一石激起千層浪！依照ASML先前的說法，3nm以下製程工藝都需要採用最新的High-NA EUV光刻機，那台積電憑什麼這麼自信可以用原有EUV光刻機製造1.6nm晶片呢？對於深陷「光刻機」困境的中國半導體及中國晶片產業又有什麼啟示呢？ 一、台積電多重曝光技術 相信關注半導體產業的都應該記得這張英特爾喜提High-NA EUV光刻機的照片，據說英特爾不僅購買首台，而且還包圓了今年ASML 5-6台高數值孔徑EUV光刻機的產量。 與激進的英特爾不同，台積電的風格似乎從來都是「謹小慎微」。