2026年初，日本光學巨頭佳能正式宣佈將於年內推出全新一代KrF光刻機，標誌著這家沉寂多年的光刻裝置廠商重新殺回主戰場。據《日經亞洲評論》披露，這款代號為FPA-6400KRF的新裝置每小時可處理超過400片晶圓，較其上一代產品效率提升近30%。更引人注目的是，這將是佳能自2012年以來首次對用於成熟製程的光刻機進行重大技術升級。而其背後的戰略意圖已昭然若揭：在ASML牢牢掌控先進製程、中國加速國產替代的雙重壓力下，佳能試圖以“效率+成本”組合拳，在28nm及以上成熟晶片製造領域對中國企業展開新一輪市場圍剿。全球光刻格局：三分天下，但利潤天平嚴重傾斜根據中商產業研究院最新統計，全球光刻機市場呈現“ASML一家獨大、佳能尼康分食殘羹”的局面。ASML以62%的市場份額穩居龍頭，其中雖僅佔銷量7.2%的EUV光刻機卻貢獻了超七成利潤；佳能以31%的份額位居第二，主要依靠i線（365nm）與KrF（248nm）裝置；尼康則以7%的份額艱難維持，產品多流向日本本土或特定合資產線。值得注意的是，在所有售出的光刻機中，KrF裝置佔比最高，達40%以上，i線裝置緊隨其後。這意味著，儘管先進製程是行業焦點，但真正支撐全球半導體產能基底的，仍是這些“看似老舊”的成熟製程裝置——而這正是佳能此次重兵投入的戰場。佳能的困局與突圍：押注奈米壓印，卻錯失ArF時代過去十年，佳能選擇了一條與眾不同的技術路徑：全力押注奈米壓印光刻（NIL）技術，試圖繞開傳統光學光刻的物理極限。這一策略使其在3D NAND等儲存晶片製造中佔據一席之地，但也導致其徹底缺席193nm ArF乾式及浸沒式光刻機的研發競賽。當ASML憑藉ArF浸沒式技術攻下45nm至7nm邏輯晶片市場，尼康雖步履蹣跚卻仍保有ArF產品線時，佳能的傳統光刻機技術卻長期停滯。其主力KrF機型FPA-6300ES6a雖套刻精度可達5nm，但解析度僅支援90nm節點；而i線裝置FPA-5550iZ2的350nm解析度更是難以滿足當前功率半導體與模擬晶片日益提升的整合需求。中國光刻機突進：打破“低端鎖定”，直擊佳能腹地轉機出現在2024年9月。中國工信部高調發佈兩款自主光刻機技術指標：一款為248nm KrF光刻機，另一款為193nm乾式ArF光刻機，後者硬體性能對標ASML 2015年推出的XT:1460K機型。儘管與ASML當前最先進的Twinscan NXT系列仍有代差，但對主打成熟製程的佳能而言，這無異於“降維打擊”。業內分析指出，中國新KrF光刻機在解析度上已優於佳能現役裝置，雖在套刻精度上略遜一籌，但在電源管理晶片、車規級MCU、CIS圖像感測器等主流成熟應用中，綜合性能已具備替代能力。更關鍵的是，國產裝置享有本地化服務、供應鏈安全與政策扶持三大優勢，正快速滲透中芯國際、華虹、長電科技等頭部客戶產線。佳能的反擊：效率升級只是開始，AfF乾式機才是殺招面對中國光刻機的強勢崛起，佳能顯然不願坐視傳統裝置市場被蠶食。除2026年即將上市的高吞吐KrF機外，公司已預告將推出新一代“AfF乾式光刻機”——雖未公佈具體參數，但名稱暗示其可能基於改進型ArF光源，瞄準110nm至65nm區間，意圖填補KrF與ArF之間的性能空白。此舉既是技術補課，更是商業防禦。佳能深知，在EUV和High-NA EUV被ASML壟斷、中國又無法獲得的情況下，未來五年全球新增晶圓產能中超過60%仍將集中在28nm及以上成熟節點。誰掌控了成熟製程裝置的性價比與交付能力，誰就握住了半導體產業的“基本盤”。成熟製程成新戰場，光刻機戰場硝煙再起ASML高踞雲端，專注尖端；尼康固守本土，勉力維穩；而佳能，則選擇在成熟製程的紅海中背水一戰。但這一次，它的對手不再是昔日的尼康或SVG，而是正在從“能用”邁向“好用”的中國光刻力量。14年沉寂之後，佳能亮出新劍，但能否斬斷中國半導體自主化的上升勢頭？答案或許不在東京，而在上海、北京與合肥的潔淨廠房之中——那裡，國產光刻機正以每月數百小時的實測資料，悄然改寫全球裝置競爭的底層邏輯。 (晶片研究室)

