01前沿導讀路透社在12月17日刊登了一篇專欄報告，該報告指出中國科學家已經在深圳的實驗室內完成了EUV光刻機的原型機製造。並且該原型機由前ASML工程師參與其中，通過逆向工程的方法完成了EUV的整機製造，預計2030年有望實現用國產EUV製造原型晶片。該內容在國際層面引起了巨大轟動，同時也引起了中國媒體的聲討。上海觀察者網認為，該報告動用了西方媒體慣用的伎倆：內容並非完全虛假，但也不完全真實。西方媒體的手段是將一些資訊拼湊性的連接在一起，從而主動引導你得出相關結論。所以，我們需要對路透社的專欄報告提起高度警覺，其警覺的地方並不在於該媒體說了什麼，而是在於該媒體是怎麼說的。02資訊拼湊我們提取一些關鍵詞：中國國產EUV光刻機、前ASML工程師、逆向工程，然後我們對這些關鍵詞進行分析。前ASML工程師這個資訊是真實發生的事情，該工程師名叫林楠，2015年至2021年在荷蘭ASML研究部擔任研發科學家。2021年至2025年9月，林楠在上海光機所擔任雷射科學與技術實驗室副主任。10月份，林楠離開上海光機所，在北京航空航天大學擔任積體電路科學與工程學院教授。林楠博士曾經與荷蘭半導體觀察者、《新鹿特丹商報》記者馬克·海金克一起接受了觀察者網旗下心智對話欄目的專訪。在訪談當中，主持人對二人發起提問：其他企業是否可以效仿ASML的成功經驗，複製出一套全新的光刻機體系？馬克·海金克對此表示即便你瞭解了光刻原理，並且擁有了製造圖紙、製造材料、所需零部件，你也很難將其製造出來，況且也沒有圖紙給你看。你必須要保證每個零部件之間相互有效的整合運行，這涉及到大量的工程問題和技術經驗。我們並不是說複製ASML光刻機這條路徑是完全不可能的，但你想要製造出水平不錯並且可以商用的裝置，需要花費很長時間。林楠博士也進行分析稱，對於技術人員來說，如果有選擇的情況下，技術人員不願意再做重複的事情，但問題是在於你有沒有能選擇的條件。單純的技術複製並不是什麼挑戰，很多時候是在浪費工程師的時間。前人已經把很多事情都做了，你重複去做是沒有意義的。如果你想做，那就應該用不同的方式去做。林楠博士的態度很明白，雖然跟隨國外的技術方向發展技術是一條清晰的路徑，但這種方法終歸是別人主導的。想要實現真正的技術跨越，必須要從基礎開始一點點積累經驗，持續深入研究相關的產業技術，只有自己搞懂的整個流程，才能最大限度實現光刻機的自主可控。林楠博士的說法，與路透社發佈的專欄報告存在明顯出入。下面我們來談談逆向工程的問題。03逆向工程在半導體產業的發展史上，確實發生過對光刻機進行逆向工程，然後製造出另一台光刻機的例子，不過這個事情建立在特定的歷史條件下。時間回溯到20世紀80年代，彼時的光刻機霸主是美國的GCA公司（地球物理公司），其次是美國的珀金埃爾默、日本的尼康、佳能再加上荷蘭的ASML。此刻的ASML並沒有太大的名氣，也沒有什麼拿得出手的產品，光刻機的產業競爭變成了美日兩國企業的競爭。日本通產省牽頭，推出了超大規模積體電路計畫（VLSI）。尼康、佳能、東芝、電氣株式會社（NEC）均是該計畫的扶持企業。由於尼康本身就是傳統光學技術起家，所以直接承擔了日本光刻機的研發項目。日本NEC是美國GCA公司的客戶之一，GCA的服務經理肯·皮恩在這個時期接到了日本NEC的求助，NEC購買的光刻機出現當機的情況，要求皮恩進行技術分析。皮恩帶領工程師來到了日本NEC公司，在進行技術修復的過程中，皮恩發現光刻機存在被私拆的痕跡。皮恩私下調查發現，NEC公司允許尼康對購買來的美國光刻機進行拆解，但是尼康對其拆解之後重新組裝的過程中出現問題，導致光刻機當機，這才求助於美國GCA。1981年，尼康發佈了NSR-1010G步進式光刻機。經客戶反饋，該光刻機與美國GCA的光刻機在架構、晶圓台、對準系統等多個技術領域一模一樣，整個產業都將尼康的NSR-1010G光刻機認定為美國光刻機的複製品，但是美國GCA管理層對此卻毫不在意。甚至有美國客戶將尼康抄襲美國技術的檔案傳送給GCA，GCA也對此嗤之以鼻，並表示日本企業就算抄襲了美國技術，那麼他們也只能學到皮毛，製造出來的產品根本比不過美國。尼康能賣出貨去，完全是因為日本政府要求企業支援國產裝置，所以尼康的光刻機被內部消化了。但是隨著技術的發展，日本企業佔據上風，ASML也憑藉著PAS系列光刻機打開市場，美國的光刻機產業開始走下坡路。珀金埃爾默被財團收購放棄光刻機業務，GCA則是被矽谷集團收購。