根據上海微電子公司的負責人賀榮明先生,在先進事蹟的報告會中表示:
當我提出我們中國人要做自己光刻機的時候,那種外國專家的眼神除了敬仰,多多少少帶有對我們科技人員的不屑和蔑視。甚至有歐洲的高級專家,非常嚴肅地丟給我一句話,中國人要做光刻機,就是給你們全套圖紙,你們也做不出來。
世界工業看歐洲,歐洲工業看德國。德國孕育了梅賽德斯奔馳、巴伐利亞發動機製造廠以及奧迪這三大頂級的豪華汽車品牌,並且還同時擁有被譽為“上帝左手”和“上帝之眼”的西門子和蔡司。
連工業實力如此強大的德國都沒有製造出光刻機,中國企業到底哪來的勇氣去研發光刻機?
賀榮明先生在談到我國光刻機業務時,用「不堪回首」四個字來概括曾經國產光刻機的技術研發時期。
2002年,上海微電子公司剛成立的時候,我們沒有充足的人才團隊,沒有完善的技術積累,也沒有配套的產業供應鏈。
賀榮明先生帶領自家的技術團隊去找歐美國家商談合作,但是歐美企業對於中國人造光刻機這件事持懷疑態度,並且其認為光刻機設備是高精度設備,產業技術一直被美國、荷蘭、日本這三個國家把控,中國想要在這三個國家的競爭當中成為第四股力量,無異於是說笑話。
賀榮明先生在大會中表示,在受到歐美企業的冷眼之後,自己和團隊的自尊心受到了極大損傷,同時整個研發團隊也非常不服氣。在回國之後的很長一段時間內,技術團隊都是帶著一種賭氣的心思在發展產業技術,這也為後續中國光刻機的成功點燃了火種。
2007年,上海微電子公司成功將光刻機的第一束光源曝光了出來。
2009年,首台國產光刻機的樣機製造完成,實現了國產設備的製造大躍遷。
上海微電子公司開發的第一款國產曝光機是SSB200系列,主要應用於AMOLED和LCD顯示器的製造。隨後又開發了SSB300系列的步進式光刻機設備,應用於2-6吋基底的光刻領域,可滿足Mini LED、MEMS感測器等產品的製造。
真正讓國產光刻機打出名氣的產品,是第三代的SSB500系列光刻機。
此系列產品應用於先進的晶片封裝領域,可滿足於Flip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP、2.5D、3D等多種封裝形式。
賀榮明先生也在大會上面,重點強調了在先進封裝領域的國產光刻機。
賀先生說:
當我們在先進封裝領域,設計了第一台國產光刻機,戰勝競爭對手,並且被IC行業的台灣客戶所接受的時候,台灣客戶滿懷真誠的對我說:'真沒想到我們中國人也能做出光刻機,我作為中國人感到很自豪! '
根據中國青年網轉載《解放日報》的專訪內容表示:
賀榮明先生在接受記者採訪時,直言不諱的說到:“歷史賦予了我們這群人研發中國光刻機的任務,我們也就不該再想別的了。有一段時間,我看著工程師辭職去金融企業,心裡真是著急,我們國家怎麼能離開高端製造業?”
如今的上海微電子公司,員工多達數千人,超40%的員工具有碩士以上學歷,其平均年齡只有34歲。其中既有一批國際視野的工程師團隊,也有一群技能嫻熟的工匠團隊。
賀榮明先生對此表示稱,我們有責任讓年輕一代超越我們,接替我們繼續為國家的高端製造業拚搏前進。
參考資料:
十幾年就做一件事:"智"造中國自己的光刻機_中國青年網
http://news.youth.cn/jsxw/201706/t20170628_10183028.htm
根據北京電子學會發布的專欄報告指出:
光刻機算得上是人類在工業設備領域的集大成者,其製造難度高、所需供應鏈體系龐大,只有少數幾家公司能夠掌握製造技術。
DUV浸潤式微影機的售價約為7,000萬美元,EUV的售價是DUV的兩倍,上升到了1.5億美元。而最新的High-NA EUV光刻機,其售價又是上一代EUV光刻機的兩倍,超過了3.4億美元。
參考資料:
公眾號:北京電子學會全球頂尖的光刻機幾乎都來自荷蘭,還有那些國家能造?
國際層面不斷推出新產品來延續摩爾定律,而中國的浸潤式DUV和EUV光刻機還未正式對外公佈,現階段的光刻機仍是限制中國晶片發展的核心難題。
ASML能成為光刻機產業的最大贏家,其核心原因有兩點。
一是ASML處於中立位置,服務全球客戶,可獲得包括美國在內的全球科技力量。二是ASML吸收了全球各行各業的頂尖人才,ASML的研發人員數量佔總員工數的40%左右,並且許多技術都會外包給其他合作商,既深化了產業合作,又提升了研發效率。
中國企業在被美國封鎖產業鏈的情況下,依然開發出來了最新一代的乾式光刻機,將設備解析度提升到了65nm,推動中國光刻機產業再次實現技術躍遷。
其開發自主光刻機的核心動力,就是來自海外國家的科技壓制。想要不被欺負打壓,唯一的方法就是掌握自主可控的科技實力。