01前沿導讀據《日經中文網》新聞指出，日本光刻機廠商佳能準備在2026年發售新一代的KrF光刻機裝置，該裝置的晶圓處理效率為每小時400片以上，相較於上一代裝置提升了30%。這是時隔14年之後，佳能首次對製造成熟晶片的光刻機進行技術升級，並且佳能宣佈隨後會繼續推出更先進的AfF乾式光刻機裝置，其主要目標就是搶佔成熟晶片市場。02裝置競爭據《中商產業研究院》所整理的資料顯示，在全球光刻機市場當中，ASML掌控著62%的總市場份額，其次是佳能佔比31%，最後是尼康佔比7%。在所售光刻機當中，銷量最多的是248nm波長的KrF光刻機，其次是更古老的365nm波長i線裝置。而193nm波長的先進ArF光刻機，以及13.5nm波長的EUV光刻機，加在一起也只有22.7%的總數量佔比。從整體的市場銷售來看，ASML掌握著絕對話語權，在先進裝置領域幾乎沒有對手。雖然EUV光刻機的銷量只有總產業銷量的7.2%，但是其創造的利潤價值是無法估量的數值。佳能憑藉著奈米壓印技術在儲存晶片領域佔據一定市場，也因為佳能選擇押注奈米壓印技術，所以佳能到目前為止並沒有ArF光刻機，只有一些技術成熟的KrF和i線裝置。尼康則是與佳能相反，並沒有跟佳能一樣走奈米壓印路線，反而是跟隨ASML採用ArF浸潤式技術。不過由於尼康總部的決策速度太慢，導致ASML已經在ArF領域取得了絕對統治權，尼康現在的光刻機銷量絕大部分都是本土企業或者海外的合資工廠改採購，市場空間極其有限。據《佳能中國》資料顯示，佳能曾在2021年的上海半導體展會上面發佈了多款光刻機產品。其中包括了i線光刻機和KrF光刻機，可以製造功率器件、通訊器件等多種半導體產品。同時還發佈了應用於封裝環節的i線步進光刻機、製造顯示面板的光刻機，以及佳能安內華公司提供的配套零部件。彼時的中國晶片產業已經被美國封鎖了EUV光刻機和相關的製造裝置，中國本土的光刻技術無法滿足於國內企業的需要，產業出現了技術斷層。佳能在這個時期向中國市場上投放大量製造裝置，一方面可以有效解決中國晶片產業缺少裝置的困境，另一方面也可以借此機會通過中國市場來賺取利潤，吃掉一部分本該屬於ASML的市場空間。03成熟晶片2024年9月，中國工信部正式對外公佈了中國新一代光刻機裝置的技術指標。總共有兩種新裝置，一種是248nm波長的KrF氟化氪光刻機，一種是193nm波長的乾式ArF氟化氬光刻機，其乾式ArF光刻機的硬體水平相當於ASML在2015年推出XT：1460K。這兩款產品的發佈，標誌著中國光刻機產業迎來了新一輪的技術更新。雖然整體的技術指標對比ASML的產品差距很大，但是對於銷售成熟節點光刻機的尼康和佳能來說，有著直接衝擊。根據佳能工業部門的資料顯示，除奈米壓印光刻機之外，在傳統光刻機領域，佳能最先進的i線光刻機為FPA-5550iZ2，解析度350nm，套刻精度25nm。最先進的KrF光刻機為FPA-6300ES6a，解析度為90nm，套刻精度為5nm。雖然佳能KrF裝置的套刻精度比中國光刻機更高，但是其裝置的解析度要比中國光刻機低很多。從技術與商業的兩個維度看，佳能的i線裝置與KrF裝置，均已經在技術指標上被中國公佈的國產光刻機趕超。ASML統治著先進光刻機市場，尼康憑藉著略差一些的ArF光刻機也可以維持市場，現在只剩下佳能徘徊在產業邊緣。佳能所持有的奈米壓印裝置由於其技術特殊性，目前只被用於製造儲存晶片和特色工藝晶片，無法應用到邏輯晶片上，而佳能出貨量最多的i線和KrF裝置，又被中國製造的光刻機所趕超。如果佳能拿不出水平更高的傳統裝置去搶佔市場，那麼等中國光刻機在國際市場上全線鋪開，佳能所面臨的抉擇只有兩個，要麼將傳統裝置市場讓給其他企業，要麼拿出更高水平的裝置打敗對方。 (逍遙漠)