2001年，ASML全資收購了美國矽谷集團，將美國光刻機產業納入麾下。逆向工程對於早期的簡單裝置來說是可行的方案，但是隨著產業發展，EUV光刻機進入高精度和自動化，其整機零件達到了幾十萬個，牽扯到全球5000多家頂級供應鏈，涉及到的軟體體系超過億行程式碼。最為重要的，還是來自於ASML的技術專利。ASML與蔡司統治了EUV光刻機超1500項以上的技術專利，這些專利成為了後來者難以踰越的城牆。並且EUV光刻機覆蓋了光學、化學、電學、機械、材料、控制、軟體等多個基礎工程，機器製造完成只是個開始，其真正的難點是將裝置市場化，然後保證穩定性和高效率，從而源源不斷地製造晶片進行盈利。由此可見，路透社的內容在關鍵資訊上面大部分是真實的，但是將這些內容整合到一起，就形成了一種較為空心化的結論，存在過度解讀的情況。對於一些經常關注中國晶片產業的觀眾來說，路透社的內容好像很有道理，但是對於整個中國晶片產業來說，路透社的內容又存在多種不合理的說法。尤其是路透社將逆向EUV這種方法強加給中國團隊，暗示中國團隊採用該技術製造國產光刻機，讓中國企業陷入一種被動的輿論境地。 (逍遙漠)

01前沿導讀ASML CEO克里斯托弗·富凱在12月12號接受美國彭博社專訪時表示，西方國家必須要盡快在對華出口的問題上找到一個平衡點。中國作為一個14億人口的大國，絕不會接受在先進技術領域被別人卡脖子，這是一個沒有爭議的事實。西方國家一再收緊對中國的制裁，如果將中方逼入絕境，那麼他們別無選擇，只能想盡一切辦法開發自主裝置，擺脫對西方技術的依賴。現如今，中國已經在很多領域實現了自主技術的開發，假以時日，等中國完成先進光刻機的研發，他們甚至會反過來向我們出口裝置，壓制我們的市場發展，西方國家正在將一個最好的合作夥伴，慢慢地變成競爭對手。02出口管制據富凱在訪談中透露，ASML目前只被允許出口給中國特定的老舊產品。這些老產品對比ASML最新的高數值孔徑EUV，整整落後了8代技術，相當於是ASML在2013年出售的產物，技術差距已經超過了10年。中國已經成為了世界上最大的成熟晶片製造國，相比性能更強的先進晶片，成熟晶片的應用場景廣泛、所需數量多、要求價格低，具備先進晶片所不具備的優勢方面。美國允許ASML銷售給中國老舊的光刻機產品，也在一定程度上保證了全球成熟晶片的產能需求。中國大陸市場在去年成為了ASML最大的全球單一市場，中國市場的發展潛力已經大大超出了歐美地區。富凱此前出主意稱，西方國家可以通過拒絕向中國提供最先進的裝置來維持中國對西方技術的依賴，但是要掌握平衡，不能持續收緊制裁禁令。一旦將中國逼至絕境，中國企業迫於無奈，只能開發自主裝置來擺脫西方的限制。儘管現在的中國先進光刻機並沒有太明顯的起色，但是從長遠來看，西方國家逐步失去中國市場是必然的趨勢。中國一直在推動國產光刻機的研發，並且從沒丟下過這個技術領域。美國的光刻機產業早在2001年就全資賣給了ASML，日本的尼康持有浸潤式裝置，佳能走的是奈米壓印技術，目前光刻製造業務只剩下荷蘭、日本、中國三家競爭。中國上海微電子公司所推出的裝置相比ASML落後10到15年時間，但是中國政府一直在大力支援相關企業進行先進技術的攻關，而且今年2月份，上海微電子公司又拆分出了芯上微裝公司，開始主導國產光刻機裝置的市場化發展，一切都在穩步推進當中。富凱認為出口管制的核心爭論點並不是與中國市場脫鉤，而是應該考慮西方國家希望中國落後到什麼程度。中國市場是國際企業都想進入的市場，很多海外企業依靠合資的方式在中國實現了經濟發展，與中國脫鉤完全就是自找麻煩的行為。美國允許中國企業使用美國技術來發展科技，但是你不能比美國強，你需要落後幾代。美國通過制裁的方法非但沒有壓制住中國企業，甚至還讓中國找到了突破封鎖的辦法，這是一個非常錯誤的決定。03技術依賴法國《世界報》曾在10月份的文章中指出，光刻技術的瓶頸是制約中國晶片產業的核心難點，中國企業正在加倍努力來實現自給自足。除先進技術外，中國企業還制定了宏大的產業目標，到2030年為全球提供三分之一的晶片產能，全球產業正在愈發對中國晶片產生依賴性。這是中國企業以自主技術反擊西方制裁的一次重要嘗試，中國企業正在讓自己製造的傳統成熟晶片在國際範圍內生根發芽，變得越來越重要。這種策略不但巧妙地避開美國在先進技術上面的制裁，而且還推動了中國晶片的發展，激發了內部產業鏈的活力。