近日，項目總投資約50億元的上海圖雙精密裝備項目落戶越城，成為紹“芯”版圖上的又一塊新拼圖。
如果將晶片製造比作雕刻，那光刻機就是將雕刻線稿（電路圖）描繪在材料（晶圓表面）上的畫筆。它決定著晶片的工藝水平和性能，是製造半導體晶片的關鍵裝備。
近日，項目總投資約50億元的上海圖雙精密裝備項目落戶越城，成為紹“芯”版圖上的又一塊新拼圖。項目計畫分兩期實施。一期計畫投資約5億元，一期佔地面積35畝，用於轉移及擴大公司目前在上海的產能;二期計畫投資約45億元。兩期將實現年產50-100台半導體裝置的目標。項目正在建設中，預計2025年投產。
這家上海高新技術企業為何會將生產基地放在越城？上海圖雙董事長鐘敏道出了背後的原因。去年下半年，基於連年的業績增長，公司計畫在長三角地區籌建大型生產基地。經過幾次拜訪和對接，鐘敏被越城的滿滿誠意打動。“招商政策好，產業集聚性強，項目也有專人全流程服務，企業發展前景廣闊。”談及越城的營商環境，鐘敏給予了很高評價。
此次成功引入的上海圖雙精密裝備項目，不僅能根據市場需求研發生產國產光刻機，也能對國外光刻機進行定製化改造、偵錯。“光刻機比較精密，裝置的裝調是相當重要的環節。”鐘敏解釋道，超高的精密度要求是造成光刻機技術難以在短時間內取得突破的主要原因之一。以EUV光刻機為例，其零件數量超過45萬個，是一輛F1賽車的20倍以上。因而，光刻機從出廠，經船運或空運到達項目安裝地後，還需要幾個月的時間進行裝調。
目前，上海圖雙的技術能力和資源已覆蓋ASML、尼康、佳能三家公司的6英吋、8英吋、12英吋光刻機，能按照不同的晶片產品特性及工藝進行裝置再製造、技術匹配、工藝偵錯等定製化服務，從而更好地滿足本地積體電路產業的“芯”質生產，在持續提升晶片價值的同時降低製造成本，與“芯”友共同推動積體電路產業的崛起。
光刻技術作為半導體製造領域的關鍵工藝之一，在現代科技的浪潮下扮演著舉足輕重的角色。2022年全球半導體裝置市場規模達到了1076.5億美元，其中光刻機市場佔比約為24%，即258.4億美元。光刻機作為半導體製造過程中的核心裝置，其市場規模的擴大直接反映了全球半導體產業的繁榮程度。隨著技術的不斷進步和應用領域的不斷拓展，光刻機市場的規模將繼續保持增長態勢。
預測至2024年，全球光刻機市場規模將增至295.7億美元。這一增長主要得益於消費電子需求之外的新動能，如電動汽車、風光儲、人工智慧等領域對半導體產業的需求增長。隨著這些新興領域的快速發展，對高性能、高精度光刻機的需求也將不斷增加，從而推動光刻機市場的持續擴大。
然而，光刻技術的複雜性和技術難點也使得其成為了一個不容忽視的挑戰。隨著中國持續加大在半導體領域的投資和努力，中國的光刻機技術發展正取得著初步的突破，同時也面臨著一些尚需解決的問題。
光刻技術的難點主要體現在高精度、複雜製程、製程材料等方面。首先，隨著晶片製程的不斷提升，光刻技術需要更高的解析度，這意味著光刻機的光源、透鏡和機械部件都必須具備更高的精準度，以確保微米級以下的圖案製作精準無誤。
其次，光刻製程是一個涉及多個因素的高度複雜過程，需要實現嚴格的協調和控制。在光刻過程中，溫度、濕度、機械振動等因素都會影響製程的穩定性，因此需要實現精細的控制以確保產品一致性。
此外，製程材料的研發與選用也是光刻技術的難點之一。光刻膠、掩模材料等需要在特定的光學和物理條件下具備穩定性，以確保圖案的精準傳遞和再現。 (半導體產業縱橫)