佳能2011年進入後工序光刻裝置市場，目前幾乎壟斷了半導體巨頭使用的後工序光刻裝置。阿斯麥在前工序領域佔絕對優勢，其涉足後工序對佳能構成了威脅。尼康也計畫推出後工序光刻裝置……使用尼康面向後工序的光刻裝置製作的中間基板（2025年12月）全球最大的光刻裝置廠商荷蘭阿斯麥控股（ASML Holdings）已涉足半導體製造過程中組裝最終產品的“後工序”。推出了用於在晶片之間的連接層上繪製布線的裝置，向幾乎壟斷這一領域的佳能發起挑戰。尼康也計畫2026年度實現量產。為了提高最尖端半導體的性能，後工序的重要性日益突出，裝置廠商之間的競爭愈發激烈。在面向AI的半導體中，把圖像處理半導體（GPU）和儲存器等多個晶片組合在一起工作的“先進封裝”技術正逐漸得到普及。阿斯麥已於2025年9月前開始出貨專用於先進封裝的光刻裝置，似乎已交付給全球領先的半導體企業。對於在晶圓上描繪微細電路的“前工序”光刻裝置，阿斯麥已壟斷了面向AI半導體的市場。由於後工序也需要先進技術，市場正在擴大，因此阿斯麥決定進軍這一領域。阿斯麥在採訪中表示：“這不是在現有市場上的單純競爭，而是通過創新的解決方案來滿足新需求”。據說，阿斯麥已開始供貨的“XT:260”的生產效率是前工序用光刻裝置的4倍。此外，能夠處理比前工序更厚的基板，並能減少由於多個晶片疊加而產生的基板翹曲問題。光刻裝置是把電路圖案刻印在晶圓上的裝置。為了在後工序中連接多個晶片，需要在晶片與印刷基板之間形成名為“中間基板”的新布線層。光刻裝置的技術被轉用於繪製這種布線。佳能率先抓住這一潮流，在2011年進入後工序光刻裝置市場。目前佳能幾乎壟斷了半導體巨頭們使用的後工序光刻裝置。在後工序裝置的推動下，佳能2025年的光刻裝置銷量達到241台，5年內幾乎翻了一番。阿斯麥在前工序領域佔絕對優勢，其涉足後工序對佳能構成了威脅。佳能的常務董事武石洋明表示：“雖然我們認為自己有優勢，但性能差距可能會逐漸縮小。裝置能否解決後工序特有的需求才是關鍵”。尼康也計畫在2027年3月之前推出後工序光刻裝置。佳能的裝置採用轉印原有電路圖案的“光掩模”（Photomask）方式，尼康採用無需掩模的“數字曝光”（Digital Exposure）技術。因面向後工序的需求擴大，佳能新建的半導體製造裝置生產廠房（位於宇都宮市）新裝置也更易於滿足封裝大型化的需求。隨著晶片數量增加，用於承載晶片的中間基板也在變大。過去是從直徑300毫米的圓形矽晶圓切割而來，未來預計將更多採用從浪費更少的大型方形基板切割的方式。在光刻裝置以外，進入先進封裝裝置市場的企業也在增加。松下控股（HD）開發了垂直堆疊晶片的裝置，能滿足AI半導體的需求，計畫2027年銷售。在先進封裝領域，“3D堆疊”技術比平面連接晶片的方式更能縮短布線長度。由於布線電阻減小，功耗最多可減少一半，同時單個晶片的處理能力也會提升。台積電、英特爾、三星電子等在先進封裝領域競相開發技術。各家企業在中間基板的大小、材料、設計方法等方面展開開發競爭，並推動各自技術的標準化。與前工序不同，後工序技術開發的方向尚未明確，裝置廠商還需要具備捕捉行業趨勢和需求的能力。 (日經中文網)

