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在全球半導體產業博弈持續升溫的背景下,《晶片戰爭》作者、美國塔夫茨大學知名副教授克里斯·米勒發佈最新行業研判。他公開表示,美國多年推行的對華晶片出口管制政策收效顯著,成功遏制了中國先進製程晶片的量產升級速度。同時他警示,一旦中國企業徹底攻克EUV光刻機技術瓶頸,國內半導體產業將迎來質變,迅速躋身全球頂尖先進晶片生產行列,徹底改寫當下的全球晶片產業格局。 結合行業公開資料與產業現狀來看,當前全球高端AI晶片產能高度集中,台積電獨佔全球約95%的市場份額,壟斷優勢無可撼動。而受制於EUV光刻機禁運政策,國內晶片企業無法依託頂級裝置推進7nm及以下先進製程的規模化量產,只能依靠DUV光刻機疊加多重工藝技術攻堅先進晶片製造,最終在產能規模、生產成本、量產良率三大核心維度全面處於劣勢。米勒直言,倘若美國早年未出台EUV對華禁運規則,放任ASML向中國交付訂購的EUV裝置,如今全球先進晶片的產能佈局、市場格局早已截然不同,中國早已成為全球核心的高端晶片生產大國。 技術封鎖核心:EUV禁運鎖死先進製程升級路徑 克里斯·米勒所著的《晶片戰爭》是全球半導體產業博弈領域的權威著作,曾被國內中紀委網站推薦研讀,書中對全球晶片競爭、技術壁壘、地緣博弈的分析極具參考價值,精準剖析了ASML與全球晶片格局的深度繫結關係。原本僅專注於裝置研發製造的荷蘭ASML,在中美半導體競爭白熱化後,一躍成為左右全球晶片產業走向的核心企業,其EUV光刻機更是成為西方遏制中國半導體升級的核心抓手。
美晶片專家研判:對華晶片管製成效顯著,可一旦讓中企解決EUV問題,中國會成為全球最大的先進晶片生產國之一
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近期據韓國《首爾經濟日報》報導,輝達正在深度評估玻璃基板作為下一代AI大算力晶片的核心封裝基材,聯合德國裝置廠商SCHMID開展裝置與工藝聯合開發,同時向日韓以及台灣地區基板供應商提出明確的時間節點,要求產業鏈力爭在兩年內完成產品開發與可靠性驗證,目標在2028年實現玻璃基板在高端AI晶片領域匯入量產。這標誌著玻璃基板已經從實驗室研發階段,正式進入頭部晶片企業的產業化推進周期。 隨著大模型訓練、生成式AI對算力的需求持續爆發,現有有機封裝基板逐漸遇到物理性能天花板。大尺寸GPU需要整合更多HBM視訊記憶體單元,傳統有機基板存在翹曲變形、高頻訊號損耗大、耐熱性能不足等短板,制約單顆晶片整合規模進一步提升。玻璃基板憑藉低熱膨脹係數、高平整度、優異高頻介電特性,能夠支援更高密度布線與更多HBM堆疊,理論上可以提升晶片傳輸速度,降低訊號功耗,被行業視作下一代先進封裝重要解決方案。 為打通整條供應鏈,輝達不再侷限於晶片設計環節,向上游材料、裝置端深度滲透。除和SCHMID協同開發TGV(玻璃通孔)配套生產裝置外,輝達今年5月已經和玻璃材料巨頭康寧達成最高27億美元長期戰略合作協議,鎖定光學及玻璃相關產能,康寧將在美國新建三座製造工廠,把光互聯相關產能擴大十倍,專門面向超大規模AI資料中心供貨。同時,輝達高管此前與韓國SK集團高層會晤,就玻璃基板供應鏈建設開展溝通,多方聯動完善全球供給體系。 德國SCHMID在財報溝通會上對外披露,除輝達之外,公司同步對接英特爾、AMD等多家國際晶片巨頭供應鏈。但項目推進過程中,TGV玻璃通孔金屬化填銅工藝成為當前最大技術卡點,終端客戶產品認證工作尚未完成。玻璃本身屬於絕緣材料,微米級微孔內部要完成種子層沉積、電鍍填銅,很容易出現孔口提前封閉、孔內空洞、銅層與玻璃介面剝離等缺陷,大尺寸基板下良率提升難度很高,直接阻礙商業化落地進度。
輝達Nvidia向產業鏈施壓,加速AI晶片玻璃基板技術落地