找準西方國家沒有重視的傳統晶片進行發展，這種以戰養戰的方法是中國突破制裁的核心因素之一。先進光刻裝置的開發需要投入大量的經濟資源，涉及到成千上萬個供應鏈體系，只有國際層面的少數強者才能觸碰到這個產業。德國蔡司號稱“上帝之眼”，製造了全球最精密的光學鏡頭，也是EUV光刻機的獨家鏡頭供應商。ASML技術員馬丁、機械工程師範迪克、執行科學家維特科克三人早年間到訪過德國耶拿，與蔡司談合作。在商談的過程中，ASML發現蔡司正在製造自己的光刻機，不過蔡司的步進光刻機在效率和技術上沒有達到ASML的水平，並且在後來的競爭當中也沒辦法對美日荷的裝置造成影響，所以蔡司的光刻機業務直接被叫停，只擔任鏡頭供應商的角色。中國晶片產業最大的優勢就是內需市場龐大、資源體系完善、基礎製造業成熟，依靠這三個優越的條件，可以支撐起國產光刻機裝置的研發。即便國產裝置的製造效果並不理想，但依靠國內產業鏈的支援，也足以推動國產裝置越來越好。 (逍遙漠)

近日，日媒《日經亞洲》發文稱，中國可能成為繼荷蘭和日本之後，全球第三個能夠獨立製造光刻機的國家。這一消息並非空穴來風，以上海微電子、清華大學研究團隊為代表的中國科技力量，正在光刻技術的各個環節上實現突破。中國光刻機技術的發展是一部從追趕到突破的奮鬥史。早在20世紀50年代，中國就開始了半導體技術的探索，徐端頤團隊不負眾望，在1971年研製出中國第一台光刻機，並投入規模生產，供應全國半導體行業使用。此成果於1978年榮獲全國科技大會獎。然而，由於"造不如買"的思潮影響，中國光刻機技術一度落後國際先進水平20年。近年來，面對國際技術封鎖，中國光刻機產業加速自主創新。上海微電子已實現90奈米乾式DUV光刻機的量產，其28奈米浸沒式DUV裝置通過中芯國際驗證，國產化率突破70%。2025年12月，上海芯上微裝科技自主研發的AST6200型350nm步進光刻機完成出廠偵錯，其套刻精度達到正面80nm、背面500nm，可處理碳化矽、藍寶石等化合物半導體，國產化率達83%。01. 技術突破核心資料與研發背景2025年11月底，上海芯上微裝科技股份有限公司（AMIES）自主研發的AST6200型350nm步進光刻機完成出廠偵錯並交付客戶，標誌著中國在高端半導體光刻裝置領域取得重要突破。該裝置技術參數令人矚目：套刻精度‌：正面80nm(約頭髮絲直徑的千分之一)，背面500nm相容材料‌：突破矽基限制，可處理碳化矽(SiC)、藍寶石、氮化鎵(GaN)等化合物半導體國產化率‌：同類產品SSX600系列零件83%為"中國製造"研發時間線顯示，芯上微自2025年2月成立後，在短短9個月內實現從零到一的突破，展現了"中國速度"。公司源自上海微電子分拆，繼承了母公司的技術積累與訂單資源，技術實力紮實。這一背景為其後續研發與市場拓展提供了有力支撐。02. 巨量資料在光刻機研發中的創新應用光刻機研發是典型的多學科交叉系統工程，巨量資料技術在其中扮演著關鍵角色：‌工藝最佳化與模擬‌：ASML利用AI技術最佳化光刻工藝參數，通過機器學習演算法分析歷史生產資料，快速找到最優工藝窗口。國內企業也逐步引入類似技術，在光刻膠塗布、曝光劑量控制等環節實現資料驅動的工藝最佳化。‌良率提升‌：通過即時採集生產過程中的溫度、濕度、振動等環境參數，結合光學檢測資料，建立良率預測模型。某國內廠商採用此方法後，關鍵工序良率從75%提升至85%。‌裝置健康管理‌：部署感測器網路收集裝置運行狀態資料，建構故障預測模型。某案例顯示，該方法使裝置非計畫停機時間減少40%，維護成本降低25%。‌供應鏈最佳化‌：利用巨量資料分析全球供應鏈風險，建立替代供應商資料庫。在晶片短缺期間，某企業通過此方法將物料交付周期縮短30%。03. 全球光刻機市場格局當前全球光刻裝置市場呈現"一超多強"的寡頭格局。荷蘭ASML憑藉EUV(極紫外)光刻機的獨家供應地位，佔據高端市場絕對主導權。支撐台積電、三星、英特爾的3奈米製程量產。日本尼康與佳能則在中低端市場形成差異化競爭：尼康通過ArF乾式DUV光刻機守住10%市場份額，佳能以奈米壓印技術(NIL)在儲存晶片領域開闢新賽道。2024年全球光刻機市場規模達315億美元，同比增長16.2%，預計2025年將繼續增長至350億美元，2026年將達392億美元。ASML、尼康、佳能的積體電路用光刻機2024年出貨達683台，銷售金額約264億美元。光刻機是半導體裝置中市場佔比最大的品類，佔全球半導體裝置銷售額的約24%。