領域具備一定的研發能力。然而，ZNTC是否能夠批次生產這些光刻機仍不確定。未來，俄羅斯在半導體製造裝置領域的進一步發展將取決於其能否在更先進的工藝技術上取得突破，並與國際領先水平接軌。