前言： 今年一月，荷蘭ASML公司成功研發出首台High-NA EUV光刻機，並在公眾面前進行了首次開箱展示。 其創新技術能夠將世界上最尖端的晶片製程由3奈米進一步縮減至2奈米，為全球半導體產業帶來了劃時代的突破。 此次成果的亮相，標誌著半導體廠商正式開啟了2奈米晶片量產的新紀元。