2024年9 月，佳能推出了首款商用版技術，該技術有朝一日可能會顛覆最先進的矽晶片製造工藝。這項技術被稱為納米壓印微影(NIL) ，能夠對小至14 納米的電路特徵進行圖案化，從而使邏輯晶片能夠與目前量產的英特爾、AMD和Nvidia處理器相媲美。 NIL 系統的優勢可能會挑戰目前主導先進晶片製造的1.5 億美元機器——極紫外線(EUV) 微影掃描器。如果佳能的預測正確，其機器最終將以極低的成本提供EUV 質量的晶片。 該公司的方法與EUV系統完全不同，後者由荷蘭ASML 公司獨家製造。這家荷蘭公司採用的工藝非常複雜，首先使用千瓦級雷射器將熔融的錫滴噴射成電漿體，發出波長為13.5 納米的光。然後，這種光線通過專門的光學元件穿過真空室，從圖案掩模上反射到矽晶圓上，將圖案固定在晶圓上。 相較之下，佳能的系統（已交付給美國國防部支援的研發聯盟德克薩斯電子研究所）似乎簡單得可笑。簡單來說，它將電路圖案印在晶圓上。