外媒：相較於美國，中國有「舉國科研」優勢，晶片、EUV都能攻克

全球科技競爭越來越激烈，外媒都在關注中國有舉國科研體制，在晶片、EUV 光刻機這些核心技術領域的突破，美國《紐約時報》、路透社這些媒體都說，中國憑著集中力量辦大事的製度優勢，正慢慢打破西方的技術封鎖，在半導體領域實現了從跟跑到並跑的跨越。

核心技術突破的關鍵在於全鏈條創新，哈工大科研團隊成功研發出波長精準控制達十三點五奈米的極紫外光源技術，繞開了ASML 的專利封鎖，給EUV 光刻機國產化打下了堅實基礎，中科院換了創新思路，採用自由電子光源路徑，百分之重比國際標準光，百分之十五，樣機參數很亮眼，它能支援七奈米過程，吞吐量達到每小時一百萬片，雙工件台技術實現了每小時三百片的高速晶圓交換，精度能做到奈米級震動控制，已經追平了ASML 的水平，中芯國際的預採購協議顯示，國產EUV 的量產時間的百分之六十。

這些技術突破離不開舉國體制的強力支撐，政策與資金的雙重保障缺一不可，中國透過十四五規劃這​​樣的頂層設計，明確把晶片和EUV光刻機列為國之重器，國家積體電路基金二期規模超過兩千億元，重點投向設備、材料、設計這些關鍵環節，稅收政策也給出了實打實的支援，高新技術企業在二零二二年新購置的設備，當年就能一次性全額稅前扣除，科技型中小型企業的研發費用加計扣除比例從百分之七十五提高到了百分之百，地方政府也積極跟進，上海、北京等地紛紛出台配套措施，浦東新區的綜合改革試點方案裡，明確支援科創板期權產品，還為跨境技術交易提供本外幣結算便利。

國際社會對中國的科技突破反應強烈，美國國會下屬的美中經濟與安全評估委員會報告指出，中國在人工智慧、量子技術、生物技術等領域的投入，已經對美國形成戰略挑戰，美國經濟學家彼得・彼得裡認為，中國聚焦科技自立自強，尤其是晶片和EUV光刻機領域的突破，將對全球科技格局產生深遠影響，世界知識產權組織的報告顯示，二零二五年中國創新指數首次躋身全球前十，擁有的全球百強創新叢集數量達到二十四個，連續三年位居各國之首。

面對技術封鎖加劇、人才短缺這些現實挑戰，中國沒有被動應對，而是主動透過量子光刻、奈米壓印等前沿技術佈局未來賽道，隨著十五五規劃的推進，中國預計在五到十年內實現五奈米EUV光刻機的量產，進而支撐起兆級規模的晶片產業，推動全球半導體形成多極化格局，這場科技自立之戰，不只是簡單的技術革新，更是工業文明話語權的重要交接，當哈工大的極紫外光源點亮​​松江畔的晶片矽基時，人類正在見證科技版圖的重構。 （科技直擊）