大日本印刷開發的面向1.4奈米半導體的電路原版“範本”佳能的“奈米壓印（Nanoimprint ）”製造裝置採用類似蓋印章的方式在晶圓上製作電路。大日本印刷開發出了相當於精細印章的電路原版“範本（template）” ，最高可用於1.4奈米製程……大日本印刷（DNP）開發出了能以十分之一的耗電量生產先進半導體的技術。將面向佳能生產的新方式製造裝置，於2027年量產可支援新一代1.4奈米（1奈米為十億分之一米）產品的核心構件。人工智慧（AI）半導體的製造成本有大幅降低的可能性。目前，要量產最先進的半導體，需要使用全球只有荷蘭阿斯麥控股（ASML Holdings）生產的極紫外（EUV）光刻機。在晶圓（基板）上繪製電路的“光刻工序”佔半導體總製造成本的3至5成。電路越精細，光刻次數就越多，耗電量也隨之增加。一台EUV光刻機的價格為300億日元左右，給半導體廠商帶來沉重的投資負擔。而佳能的“奈米壓印（Nanoimprint ）”製造裝置採用類似蓋印章的方式在晶圓上製作電路。大日本印刷開發出了相當於精細印章的電路原版“範本（template）” ，最高可用於1.4奈米製程。此前該技術無法支援2奈米等先進半導體的製造。製作範本時，需要使用光刻技術。此次重新篩選了材料並調整設定條件，還採用了可使半導體電路密度翻倍的“雙重圖形化（Double Patterning）”技術。佳能從2023年開始銷售奈米壓印裝置。與需要使用強光源來轉印電路圖案的EUV光刻機相比，耗電量更低。預計單台裝置的價格為幾十億日元，引進費用遠低於EUV光刻機。不過，由於是直接接觸範本來繪製電路，如果混入雜質，就容易出現缺陷。同時還面臨需要提高處理速度等課題，目前僅儲存器大型企業鎧俠控股等引入這種裝置用於驗證用途，尚未在量產線中採用。1.4奈米半導體將用於AI資料中心及自動駕駛領域，發揮大腦的作用。台積電（TSMC）打算2028年開始量產1.4奈米半導體，韓國三星電子計畫2027年量產，兩家企業都對奈米壓印裝置表示感興趣。各企業的現有半導體工廠均以引進光刻機為前提設計，採用奈米壓印裝置的門檻較高。要在新建工廠等情況下引進這種裝置，必須證明其具有較高的經濟性與實用性。過去，佳能和尼康兩家日本企業在光刻機市場佔據了超過一半的全球份額。但阿斯麥在製程精細化競爭中取得了勝利，目前佔據了全球9成市場。如果未來奈米壓印裝置市場擴大，日本企業有望東山再起。大日本印刷等材料廠商也有望入局。富士膠片控股已表示將通過在繪製電路時塗在晶圓上的材料來涉足這一市場。佳能已於2024年向美國德克薩斯州及英特爾等半導體企業參與的官民合作組織“Texas Institute for Electronics（德克薩斯州電子研究所）”首次提供奈米壓印裝置。能否與EUV光刻機形成共享市場的格局，將成為備受關注的焦點。 (日經中文網)

2025年11月21日，佳能在中國重要的印表機生產基地——佳能（中山）辦公裝置有限公司生產車間的流水線停止了運轉。三天後，員工們收到了正式公告：公司停止生產經營。這個已經在中國深耕二十餘年的廠區，曾被視為珠三角工人眼中的“鐵飯碗”。如今，這個鐵飯碗被砸得粉碎，而佳能印表機也開始逐漸成為中國市場裡的一個“小眾品牌”。。佳能印表機並不孤單。實際上，日本製造退出中國市場在近些年已經儼然是一種常態：幾天前，日本養樂多本社宣佈，已經在華23年的廣州第一工廠於11月30日關停。而去年12月，養樂多已經關停了營運了20年的上海工廠。今年8月，索尼Xperia官方微信公眾號悄然註銷，宣告其手機業務正式退出中國市場。今年7月，三菱徹底退出中國市場，不僅整車不賣了，連與瀋陽航天三菱合作的發動機業務也按下停止鍵。這些曾經在中國市場叱咤風雲的日本品牌，當初曾像中國製造的老師們一樣，成為國內企業的競相學習的標竿。如今中國企業正在完成向高端領域的推進，日本製造在中國也到了最終謝幕的時間節點。01 清單時間倒回2012年3月15日，佳能（中山）辦公裝置有限公司新廠區啟用儀式在中山火炬開發區隆重舉行。