01
前沿導讀
根據《日經亞洲》所發布的新聞報導稱,中國到底能否製造出屬於自己國家的ASML?
針對這個問題,引業內人士的分析指出,美國官員對於中國晶片實力的認知顯得過於天真,中國多年前就已經囤積了許多來自於ASML的製造設備,因此不怕美國的製裁。這些設備為中國企業創造了機會,讓中國企業有足夠的時間研究發光刻機技術。
02
設備限制
對於除美國企業以外的其他國際供應商,美國設置了最低限度的設備出口條例。依靠該條例,美國可以對其他國家的晶片供應商實施長臂管轄,一旦這些供應商的設備中使用了特定比例的美國技術,美國商務部就可以對整個設備的出口進行封鎖。
這個最低限度通常設定為含有25%的美國技術,而ASML的EUV光刻機中所使用的技術大約90%都來自歐洲,所以EUV光刻機在明面上並不符合美國最低限度的出口限制。
但是EUV光刻機的部分光源製造需要依靠美國聖迭戈的企業完成,這也給了美國收緊出口管制條例的理由。
中國企業在2018年向ASML訂購了一台EUV光刻機,這台設備在國際層面是合法合規的採購訂單,但是美國以國家安全為由,禁止ASML向中國交付這台具有美國企業參與的先進設備。 2020年,荷蘭政府迫於美國政府的壓力,撤銷了ASML向中國企業交付產品的許可。
從2020年開始,中國企業便不再被允許取得ASML的EUV設備。就算是韓國SK海力士在中國無錫的合資工廠,依然不被允許取得該設備。
雖然先進光刻機被封鎖了,但是中國企業還可以訂購到比EUV差一點的浸潤式DUV光刻機。
根據ASML財務長羅傑·達森在2024年所發布的2023年財報數據顯示,2023年ASML的中國區銷售業務強勁,公司向中國企業交付了許多未被美國限制的DUV光刻機,這些光刻機大多數都是中國企業在2023之前大量採購的產品。
這些來自於ASML的DUV光刻機被中國企業應用到了成熟晶片的製造當中,但是中國企業卻拿著這些設備造出來了先進晶片。
於是美國再次收緊制裁條例,ASML在未來將不會被允許將先進的浸潤式光刻機,如NXT:2000i及以上的設備交付給中國大陸企業,甚至中國大陸的部分先進工廠還無法獲得NXT:1970i和NXT:1980i這兩個水平更差一些的設備。
03
突破制裁
根據ASML前CEO彼得·溫寧克在接受採訪時表示,美國對中國的製裁,讓ASML失去了一個潛在的成長市場,這對ASML來說是一個較嚴重的打擊。
美國不僅切斷了荷蘭與中國的合作,美國政府也藉此大力推動本土技術的發展,利用貿易份額從中獲利,試圖將中美之間的晶片差距進一步拉大。
雖然EUV設備已經被完全封鎖,但是中國企業依然可以使用上一代的浸潤式設備透過多重曝光的技術製造更先進的晶片。這就好比一台印刷機,要在初版行間的空白處再次印刷額外的文字,使頁面上面的內容翻倍。
這種技術需要更先進的沉積設備以及蝕刻設備進行輔助,恰好中國企業在這些後端製造設備領域具有極強自主研發能力,北方華創、中微半導體、盛美半導體均開發出來了自主可控的後端製造設備。
甚至中微半導體製造的國產先進蝕刻機,已被台積電採購過去投入5nm及以下的晶片製造。
至於技術難度更加困難的先進光刻機設備,中國企業也已經早就開始了技術攻堅,目前還未正式公佈國產浸潤式光刻機的相關資訊。
ASML技術長馬丁、首席策略長範霍特曾經在2018年與2019年訪華,對中國的上海微電子公司進行技術存取。兩人在訪問中發現,雖然中國的光刻機產業所能拿出來的產品有限,並且技術水平落後,但是中國團隊正在想辦法攻克更先進的浸潤式技術和極紫外光技術。
中國企業早已經進行了兩手準備,一來是在有限的時間內從ASML採購大量的設備,以此來確保中國企業擁有足夠多的設備去製造晶片,不斷提昇團隊在製造設備上面的技術經驗。二來是聚集力量攻克先進的設備技術,中國企業手上的ASML設備,成為了他們技術破局的關鍵。
ASML早已經與中國企業簽訂合約,不會將先進的技術方法告知中國企業,只授權給中國企業使用設備的權利。但是中國團隊的實力到底有多強,沒有人知道,他們很可能在使用設備的過程中,將核心技術推導出來。(逍遙漠)