04. 產業影響與市場定位此次突破瞄準的是一個250億美元的龐大市場，主要面向5G基站、新能源汽車和Micro LED顯示等高端晶片製造領域。具體影響包括：‌化合物半導體製造‌：350nm工藝恰好契合碳化矽晶片的製造需求，不能簡單以"解析度低"判定其技術價值。碳化矽是"第二代半導體"，目前廣泛應用於5G基站、新能源車、雷射雷達及通訊領域的微型LED等行業。‌供應鏈安全‌：在海外先進製程裝置管制的背景下，國產350nm光刻機的量產能力，可有效降低對進口裝置的依賴，強化成熟製程晶片的供應鏈安全。‌技術路線差異化‌：與ASML聚焦前道光刻機不同，中國企業在後道光刻機領域已取得突破。上海微電子在封裝光刻機領域的全球市場份額超 40%，位列第一，此次350nm裝置進一步鞏固了這一優勢。05. 國際對比與技術差距與國際領先水平相比，中國光刻機技術仍有明顯差距：專家指出，這種差距普遍在8-10年。ASML的EUV光刻機使用13.5nm波長的光源，而國產光刻機仍在使用更長的波長技術。不過，在特定應用領域，中國裝置已展現出獨特價值。06. 行業專家觀點與未來展望半導體行業專家對此次突破給予積極評價：‌細分市場定位‌："這台裝置不是去硬剛ASML的擂台，而是精準切入化合物半導體賽道"。其配置高數值孔徑投影物鏡，支援多種照明模式，能在矽、碳化矽、磷化銦等材料上工作，就像多功能工具箱。‌技術主權意義‌：實現了軟體100%自主可控，從底層驅動到工藝管理全自研。在別人斷供系統時，它還能轉得起來，這是保障供應鏈安全的關鍵。‌產業生態影響‌：成熟製程市場佔晶片需求的七成以上。國產光刻機先拿下這塊，等於保住了基本盤，為後續技術升級積累資金和經驗。未來，隨著巨量資料、AI等技術與光刻工藝的深度融合，中國有望在特定領域實現"彎道超車"。行業預測，到2030年，中國半導體裝置市場將迎來爆發式增長，光刻機作為核心裝置，其國產化處理程序將加速推進。 (半導體材料與工藝裝置)

在2025年第三季度財報電話會議上，ASML現任首席執行官克里斯托弗·富凱（Christophe Fouquet）罕見地對中國市場的戰略動向表達了深切憂慮。他指出，儘管中國大陸仍是ASML當前最大的裝置交付市場，但其正在以驚人的速度推進半導體裝置的自主化處理程序——不僅試圖擺脫對ASML光刻機的依賴，更可能在未來利用稀土資源對全球供應鏈施加反制。“我們正處在一個高度不確定的時代，”富凱坦言，“人工智慧驅動的晶片需求激增，本應是ASML的黃金機遇期。但與此同時，中國正系統性地建構自己的半導體裝備體系，目標明確：不再受制於人。”中國市場：最大客戶，也是最大變數根據ASML最新披露的財報資料，2025年第三季度，中國大陸市場佔其全球光刻機交付總量的42%，遠超第二季度的27%，首次躍居為ASML單季最大客戶。然而，這一數字背後隱藏著結構性限制：由於美國主導的出口管制層層加碼，中國大陸企業至今無法獲得EUV光刻機，甚至連部分先進浸潤式DUV裝置也已被列入禁運清單。目前，ASML向中國大陸交付的裝置多為較早期型號，如NXT:1950i或更舊版本，主要用於28nm及以上成熟製程。這些裝置雖能支撐汽車電子、電源管理、物聯網等領域的晶片生產，卻難以助力中國突破7nm及以下先進製程的瓶頸。值得注意的是，部分交付裝置實際流向了在華外資晶圓廠，如西安三星、無錫SK海力士等合資項目。這意味著，真正用於本土晶片製造的比例可能低於表面資料。出口管制步步緊逼，技術封鎖環環相扣自2024年初以來，荷蘭政府在美國壓力下持續收緊對華光刻機出口政策。1月，NXT:2050i與2100i兩款高端DUV機型的出口許可被撤銷；9月，管制範圍進一步擴大至1970i、1980i、2000i及以上型號。至此，除最基礎的DUV裝置外，幾乎所有可用於先進邏輯或儲存晶片製造的光刻機均已對中國大陸關閉大門。這種“你突破一吋，我封鎖一尺”的策略，非但未能遏制中國半導體產業的發展，反而激發了其前所未有的自主創新決心。技術突圍：從“卡脖子”到“造脖子”台積電前副總經理、浸潤式光刻技術奠基人林本堅近日在接受媒體採訪時直言：“持續制裁只會逼出一個更強大的對手。當一條路被堵死，聰明的人會開闢新路。就像某些AI大模型，並未沿用西方路徑，卻達到了相近甚至超越的性能。”這一判斷正在中國半導體裝置領域得到印證。中微半導體已成功將5nm級刻蝕機匯入台積電產線，成為全球少數掌握該技術的企業之一。