其官網資料顯示：新工廠於2010年開工建設，該基地以高端彩色雷射印表機為主打產品，基地內不僅擁有超大規模廠房，還配備了運動場館、電影院、電子閱覽室、電梯宿舍樓等。僅憑這樣堪稱豪華的廠區條件，就足以吸引無數打工人紛至沓來。公開資料顯示，該工廠人數最多時，曾經超過萬人。同樣在2012年，同在廣東的廣汽三菱成立，由廣汽集團、三菱自動車工業株式會社、三菱商事株式會社三方合資經營，成為三菱汽車在中國市場開拓的重要舉措之一。此後，三菱汽車銷量一路猛增。到2018年，廣汽三菱年銷量達到14.4萬輛的歷史巔峰，僅歐藍德一款車型就貢獻了超過10萬輛銷量。三菱發動機在中國市場有口皆碑，巔峰時期曾佔據了國產車型的三成份額，包括吉利、長城、東風、北汽、東南、獵豹等都曾使用三菱發動機。三菱甚至有了“國產車教父”的稱謂。那幾年，同樣也是養樂多在中國市場高歌猛進的輝煌時刻。2012年，進入中國10年的養樂多，僅在廣州的日銷量就從最初的5.9萬瓶飆升至290萬瓶。到了2019年，養樂多在中國市場的日均銷量已經達到760.9萬瓶的峰值。這些輝煌的成績，如今都已成過眼雲煙。在佳能（中山）辦公裝置有限公司官網上，公司大事記還記錄著2022年“累計生產1億1000萬台”的字眼。2022年之後，大事記就再也沒有更新過。到今年閉廠時，該公司的員工只剩了1400多人。三菱的退出同樣黯然。2017年5月，航天三菱迎來第500萬台發動機下線。在過去的2016年，其當年全年發動機在華年產量達到75萬台，創歷史新高。但到了2024年10月，航天三菱的發動機下線數量才來到700萬台。這意味著這7年多的年均產量縮水65%以上。三菱汽車也在經歷了高光之後急轉直下，2019-2022年銷量分別為13.3萬輛、7.5萬輛、6.6萬輛、3.36萬輛。2023年10月24日，三菱汽車宣佈，三菱品牌汽車在中國的本地生產將終止。到今年7月22日宣佈，三菱汽車又終止與瀋陽航天三菱的合資合作關係，以及在該公司的發動機業務營運。這標誌著，三菱在中國的所有業務均宣告終止。養樂多雖然還沒有退出中國市場，但黃金時代也已經結束。2024年，養樂多在中國內地最高日銷量為443.9萬瓶，相比2019年少了近四成。2025年，這樣的頹勢不改，前三季度財報顯示，上海、廣州兩大業務主體銷量分別為上年同期的81.1%和88.7%。因此，一年之內養樂多相繼關閉了上海和廣州兩家工廠，就顯得順理成章。養樂多上海工廠而這樣在中國縮減規模甚至是需要徹底退出的判斷，在日本企業中已經蔓延開來。家電行業中，東芝早在2018年就將電視品牌授權出售，基本等同於撤離中國市場。就連最堅挺的松下，都傳出了要在今年“考慮出售電視機業務”的傳聞。在數位領域，奧林巴斯於2018年關閉深圳工廠。快消品領域的情況也基本類似。包括高端化妝品品牌MENARD美伊娜、日本高絲集團旗下品牌雪肌精、聯合利華旗下Tatcha、資生堂旗下日本男士護膚品牌SIDEKICK等紛紛撤離。02 潰敗很多人仍然對日本製造業企業的退出有想法，但可以明確的是，日本企業在中國市場的集體退場，並不是一場主動的戰略轉移，而是壓力所迫下的斷臂求生。這種經營壓力，有來自時代變遷和物競天擇下的無奈。如佳能（中山）辦公裝置有限公司公告閉廠的原因中，有提到如今中國無紙化辦公的增加，導致如今印表機市場規模萎縮。深圳奧林巴斯董事長、總經理小松享在《告部分員工書》中也寫道，關閉深圳工廠首要的原因就是“2008年以來，隨著智慧型手機的普及，數位相機市場規模逐漸萎縮，作為主力工廠的深圳工廠運轉率降至頂點時期的20%。”奧林巴斯數位相機曾是時尚潮品但日本製造的集體退潮，更多的原因還是其在中國市場的競爭力下降。而這種競爭力的下降，首要來自技術落差的消失。日本品牌在中國的集體繁榮期，恰逢中國本土製造的築基期。