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美國初創公司Substrate宣佈光刻新技術，阿斯麥爾與台積電迎來巨大挑戰
一家名為Substrate的美國半導體初創公司今日宣佈，已成功開發出一款新型晶片製造裝置，聲稱其技術可媲美甚至挑戰荷蘭巨頭ASML的最先進光刻系統。這一突破性進展若得以實現，將有望重塑全球晶片製造格局，並為美國重奪半導體產業領導權提供關鍵助力。
技術突破：X射線光刻對標ASML極紫外光刻
Substrate公司表示，其裝置採用基於粒子加速器的X射線光源進行光刻，能夠實現12奈米等級的電路圖案印刷，與ASML最新一代“高數值孔徑極紫外光刻機”的性能相當。目前，ASML的極紫外光刻裝置是全球唯一能夠大規模生產最先進晶片的工具，單台售價超過4億美元。
該公司聲稱，其X射線光刻技術不僅解析度高，且裝置成本更低、體積更小，並已在美國國家實驗室及其實驗室完成技術演示，提供了高解析度圖像作為證明。不過，其具體技術細節尚未公開，相關聲明也暫未得到第三方獨立驗證。
雄心壯志：打造美國本土晶片製造產業鏈
Substrate的最終目標並非僅停留在裝置製造層面。公司創始人兼首席執行官詹姆斯·普勞德在接受採訪時透露，他們計畫在美國建立自己的晶片代工廠，直接與台積電競爭，生產最先進的人工智慧晶片。
“我們的首要目標是能夠在美國以最低成本、大規模生產最優質的晶圓，”普勞德表示。他希望通過大幅降低晶片製造成本，打破目前由ASML和台積電主導的“雙壟斷”局面。
融資與背景：估值超10億美元，獲多方資本支援
為實現這一宏偉藍圖，Substrate已成功籌集1億美元種子輪融資，估值超過10億美元。其投資者陣容強大，包括：
彼得·蒂爾的Founders Fund
General Catalyst
Valor Equity Partners
中央情報局支援的非營利機構In-Q-Tel
Allen & Co 與 Long Journey Ventures 等
國家級關注與意識形態驅動
Substrate的努力已引起美國政府高層的關注。公司透露，已與美國商務部、能源部等多個政府機構進行會談。普勞德特別提到，商務部長霍華德·拉特尼克“自本屆政府上任之初就參與了相關討論”。
出生於英國、現已放棄英國國籍成為美國公民的普勞德強調，公司的使命帶有強烈的意識形態色彩：“美國必須在這一關鍵技術上領先世界，輸給中國等經濟對手將是災難性的錯誤。”
前路挑戰：技術、資金與產業生態的高壁壘
儘管願景宏大，Substrate面前的道路依然充滿挑戰。ASML的技術是經過數十年、耗資數百億美元才得以完善的；而建立一座先進的晶片工廠如今需要超過150億美元的投資。此外，公司還需建構完整的晶片製造工藝，並與台積電、英特爾、三星等已建立深厚技術積累的巨頭競爭。
行業觀察：機遇與風險並存
行業分析師指出，若Substrate成功降低晶片製造成本，其影響可能如同SpaceX降低火箭發射成本一樣，引發整個行業的連鎖反應。
“這是一個讓美國通過本土公司重新奪回市場的機會，”橡樹嶺國家實驗室主任、高能X射線束專家斯蒂芬·斯特雷弗表示，“這是一項對國家至關重要的努力，他們清楚自己在做什麼。”
然而，從實驗室演示到大規模商業化生產，Substrate仍需克服諸多技術與工程難題。這家僅有約50人、成立於2022年的初創公司，正以驚人的野心，試圖撼動全球半導體產業的基石。 (白析洞見)