而刻蝕、薄膜沉積與光刻並列為晶片製造三大核心環節，其突破意義不言而喻。與此同時，北方華創、盛美半導體、拓荊科技、上海微電子（及其獨立營運的“芯上微裝”部門）、新凱來等本土企業，正圍繞光刻、清洗、量測、離子注入等關鍵裝置展開高強度技術攻堅。國家大基金三期千億級資金的注入，更將資源集中投向“卡脖子”最嚴重的環節。稀土：沉默的王牌，潛在的反制武器富凱在財報會上特別提到，中國近期對稀土出口實施的管制措施雖尚未直接影響ASML供應鏈，但“若局勢升級，後果將極其嚴重”。光刻機中的高精度光學元件、雷射器、磁懸浮系統等核心部件，均依賴稀土材料。全球超過90%的稀土加工產能集中在中國，這一優勢使其具備“以資源換技術空間”的戰略籌碼。有分析指出，當前中國的稀土管制更多是釋放政治訊號——若美方繼續無底線打壓中國高科技產業，不排除未來將稀土作為精準反制工具，直接衝擊包括ASML在內的西方高端製造企業。前任CEO預警：孤立中國，終將反噬自身ASML前首席執行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）曾在荷蘭國家電視台Nieuwsuur節目中發出警示：“試圖在晶片領域完全孤立中國，是徒勞且危險的。你不分享技術，他們就自己研發。而一旦他們成功，你就永遠失去了這個市場。”如今，這一預言正加速變為現實。美國的封鎖非但未能扼殺中國半導體產業，反而催生了一個高度動員、資源整合、目標清晰的國產替代生態。正如業內所言：“制裁不是終點，而是中國裝置商的起跑線。”在這場關乎未來科技主導權的博弈中，ASML或許仍是光刻機領域的王者，但它的“不可替代性”，正在被中國速度一點點瓦解。 (晶片研究室)

灣芯展火爆開幕了。隊長特意跑去了深圳一趟，現場參觀了這場中國的半導體技術盛宴。基本上，國內頂尖的半導體公司悉數到場了。其中，最亮眼的無疑就是新凱來了。在會展還沒開始前，深圳發改委就提前劇透稱，新凱來和它的一些子公司，將帶來一些意外的驚喜。那這個驚喜，到底是什麼呢？隊長算是親眼見到了。首先，就是“萬里眼”示波器了。很多人不懂，什麼叫“示波器”？這玩意兒有啥用啊？主要就是用來監測晶片電訊號的。它會把晶片的電訊號，以電波的方式傳遞出來，以檢驗晶片的合格性。晶片製造是非常複雜的，像海思麒麟的一枚5G晶片，就有上百億個電晶體了。通電以後呢？電子就在這些電晶體裡面跑起來了。那怎麼檢驗這顆晶片的合格性呢？就得靠示波器了。工程師可以通過觀察示波器，來檢驗晶片的電流、電壓等是否正常。那怕有微弱的波動，也能察覺出來，反饋給工程師以後，再進行及時調整。那這款示波器有多強大呢？已經做到全球第二了，頻寬90G赫茲。全球第一是美國泰克公司所研發，寬頻110G赫茲。雖然還有20G赫茲的差距，但已經沒啥影響了。因為“萬里眼”示波器已經可以支援3奈米晶片的製造了。而當前，全球最先進的晶片製造工藝，也就3奈米，2奈米尚未實現量產。那萬里眼是誰呢？它就是新凱來旗下的一家子公司。這也是萬里眼，第一次出現在公眾面前。除了萬里眼，新凱來還有兩家重磅級子公司。一家是“啟雲方”，另一家是“宇量昇”。關於“宇量昇”，隊長已經介紹過了。它是上海國資委與深圳國資委聯合設立的國有企業，專門搞光刻機製造的。DUV光刻機的突破，大機率就在宇量昇手裡了。那“啟雲方”是幹嘛的呢？它是專攻EDA晶片設計軟體的。這是中國晶片設計領域的一個重大短板。在高端晶片設計上EDA軟體基本被三大巨頭給壟斷了，分別是德國西門子、美國新思科技和楷登科技。國產雖有華大九天，但份額太小了，也遠不是德美三巨頭的對手。這時，新凱來進入EDA軟體研發，就可以加速晶片設計軟體的國產替代了。其實，在這場灣芯展上，最令隊長震撼的是，中國確實做到了晶片全產業鏈的搭建。從最上游的晶片材料，晶片設計軟體，晶片裝備製造等，再到中游的配套供應商，如特種氣體，清洗工藝等，最後到下游的測試封裝。甚至，隊長還看到了，對晶片製造的“污水處理，廢氣處理”專業環保裝置公司。連晶片製造，也要上環保了。這種全套的晶片產業鏈，放在全球，都是獨一無二的存在。它極度細緻，幾乎每一個環節，都有中國公司。也許不是最強，最先進的，但一個都不缺。這種強大的產業鏈能力，就像造航母一樣，不需要海外的任何一顆螺絲釘，中國也能造出全球一流的晶片。對今天的中國來說，晶片大逆轉，真的就只差光刻機了！一旦光刻機技術突破，中國晶片就真的沒有對手了。 (牲產隊)