那個時候，中國市場宛如一塊未被開墾的土地，到處是蘊含財富的礦藏。但由於技術落後，中國企業只能幹些“挖土刨坑”的力氣活，日本企業卻憑藉技術優勢到處攻城拔寨。以印表機為例，在此之前真正能擁有印表機核心技術的國家只有美國和日本。甚至曾有觀點認為，中國能造原子彈，但造不出一台好的大型印表機。但如今，隨著中國製造不斷攻關，上述情況已經大為改觀，印表機就是其中之一。中國成為全球第三個擁有印表機核心技術的國家，並且迅速在市場上平替國外品牌。很不幸的是，佳能就是被代替的那個角色。2010年，國產印表機在中國市場的份額只有16%。而到2025年前三季度，中國雷射印表機市場本土品牌的份額為41.5%。而佳能品牌的份額已經下降至2025年前三季度的3.9%。性價比劣勢，是日企潰敗的第二個原因。養樂多所在的益生菌飲料賽道如今已人滿為患——包括蒙牛的優益C、伊利的每益添、君樂寶的每日活菌等等的國產產品，都在以更高的性價比不斷蠶食養樂多的市場。養樂多100毫升賣3元左右，而國產飲料350毫升只賣5-6.5元。更關鍵的是第三點：日本企業的心態停留在了賣方市場，明顯缺乏為中國做出改變的意願。三菱汽車在主力車型歐藍德大賣之後，就一直改款吃老本，六年沒出過真正的新車款。當中方團隊提出開發加長軸距車型時，日方高管的回應是“三菱不需要為中國市場改變”。三菱汽車老款歐藍德養樂多也面臨了同樣問題。近年來無糖已成為中國飲料市場的大趨勢，GlobalData資料顯示，2023年中國低糖飲料增長39.6%。但養樂多始終堅持自己的高糖配方，未能適應中國市場變化。日本企業在中國市場的固執，源於其根深蒂固的製造業優越感。日本製造往往可以給到消費者很好的產品，但也容易忽略消費者的需求，以及競爭對手更具差異化的產品策略。當某些行業進行跨時代變革的時候，對傳統的固守就會成為掣肘企業升級的反作用力。03 強勢將日本企業在中國的退場定義為“敗走”，多少是有些片面的。仍需要清醒認識到，日本製造只是在中國市場遭遇挫折，其全球市場競爭力仍然相當強大。例如雖然佳能印表機在中國市場衰落，但根據IDC資料，2023年全球印表機市場中，佳能仍佔據22%的市場份額，僅次於惠普的35%。相比之下，中國品牌在全球市場的佔比仍微乎其微。佳能列印裝置佔全球市場22%日本汽車行業的盈利能力，更值得中國車企為之側目。2024年，比亞迪、長城汽車等18家主要上市車企的淨利潤總和不到800億元，僅相當於豐田的三分之一。豐田每賣一輛汽車能賺2.3萬元，而自主品牌平均單車利潤不到其一半。這意味著日本製造業在全球範圍內仍具有強大競爭力。甚至從某種意義上來說，正因為日本企業在全球範圍內廣泛佈局，才讓他們對中國市場沒有足夠的敏感性，因而在專注本地市場且策略靈活的中國企業面前，顯得更加遲鈍和缺乏變化。所以對中國企業而言，在家門口超越“老師”和“對手”確實是一個大成就，但這遠非終點。真正的戰場在更為廣闊的全球化市場。日本車企在全球市場仍有優勢在這方面，中國家電業已經做出了榜樣。中怡康資料顯示，2020年國內冰箱、洗衣機、空調市場，本土品牌的零售額份額達到78%、71%、93%，外資品牌份額僅22%、29%、7%，中國本土品牌在家電市場已具有絕對優勢。04 寫在最後曾經象徵著精密、可靠、工匠精神的“日本製造”光環，正在中國消費者心中逐漸褪去。一個個熟悉的日本品牌，也在這個過程中逐漸成為我們的某些記憶。這正是中國製造賦予這個時代人們獨特的體會之一，也是所有中國製造業企業、中國製造業工人的一個榮譽。但這並非是所有故事的終點。對中國製造業企業來說，日本企業大規模退出中國不會是全球製造業的終局，而應該是另一個更加宏大故事的開始：中國品牌在全球競爭日本和其他國家的產品，最終站上全球經濟商業舞台的最中央。 (巨潮WAVE)

