華為常務董事：我們能解決7nm就已經很好了，5nm現在肯定不行，但是我們要走另一條發展路線

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前沿導讀

華為公司常務董事、華為雲CEO張平安先生在中國移動算力網絡大會上面表示：

高製程的光刻機是不被允許進口到中國的，那中國想要生產出高性能的晶片，直接用ASML的EUV光刻機這條路是行不通的。我們能解決7nm就已經非常非常好了，5nm和3nm一定也得不到。

那未來我們的創新方向，不應該在單點的晶片製程上，應該在系統架構上。充分發揮我們能源的能力，我們希望用空間、用頻寬、用能源，來換取中國在晶片上面的缺陷。

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設備封鎖

美國在2020年對荷蘭政府施壓，封鎖了EUV光刻機的對華出口。從2020年開始，中國大陸的任何晶片企業均不能獲得來自於ASML的EUV設備，包括韓國企業在中國大陸建設的合資工廠。

晶片製造涉及的產業鏈眾多，其核心的製造設備包括了光刻機、刻蝕機、離子注入機等九大高精度設備，缺少其中的任何一種，都是無法完成製造的。中國企業在後端設備上方具有較強的自主可控性，但是在前端的光刻機產業上，有明顯的短板。

已公佈的國產光刻機，最先進的設備為乾式技術，其鏡頭解析度為65nm，無法製造7nm及以下的先進晶片。

晶片的研發費用與製程製程的發展呈指數級增長，根據台積電在媒體平台表示，28nm晶片的整體研發費用在5000萬美元以上，14nm是1億美元，7nm是2.9億美元，5nm是5億美元，3nm晶片的成本將近10億美元。

在7nm及以下製程的晶片當中，單是光刻機這項設備的採購價格，就來到了1.2億美元左右。設備越先進，其整體的售價就會越高。

以上的價格也只是產品在量產商用階段的價格，具有一定的供應鏈優勢。如果只說設備研發的資金投入，那麼這個數值就是一個天文數字。

光是為了解決鏡頭問題，ASML就花了20億美元的資金入股了德國蔡司公司。從EUV技術開始立項，到EUV光刻機正式投入生產線製造晶片，總共花了20餘年的時間。

解決光刻機被卡脖子的問題，不僅需要大量的人力和財力的投入，還需要長時間的技術磨合，無法在短短幾年內完成整體的設備開發並進入商用階段。

張平安先生對於當下的情況有一個清晰的認知思路，中國在晶片製程製程的發展上面需要打持久戰，不能急於求成。

既然晶片的硬體水平暫時封鎖在7nm節點，那麼就可以在系統架構上面進行調整。讓晶片內部的設計架構與產品的系統最佳化相匹配，實現效能與能源效率的雙重進步。

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產業推動

為了推動中國晶片產業全方位發展，中國國家部門針對於特定的企業實施稅收優惠政策。

其中包括了負責28nm以上，及28nm以下晶片製造的代工企業、記憶體企業、先進封裝企業、在關鍵原料以及零配件上面生產製造的企業。

這些企業基本上涵蓋了晶片產業鏈的所有環節，只要涉及這些環節研發的企業，在符合國家要求的情況下，透過國家部門的審核，可以獲得專門的政策扶持。

參考資料：國稅局政策法規庫

https://fgk.chinatax.gov.cn/zcfgk/c100013/c5239410/content.html

這種在政策層面對相關企業的特殊扶持，也展現出國家對於掌握自主可控晶片技術的決心以及自信心。

依靠晶片技術的發展，現在又爆發了ai產業。

ai產業是當下國際技術競爭的核心產業，不只是涉及高算力的晶片，還需要涉及電力供應、基礎建設、大規模的民用市場等多個環節。

美國禁止中國企業取得來自於輝達的算力晶片，但是在中國企業推出多款ai晶片後，美國又宣布允許輝達將中國特供版的H20晶片銷售給中國，搶佔中國市場，壓制中國本土ai晶片的使用率。

同時，美國宣布大搞電力設施的基礎產業。美國在這​​些年當中建造了不少用於人工智慧領域的資料中心，這些資料中心已經對美國本土的電力供應造成了極大負擔，甚至影響了美國群眾的日常生活。

而中國的基礎建設完善，電力供應穩定，最關鍵的是中國地域遼闊，並且綠色資源豐富，可以滿足科技產業的用電需求。這也對應了張平安先生所說的，用能源換取中國在晶片上面的缺陷。(逍遙漠)