01. 前沿導讀荷蘭諮詢機構Insinger Gilissen的高級光刻分析師Jos Versteeg，在接受中國媒體採訪時表示：美國如果繼續對中國實施光刻機裝置的出口管制，那麼這勢必會激發起中國研發自主光刻機的決心。現在荷蘭的ASML對於中國光刻機產業的任何風吹草動都極為敏感和焦慮，不過ASML持有大量光刻機的技術專利，就算中國大陸企業有充足的資金和人才儲備去攻克DUV光刻機，那麼想要追上ASML最新的DUV技術，至少還需要5年以上的時間。參考資料：光刻機巨頭ASML前CEO：美對華晶片戰並非基於事實，而是意識形態https://www.guancha.cn/economy/2024_07_08_740787.shtml02. 意識形態ASML前CEO彼得·溫寧克在接受荷蘭電台BNR採訪時表示，美國對中國企業實施的制裁限制，其本質上是基於意識形態，而不是事實，並且還會持續蔓延下去。也就是說，美國頻繁以國家安全為由，要求其他企業對中國實施斷供，阻止中國發展先進的晶片技術，這屬於是一種從思想上面憑空捏造的現象。沒有任何證據能夠證明中國晶片產業對美國的國家安全產生過威脅，也沒有任何證據能夠證明中國企業採用美國的技術發展晶片是為了與美國爭奪科技老大的地位。這一切的討論，都不是基於事實、資料說話，而是基於美國政府的意識形態，只要政府認為你影響了美國安全，你就會受到來自美國的制裁。美國當年對日本發動的晶片貿易戰，是基於發生的事實進行制裁。以日本索尼為首的日本半導體企業，向美國及全球市場大陸銷售搭載日本儲存晶片的隨身聽、收音機等產品。由於出貨量龐大，日本晶片的價格也隨之降低，這讓美國的儲存晶片企業苦不堪言。日本政府的科技自信心爆棚，政府官員石原慎太郎聯合索尼創始人盛田昭夫在1989年合著了一本名為《日本可以說不》的書。該書籍寫到了日本晶片技術的發達，就連晶片的發明國美國都得買日本的材料造晶片，美國群眾都喜歡買日本的科技產品，日本有資格在經濟上面拒絕美國的要求。該書引起了美國政府的強烈不滿，開始對日本企業實施反傾銷調查、施加額外關稅等制裁手段。最終日本政府迫於美國的市場壓制和貿易制裁，宣佈投降，與美國簽訂了《美日半導體協定》，聽從美國政府的安排。而美國對中國所發動的貿易戰，完全是基於一種不真實的狀態所發生的。其目的是打算在中國還在發展晶片技術的過程中，將中國晶片“掐死”，最大程度的避免出現中國技術趕超美國的情況。03. 技術發展根據觀察者網心智觀察所研究員分析指出，在2024年及以前的市場表現中，荷蘭ASML與日本企業對華出口裝置的金額持續走高，甚至在ASML季度財報當中，中國大陸的收入佔比高達49%。而日本企業的情況也與ASML類似，中國大陸的收入長時間佔其總收入的50%以上。雖然美國對荷蘭政府施壓，先封鎖了中國企業的EUV光刻機，然後在2024年1月份封鎖了部分浸潤式DUV光刻機，但是ASML的其他對華業務還是可以繼續開展的。根據ASML官方新聞稿表示，美國在2024年制定的出口管制條例，增加了包括計算和軟體在內的技術限制清單，中國大陸的更多工廠被劃分到限制清單當中。全新的管制措施，對2024年ASML和中國大陸企業的合作並沒有直接實質性的影響，但是對於2025年來說，ASML中國大陸地區的收入佔比將會下滑到20%。對於進口裝置的龐大市場需求，表現出了先進的光刻機裝置仍是限制中國晶片發展的核心難題。中國工信部已經公佈了國產乾式微影機裝置，而更先進的浸潤式DUV裝置還未正式官方宣佈。據ASML獨家鏡頭供應商德國蔡司在官網新聞中表示，浸潤式DUV光刻機和EUV光刻機的鏡組和整套光學系統全部由蔡司聯合ASML共同打造，蔡司已經拿下了超過1500項技術專利，成為了光學鏡組的首席領導者。蔡司靠著製造顯微鏡起家，然後一步步在光學機械領域深耕，從而成為了光學鏡頭領域的國際權威。與蔡司類似的中國企業就是舜宇光學，舜宇光學旗下擁有顯微鏡、消費性產品鏡頭、AR裝置鏡頭等多個光學技術產業。根據證券時報所發佈的新聞顯示：在2025年7月份，舜宇光學的子公司舜宇奧來與與國內多個半導體企業和國資公司簽署合作協議，啟動國產積體電路裝置在光學領域的協同發展。該合作將會把技術、資本、場景等三重優勢疊加，推動在ai、裝置製造等多個產業的技術進步，實現從晶片設計、光學製造、整機應用的完整閉環。 （逍遙漠）