01 前沿導讀據美國半導體技術機構SemiAnalysis所發佈的專欄報告指出，日本佳能的奈米壓印（NIL）技術在國際晶片領域被冠以“匹敵甚至超過EUV的能力”，從理論上來說，奈米壓印可以達到甚至是超過EUV光刻機的曝光解析度，並且裝置的製造成本比EUV光刻機更低。但是奈米壓印技術存在多種問題，例如零件的損耗、多層圖案的對齊精度、製造邏輯晶片的良品率等問題。日本的奈米壓印裝置與ASML主導的傳統光刻裝置不同，儘管美國也對日本企業實施出口管制，但奈米壓印裝置還可以進行出口。如果中國企業在EUV領域的進展緩慢，那麼與日本佳能合作，嘗試使用奈米壓印技術製造晶片，也是一條可行的技術路線。02 奈米壓印奈米壓印與光學光刻的核心理念是一致的，都是將掩範本上面的圖案轉移到晶圓上面。先進行多層的圖案化疊加，然後進入到刻蝕、沉積等工藝步驟，最終完成整個晶片之後進入封裝環節。只不過光學光刻使用光源透過光縫快速掃描印刷，而奈米壓印則是使用一種特定的“印章”，將圖案進行機械化印刷，這兩種技術存在本質上的差別。奈米壓印技術，最早是由美國普林斯頓大學的華人科學家周郁在1995年提出的技術。2001年，奈米壓印從學術界逐步過渡到商業化的範疇，成立了分子壓模公司 (Molecular Imprints Inc.），開始將奈米壓印技術應用在製造半導體晶片上。2014年，在日本佳能公司收購了分子壓模公司之後，又聯合了日本印刷株式會社、鎧俠控股等多個企業共同開發奈米壓印的晶片製造技術。並且佳能將奈米壓印技術定義為ASML EUV的替代方案，企圖用這種方法來縮短與ASML的技術差距。目前為止，全球的晶片製造格局變成了ASML、尼康、佳能三家比拚，中國企業緊隨其後。ASML持有浸潤式DUV光刻機和EUV光刻機這兩大王牌裝置，尼康走的是傳統光刻，旗下有乾式DUV和浸潤式DUV裝置，但裝置的技術水平落後於ASML。佳能擁有乾式DUV光刻機，並且還持有已經商用的奈米壓印裝置。2023年10月13日，佳能宣佈推出型號為“FPA-1200NZ2C”奈米壓印光刻機裝置。據佳能表示，該裝置的硬體能力支援最小線寬14nm的晶片製造，相當於是邏輯晶片的5nm節點。隨著掩模技術的提升，該裝置可以實現2nm節點的邏輯晶片製造，並且其技術成本要比ASML的EUV裝置低很多。03 現存問題佳能的奈米壓印裝置已經交付給了鎧俠集團和鎂光科技，用於製造快閃記憶體晶片。儲存晶片與邏輯晶片存在本質上差別，儲存晶片的結構簡單，重複度高，對於掩模的要求較低，甚至幾百層的圖案結構都是一致的。而邏輯晶片涉及到CPU、GPU、NPU等多種電晶體的圖案設計，其每層的電路圖案都不一樣，這對於掩模和裝置精度要求很高。奈米壓抑的機械印章非常細小，其尺寸相當於人類頭髮的橫截面。現在使用這個裝置每秒壓印一次晶片，只要是機械印章出現一丁點的缺陷或者是損耗，這都會直接影響晶片的良品率。傳統光學光刻所使用的掩範本，其使用壽命支援光刻100000個晶圓，而奈米壓印所使用的掩範本壽命遠低於光學掩範本。想要解決這個問題，就必須投入資源去開發適配的材料，不但成本高，而且耗時長，這也是奈米壓印遲遲沒有製造邏輯晶片的原因之一。我們將目光投向中國大陸市場，杭州璞璘是中國唯一一家深耕奈米壓印技術的企業，由該公司製造的PL-SR系列奈米壓印裝置已經在2025年8月份正式交付給客戶使用。並且該公司的創始人葛海雄先生，師從奈米壓印技術發明人周郁博士，具備20年以上的技術開發經驗。根據璞璘公司的資料顯示，該裝置是迄今為止唯一在國內初步實現20nm以下高端晶片所需的奈米壓印裝置。並且公司還向市場供應了包括範本複製膠、耐刻蝕型奈米壓印膠、刻蝕傳遞膠、光學奈米壓印膠、耐腐蝕奈米壓印膠、增粘膠、防粘試劑在內的40余種製造材料，建立起一條全新的晶片產業鏈。佳能在硬體裝置上，對比中國現存的產品具備明顯優勢。但中國企業的路線是押注傳統光學光刻和奈米壓印光刻兩種技術路線，並且這兩種技術路線平行研發。在無法獲取EUV裝置的前提下，奈米壓印技術是一個可以嘗試的技術方案，但奈米壓印現存的問題就是製造先進邏輯晶片的損耗大、良品率低，可以當做備選方案，光學光刻技術依然是主流的選擇。 (逍遙漠)

