據德國媒體《德國之聲》發佈的新聞報告指出:
想要製造先進晶片,離不開ASML的光刻機,而後者的核心元器件則是由德國蔡司製造的高精度鏡組。這對於千方百計想要遏制中國晶片發展的美國來說,能否通過對德國蔡司進行施壓,切斷其給中國企業提供鏡頭的機會,以此來達到制裁中國的目的?
據德國蔡司半導體部門發佈的官方新聞表示:
ASML首發了搭載蔡司光學器件的浸潤式DUV光刻機,憑藉著該技術,ASML與蔡司打敗了日本的尼康和佳能,成為了光刻機領域的老大,延續了摩爾定律。
現階段的晶片產品,不管是汽車、手機、家電、工業裝置,均需要相應的晶片作為驅動基礎。晶片製造需要用到ASML的DUV光刻機,先進晶片的製造需要EUV光刻機。不管是那一種裝置,其光刻機的鏡頭元件均由德國蔡司半導體部門獨家供應。
蔡司的首席技術官托馬斯·斯塔姆勒曾公開表示:
全球大約80%的晶片是使用了蔡司光學器件製造出來的產品,蔡司鏡頭已經成為了晶片製造業不可分割的一環。
如果將蔡司製造的光刻機鏡組等比例放大到德國國土面積那麼大的尺寸,那麼其平整度可以保持在0.1毫米之內。蔡司與ASML一起開發出了人類迄今為止最精密的裝置,這是其他企業無法完成的項目。
EUV光刻機是目前最先進的裝置,也是大量製造先進晶片的核心裝置。EUV光刻技術從研發開始算起,距今已經有超過20年的時間。
據蔡司半導體製造光學副總裁Frank Rohmund透露,蔡司已經拿下了超過1500項跟EUV有關的技術專利,其他企業想要繞過蔡司的專利去製造EUV光刻機的鏡組,目前來看希望渺茫。
就算僥倖在某些技術環節繞過了蔡司的專利,也無法達到蔡司產品的技術水平,更不要說製造晶片了。
除反射鏡組之外,還需要照明系統與投影光學器件進行搭配,整個一套裝置的連鎖反應需要在無塵室內進行應用,蔡司為其單獨製造了一個高潔淨的工廠。
在普通室內的空氣中,每立方米大約有1億個常見的灰塵顆粒,而蔡司的工廠則是將這個灰塵數量大幅度減少到3500個左右,並且生產工廠內部還配備空氣過濾裝置和抽氣裝置,每隔一段時間對室內進行淨化。
在蔡司半導體部門,有7500名以上的員工,這些員工當中有大約1500人被分配到了最新的High NA-EUV光刻機的研發,剩下的員工負責DUV光刻機和第一代EUV的製造。
蔡司和ASML的背後是美國資本、德國政府、歐盟等多個勢力的資助,其供應鏈涵蓋了超過1200家來自於全球的各地的供應商,全球化體系是光刻機產業和晶片產業的核心發展模式。
據蔡司半導體部門前CEO Andreas Dorsel表示:
蔡司聘請了大量開發人員和研究人員,包括精密儀器的配鏡師、機械工程師、機電一體化工程師等各類頂級的人員。
這些人員來自於全球各地,與蔡司深度繫結,許多人甚至一開始就在蔡司工作,從來沒有跳槽。蔡司既可以帶給他們創造研發頂級裝置的機會,讓他們為人類發展實現價值,又可以帶給他們豐厚的待遇,這是蔡司的文化體系,其他企業學不來。
將核心內容總結起來,反射鏡組和配套的技術系統相結合,實現光刻機的整個曝光流程。光刻機的鏡頭由德國蔡司獨家供應,並且蔡司已經申請了大量EUV裝置的技術專利,在智慧財產權方面獲得了先發優勢。而且光刻機是全球化的產物,是建立在獲得國際範圍內頂級資源的前提下。
美國對中國企業的制裁,讓中國企業被迫與全球化模式分割,走上獨立自主的國產化模式,精密元器件的製造,是我們必須要面對的問題。
根據國家發改委主管的《中國戰略新興產業》雜誌表示:
中國的光學器件早在20世紀50年代就已經有了初步的情況,天津照相機廠在這個時期製造了第一台國產的照相機,但是該產品是以徠卡IIIc型為藍本,仿製了部分零件製造出來的模仿物。雖然是模仿,但也讓中國的鏡頭產業有了初步的經驗。
20世紀90年代,中國中科院長春光機所就開始研發EUV成像技術。2002年,長春光機所研製了第一台EUV的原理裝置,將EUV技術的整體理論融會貫通。
歐菲光、舜宇光學等國產光學鏡頭廠商,也對精密鏡頭產品開始了猛攻。歐菲光已經憑藉著手機鏡頭開始大規模應用,而舜宇光學已經在手機鏡頭、顯微鏡技術、醫療裝置等多個領域推出了自主製造的鏡頭產品,這與蔡司當年的發展路線如出一轍。 (逍遙漠)