8月3日消息，根據彭博社報導，光刻機大廠ASML供應商——德國蔡司集團（Zeiss Group）半導體事業部負責人Frank Rohmund近日在接受彭博社採訪時反駁市場對AI供應鏈瓶頸的疑慮，並表示有信心具備足夠產能，可應對持續攀升的需求。
蔡司半導體事業部於7月下旬宣佈，將在德國南部的奧伯科亨新增約25,000平方米的生產相關空間，該項目自2022年5月奠基儀式以來，歷時四年才實現首座大樓的完工，員工將於本月遷入大樓，剩餘建築將分階段交付。同時，蔡司也正於另一處園區興建新工廠，表示若市場需求持續增加，仍有擴產的空間。
Frank Rohmund表示，這些才是真正攸關產能擴充的長期投資。
資料顯示，蔡司擁有近180年光學技術歷史，其鏡頭曾協助美國太空總署（NASA）拍攝人類首次登月畫面，如今產品涵蓋半導體零元件、醫療裝置、顯微鏡及眼鏡鏡片等多元業務。蔡司半導體事業於1990年代末與ASML建立合作關係，雙方共同推動晶片朝向更小、更強大且更節能的方向發展。
奧伯科亨和韋茨拉爾是全球唯一兩個可以建造ASML光刻機所需的光學器件的地方。蔡司也是ASML EUV光刻機光學系統的唯一供應商，主要供應透鏡、反光鏡、照明器、集光器及其他關鍵光學元件。
特別是High-NA EUV光刻機的光學系統，包含超過4萬個投影光學元件，重量約12噸，約是標準EUV光學系統體積和重量的七倍。其中，High-NA EUV照明系統增加了25,000個零件和6噸；單個High NA鏡頭重達數百公斤，約是現有EUV光鏡的2倍大小和10倍重量。
蔡司表示，這些是全世界最精密的鏡片模組，以原子級精密度製造，由超過一百層鍍膜構成，該鏡片模組是High-NA EUV技術的核心。尺寸遠大於當前的EUV鏡片模組，且製造時間約需一年。
△High-NA EUV鏡片模組
蔡司表示，EUV光刻機內部的反射鏡調校精度極高，如果其中一面反射鏡將雷射光束反射至月球，它的精準度足以擊中月球表面的一顆乒乓球。
若要將High-NA EUV系統的鏡片放大至與德國相同面積，測量技術就必須能夠精確測量到100微米的起伏，這種精密到比原子還精細的測量技術直到如今才出現。因此，蔡司半導體與其戰略合作夥伴ASML，在開發High-NA EUV技術的同時，也開發了此測量技術以驗證所生產的鏡片質量。
據介紹，驗證High-NA EUV光學系統還需要一個專門建造的真空艙，尺寸為5米×10米，由超過10萬個零件組成，重達150噸以上。
△驗證High-NA EUV光學系統的真空艙
Rohmund表示，通過與ASML的合作，其零元件已參與全球約80%晶片的生產。他預期，隨著超大規模雲端服務業者持續投入AI基礎建設，今年半導體事業將迎來顯著增長。
根據Rohmund的說法，蔡司與ASML已共同制定一份相當長期的技術藍圖，目前已規劃到約2040年。
不過，當前中美緊張的貿易局勢仍為雙方帶來風險。目前美國已禁止ASML向中國出EUV光刻機和先進的浸沒式DUV光刻機，美國國會議員也在持續推動出口管制擴展至所有DUV光刻機。由於蔡司也為ASML的DUV裝置供應光學鏡頭，若新限制實施，其相關業務也將受到影響。(芯智訊)