分享幾份海力士過去幾年的優秀論文,這些論文聚焦高頻寬記憶體(HBM)及 DRAM 的先進封裝與整合技術,覆蓋 2.5D/3D SiP、堆疊工藝、熱管理、可靠性最佳化等核心方向,主要是為了面向 AI、HPC等對記憶體要求極高的場景,解決傳統封裝面臨的熱阻過高、堆疊密度不足、可靠性差的瓶頸。
報告列表
關鍵資訊摘錄
生成式 AI 等場景推動記憶體頻寬 / 容量需求激增,HBM從HBM1(2014)迭代至HBM3E(2024),面臨頻寬擴展、散熱、功率、堆疊密度四大挑戰,未來需通過介面擴展、工藝融合、架構創新突破性能瓶頸。
技術演進:HBM3E 頻寬 1.18TB/s、容量 36GB(12Hi),HBM4 計畫採用 2048 位介面(現有 1024 位);
核心解決方案:MR-MUF 工藝(散熱提升 10%)、混合鍵合(減少堆疊高度)、邏輯工藝整合基片(功耗降低 50%);
未來方向:近記憶體處理(Near-Memory Processing)、SERDES IP 整合、Si 橋接擴展 SiP 尺寸。
2.5D SiP 中 HBM 性能提升導致散熱問題加劇,傳統 TC-NCF(熱壓鍵合 + 非導電膜)工藝受限於鍵合壓力,無法增加金屬凸點數量,熱阻較高。
報告通過最佳化LMC 樹脂(選擇低翹曲的 LMC C)和 MUF 材料(77% 填充率、3μm 最大填充尺寸、最佳化 SRA 含量),調整晶片貼裝順序(從垂直改為平面),擴展無虛焊的晶片翹曲範圍至 ±30μm,採用面朝下模塑 + 蛇形塗膠圖案,消除間隙填充空洞(空洞率 0%),成功實現 8Hi HBM 堆疊,相較 TC-NCF 工藝,記憶體晶片最高結溫降低 14℃,封裝可靠性通過 JEDEC 全項測試。
2.5D SiP 尺寸擴大(Si 中介層達 3X 掩範本)、HBM 數量增加(最多 8 顆),導致熱應力和機械應力劇增,傳統代理封裝無法復現真實失效場景。
報告研究發現,側模越寬,第一核心晶片應力越大(Product C 較 A 高 13%);MR-MUF 工藝的頂 die 抗凹陷能力比 TC-NCF 高 60%;在 300℃+270N 的極端 TCB 工藝下,無焊橋和分層,通過 uHAST/TC/HTS 全可靠性測試。因此,MR-MUF 工藝的 HBM 在大尺寸 2.5D SiP 中具備優異的熱 / 機械應力抗性,可靠性滿足量產要求。
HBM 需更小凸點間距、更高堆疊密度和更低熱阻,傳統微焊點 + 聚合物底部填充結構無法滿足,且 C2W 堆疊易受顆粒污染和 Cu pad 氧化影響。
報告開發臨時鍵合 / 解鍵合材料,控制 Cu pad 氧化和凹陷(≤-4nm 易失效);最佳化電漿體處理參數,延長 Q-time 至 24 小時無空洞;設計柔性凸面鍵合工具 + 一體化堆疊裝置,減少顆粒誘導空洞;採用低 CTE 環氧模塑料(EMC)緩解應力。HBI 技術使 HBM 熱阻降至傳統工藝的 20% 以下,堆疊高度減少 15%,電氣性能與傳統 HBM 一致,適合 16Hi 高堆疊 HBM。
摩爾定律逼近極限,3D IC 整合需求迫切,W2W 混合鍵合比 C2W 更易實現細間距互連,但此前未應用於商用 DRAM。
報告提出了一系列工藝最佳化,包括採用 SiCN 介質層、控制 CMP 平坦化(Cu 凹陷≤5nm)、避免高 Cu 密度區域空洞,以及調整鈍化退火步驟以恢復因額外熱過程導致的 DRAM 單元特性等熱預算控制,電氣驗證顯示菊花鏈結構良率 100%,電阻分佈均勻,晶圓良率與現有 DRAM 一致。報告認為W2W 混合鍵合可成功應用於商用 DRAM,為 3D DRAM/HBM 的高密度整合提供新路徑。
從海力士的系列研究中可見,其HBM 技術佈局以 MR-MUF(解決中短期散熱 / 可靠性)和混合鍵合(C2W/W2W,解決長期高密度 / 低功耗)為兩大核心工藝,從材料、裝置、結構多維度最佳化,避免技術分散。所有研究均緊扣 AI/HPC 的核心痛點 —— 頻寬、散熱、密度、功耗,不同於純理論研究,所有技術均通過 JEDEC 標準可靠性測試、良率驗證,且注重相容性,技術落地性強。
未來,高堆疊(16Hi+)帶來的薄 die 處理(≤30μm)、大尺寸 Si 中介層的良率成本、混合鍵合的顆粒污染控制仍是關鍵挑戰,近記憶體處理、SERDES IP 整合等架構創新,可能成為 HBM4 及後續代際的核心突破方向。 (銳芯聞)