代工（半導體外包）行業領軍企業台灣台積電通過收購一家全球極紫外（EUV）光掩模製造公司的股份，加劇了即將推出的2 納米（nm）超精細工藝技術的競爭。 據業內消息人士及外媒13日消息，台積電近日召開臨時董事會會議，決議收購英特爾旗下奧地利EUV光刻設備光掩模製造商IMS 10%的股權。 台積電此次收購令業界感到意外。IMS在EUV光刻設備光掩模市場佔據主導地位，佔有98%的份額。英特爾於2016 年收購了IMS，並於2009 年進行了初步投資。去年6 月，英特爾將其約20% 的IMS 股份出售給私募股權公司貝恩資本。 光掩模包含半導體電路的設計。當光穿過光掩模時，圖案被蝕刻到矽芯片上。IMS 生產的“多光束掩模刻錄機”可以更精確、更快速地生產光掩模，被稱為半導體行業的遊戲規則改變者。