01. 前沿導讀據德國媒體《德國之聲》發佈的新聞報告指出：想要製造先進晶片，離不開ASML的光刻機，而後者的核心元器件則是由德國蔡司製造的高精度鏡組。這對於千方百計想要遏制中國晶片發展的美國來說，能否通過對德國蔡司進行施壓，切斷其給中國企業提供鏡頭的機會，以此來達到制裁中國的目的？02. 供應鏈體系據德國蔡司半導體部門發佈的官方新聞表示：ASML首發了搭載蔡司光學器件的浸潤式DUV光刻機，憑藉著該技術，ASML與蔡司打敗了日本的尼康和佳能，成為了光刻機領域的老大，延續了摩爾定律。現階段的晶片產品，不管是汽車、手機、家電、工業裝置，均需要相應的晶片作為驅動基礎。晶片製造需要用到ASML的DUV光刻機，先進晶片的製造需要EUV光刻機。不管是那一種裝置，其光刻機的鏡頭元件均由德國蔡司半導體部門獨家供應。蔡司的首席技術官托馬斯·斯塔姆勒曾公開表示：全球大約80%的晶片是使用了蔡司光學器件製造出來的產品，蔡司鏡頭已經成為了晶片製造業不可分割的一環。如果將蔡司製造的光刻機鏡組等比例放大到德國國土面積那麼大的尺寸，那麼其平整度可以保持在0.1毫米之內。蔡司與ASML一起開發出了人類迄今為止最精密的裝置，這是其他企業無法完成的項目。EUV光刻機是目前最先進的裝置，也是大量製造先進晶片的核心裝置。EUV光刻技術從研發開始算起，距今已經有超過20年的時間。據蔡司半導體製造光學副總裁Frank Rohmund透露，蔡司已經拿下了超過1500項跟EUV有關的技術專利，其他企業想要繞過蔡司的專利去製造EUV光刻機的鏡組，目前來看希望渺茫。就算僥倖在某些技術環節繞過了蔡司的專利，也無法達到蔡司產品的技術水平，更不要說製造晶片了。除反射鏡組之外，還需要照明系統與投影光學器件進行搭配，整個一套裝置的連鎖反應需要在無塵室內進行應用，蔡司為其單獨製造了一個高潔淨的工廠。在普通室內的空氣中，每立方米大約有1億個常見的灰塵顆粒，而蔡司的工廠則是將這個灰塵數量大幅度減少到3500個左右，並且生產工廠內部還配備空氣過濾裝置和抽氣裝置，每隔一段時間對室內進行淨化。03. 產業合作在蔡司半導體部門，有7500名以上的員工，這些員工當中有大約1500人被分配到了最新的High NA-EUV光刻機的研發，剩下的員工負責DUV光刻機和第一代EUV的製造。蔡司和ASML的背後是美國資本、德國政府、歐盟等多個勢力的資助，其供應鏈涵蓋了超過1200家來自於全球的各地的供應商，全球化體系是光刻機產業和晶片產業的核心發展模式。據蔡司半導體部門前CEO Andreas Dorsel表示：蔡司聘請了大量開發人員和研究人員，包括精密儀器的配鏡師、機械工程師、機電一體化工程師等各類頂級的人員。這些人員來自於全球各地，與蔡司深度繫結，許多人甚至一開始就在蔡司工作，從來沒有跳槽。蔡司既可以帶給他們創造研發頂級裝置的機會，讓他們為人類發展實現價值，又可以帶給他們豐厚的待遇，這是蔡司的文化體系，其他企業學不來。將核心內容總結起來，反射鏡組和配套的技術系統相結合，實現光刻機的整個曝光流程。光刻機的鏡頭由德國蔡司獨家供應，並且蔡司已經申請了大量EUV裝置的技術專利，在智慧財產權方面獲得了先發優勢。而且光刻機是全球化的產物，是建立在獲得國際範圍內頂級資源的前提下。美國對中國企業的制裁，讓中國企業被迫與全球化模式分割，走上獨立自主的國產化模式，精密元器件的製造，是我們必須要面對的問題。根據國家發改委主管的《中國戰略新興產業》雜誌表示：中國的光學器件早在20世紀50年代就已經有了初步的情況，天津照相機廠在這個時期製造了第一台國產的照相機，但是該產品是以徠卡IIIc型為藍本，仿製了部分零件製造出來的模仿物。雖然是模仿，但也讓中國的鏡頭產業有了初步的經驗。20世紀90年代，中國中科院長春光機所就開始研發EUV成像技術。2002年，長春光機所研製了第一台EUV的原理裝置，將EUV技術的整體理論融會貫通。歐菲光、舜宇光學等國產光學鏡頭廠商，也對精密鏡頭產品開始了猛攻。歐菲光已經憑藉著手機鏡頭開始大規模應用，而舜宇光學已經在手機鏡頭、顯微鏡技術、醫療裝置等多個領域推出了自主製造的鏡頭產品，這與蔡司當年的發展路線如出一轍。 (逍遙漠)

