不用光刻機也能造晶片，佳能推出5nm晶片生產設備

佳能（Canon）公司近日發布新聞稿，開始銷售晶片生產設備FPA-1200NZ2C，表示採用不同於複雜光刻技術的方案，可以製造5 nm晶片。

佳能表示這套生產設備的工作原理和行業領導者ASML 不同，並非光刻，而更類似於印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到矽晶圓上。

這套設備可應用於最小14 平方毫米的矽晶圓，因此可生產相當於5nm 製程的晶片。

佳能表示會持續改進發展這套系統，未來可望用於生產2nm 晶片。

IT之家註：奈米印刷（Nanoprinted lithography）通常被認為是光學微影的低成本替代品，SK 海力士和鎧俠等記憶體晶片製造商過去曾嘗試過使用。

鎧俠先前進行測試，不過潛在客戶提出投訴，認為產品缺陷率較高，最後選擇放棄。（IT之家）