佳能近一年營運明顯轉強，單月營收屢創新高，第三季單季獲利已超過上半年總和。董事長章孝祺表示，未來三年公司營運將逐年成長，主力產品包括 360 度環景攝影機、複合式相機與數位相機，同時積極發展人工智慧（AI）影像與機器視覺新產品線，目標三年內挑戰年營收百億元，讓整體獲利結構更穩健。在技術面，佳能累積龐大的影像訓練資料，結合自家研發的多光軸光學校準技術與邊緣端 AI 辨識功能，能針對不同應用客製化生產設備。與多數業者使用標準機台不同，佳能會依魚眼鏡頭或廣角鏡頭等特殊用途自行打造調校平台，讓影像在鏡頭端就能完成校正再傳輸，提升良率與穩定度。這項技術已應用於智慧監控、車用輔助駕駛（ADAS）與環景攝影機等領域，成為公司拓展新市場的重要基礎。新成長動能來自機器人與無人機兩大領域。機器人方面，佳能已接獲美國 Mantis Robotics 的近接感測器訂單，並與獲得輝達（NVIDIA）投資的人形機器人公司 Agility Robotics 合作，開發專用的機器視覺模組。由於一台人形機器人通常需要 8 顆以上高單價鏡頭，相關零組件的營收貢獻遠高於傳統光學產品。無人機方面，佳能鏡頭模組已開始小量出貨，量產時程明確，客戶涵蓋歐美及中國主要無人機品牌，並規劃未來逐步延伸至整機製造，擴大營運彈性。展望 2026～2027 年，佳能設定「機器人視覺＋無人機」營收占比將於 2026 年達 5～10%，2027 年挑戰 20%。憑藉 30 年光學經驗、AI 影像資料庫優勢與客製化技術實力，佳能正從傳統鏡頭代工轉型為智慧光學解決方案供應商。整體來看，既有產品穩定、AI 應用快速擴散，加上新市場陸續開花，雙引擎將成為未來三年推動佳能持續成長的關鍵力量。想第一時間知道哪些股票可以逢低進場，請先加入慶龍老師官方 LINE，輸入 @ai8085 或點擊文章下方連結。盤中 & 盤後會有二通免費 CALL 訊，帶你掌握現在看見未來。每天二+一則即時解盤資訊 官方LINE: https://lin.ee/uLNWaPWe持股健診直接加LINE ID:@ai8085

分享一份佳能於2025年4月發佈的年度綜合報告，覆蓋集團 334 家合併報表公司（日本 60 家、海外 274 家），系統呈現佳能在四大業務類股（印刷、醫療、影像、工業）的經營成果以及 ESG（環境、社會、治理）領域的核心舉措，並闡釋佳能應對市場變革、實現可持續增長的戰略思路。報告主要內容企業理念與CEO總結各業務類股價值創造戰略ESG核心經營資料關鍵資訊摘錄聚焦電子行業製造解決方案工業業務是佳能增長最快的核心類股，聚焦電子行業製造解決方案，包括半導體光刻裝置（邏輯晶片、DRAM、功率半導體製造關鍵裝置）、顯示光刻裝置、OLED 製造裝置等。其核心技術奈米壓印光刻實現15nm 以下精細電路製造，成本更低、能耗僅為傳統技術的 1/10，已與鎧俠等企業合作開展量產驗證，應用場景覆蓋記憶體、邏輯晶片、光學元件。2025 年下半年推出ArF（氬氟化物）光刻裝置，覆蓋更先進的半導體製造流程。受益於AI 驅動的邏輯 / DRAM 需求、EV 驅動的功率半導體需求、先進封裝後端裝置需求，佳能工業業務2024年銷售額達3565 億日元，同比增長 8.3%；利潤達689 億日元，同比增長 17.6%。其他主要頁面展示(銳芯聞)