01前沿導讀荷蘭半導體觀察者、科技行業專業記者馬克·海金克在接受觀察者網採訪時表示：美國的對華制裁，在很大程度上影響了ASML的業務開展，也損害了他們的利益收入。但是我認為，ASML現在的擔憂並不是收入的減少，而是中國自主技術的崛起。美國的封鎖讓中國市場出現了缺口，這個缺口給中國企業創造了機會。雖然中國企業的技術沒有ASML先進，也沒有像ASML一樣擁有EUV光刻機的製造能力，但是中國企業會在開發裝置的過程中積累經驗。隨著經驗的不斷累積，中國企業在光刻機的開發上面會越來越嫻熟，這是一個至關重要的因素，也是ASML現在所懼怕忌憚的方面。02裝置封鎖作為荷蘭《新鹿特丹商報》的科技專欄記者，海金克對ASML各地的分公司以及核心的管理層均進行過獨家的訪談對話。ASML之所以能成為中美兩國競爭的核心企業，是因為ASML集合了全球資源開發出了先進的晶片製造裝置，這些裝置讓晶片技術實現了性能的大幅度提升，也推動了ai產業的跨越式發展。ASML屬於中立國家荷蘭的企業，一直是致力於擁抱全球化體系，不但將製造裝置銷售給美國企業，同時也會銷售給中國企業。而中國企業拿到裝置之後，依靠國內的資源優勢和產業鏈優勢，實現了對美國本土晶片技術的追趕。你可以發展技術，也可以採購美國的裝置來發展晶片產業，但是你不能比美國強，也不能影響美國產品在國際範圍內的市場佔有率，這是美國製裁中國的根本。ASML一直以來都是具有美國力量支援的企業，從當年加入由美國政府和英特爾牽頭的EUV LLC技術聯盟開始，到2012年收購美國西盟公司（Cymer），美國的資本力量已經深入到了光刻機產業中。甚至在某些敏感的事情上面，美國可以直接切斷ASML的業務開展。與ASML一同位於荷蘭的Mapper公司，其主營業務是電子束光刻技術，並且在後來獲得了俄羅斯投資資金的支援，俄羅斯資本成為了Mapper公司的最大股東。電子束技術不需要掩範本，並且解析度高，成本低，但是效率很慢，屬於是跟傳統光刻平行發展的另一種晶片製造技術。但是該技術並不算主流，市場化接連受挫，導致Mapper公司瀕臨破產。從股權結構來看，俄羅斯資本是最大股東，也擁有拿下Mapper公司的實力。並且Mapper公司也來到了中國，與中國的政府機構和投資基金談合作，只要中國資本注資，Mapper可以在中國開發技術，為中國企業開發EUV光刻機的替代品。好消息是，中國投資者很感興趣。壞消息是，Mapper急於快速達成交易來挽救公司，其開出的價格超出中國投資機構的心理預期，導致雙方錯過了最佳的合作時機。這時候美國介入了進來，美國資本認為，Mapper的電子束技術既不能落入俄羅斯手中，更不能落入中國企業手中，這樣會威脅到美國的國家安全。於是在美國資本的幫助下，ASML收購了Mapper。美國政府部門試圖說服ASML發展傳統光刻和電子束光刻的雙重技術路徑，但是ASML發現電子束更適合用於測量環節，於是拒絕了美國部門的要求，關閉了電子束產品線，全部轉向測量。03產業追趕海金克在採訪中表示：中國企業想要打造出比肩ASML的國產企業，首先就需要分析ASML的成功因素。ASML能成功，一方面是因為全球化的幫助，另一方面就是他們只專注於造光刻機這一件事。並且這個專注力持續了40多年，積累了豐富的技術經驗，這些經驗幫助ASML在製造光刻機的時候少走了很多彎路。光刻機產業需要持續進行發展，ASML擁有堪稱行業第一的市場佔有率，並且製造了全球5000台以上的光刻機。這些裝置帶給了ASML海量的晶片製造資料，ASML可以依靠這些資料隨時對產品進行最佳化，這是其他企業都無法比擬的優勢。還有一點就是企業文化，需要一個既懂技術又懂管理的人來帶領著企業發展。ASML的技術帶頭人，是公司前CTO 馬丁·范登布林克，而中國企業的技術帶頭人，是中芯國際的CEO梁孟松。雙方有著極高的相似度，馬丁是一個對技術和行為風格有追求的領導，對員工嚴厲，不允許員工有虛榮心，要時刻保持被他人超過的高度 緊張感和警惕性，你以為自己很厲害，其他人比你更厲害。而梁孟松更是被國內的媒體評價為“工作狂”，在企業被美國製裁期間，梁孟松帶領團隊完成了14nm和7nm的技術開發，不分白天黑夜，全力以赴去做到最好。經濟觀察報曾經對中芯國際進行了專訪，據受訪員工表示：梁孟松身上帶有軍事化的管理風格，他來到中芯國際之後，公司上下的文化就是講規矩，把每個流程進行規格化安排。每次出現技術問題之後，都會有一套完整的嚴密處理流程，讓企業在快速發展的過程中時刻保持穩中踏實的精神面貌。中國企業已經具備了在技術領域的強勢風格，並且也具有了會技術、懂管理的企業領導，專注於研發先進的自主晶片技術，解決卡脖子的問題。這種集合產業資源、文化風格、技術領導於一體的企業，將會成為挑戰歐美國家技術壟斷的核心企業。 (逍遙漠)