彭博：再禁2款舊DUV！徹底斷絕7nm、5nm？ ！

荷蘭政府於周五發佈了新的出口管制規定，這些規定將使ASML控股公司（ASML Holding NV）在出口某些機器時，需向荷蘭海牙政府而非美國政府申請出口許可證。

該新規於周五公佈，適用於ASML向中國出口其較舊型號的深紫外線沉浸式光刻系統（Deep Ultraviolet Immersion Lithography Systems），並將於9月7日正式生效。

彭博資訊報導，這套以國家安全名義實施的新規定訂於7日生效。

一、再對2款DUV出口管制！徹底斷絕7nm、5nm？ ！

在此之前，荷蘭政府已限制艾司摩爾對中國大陸出口先進裝置。

最新規定將影響另外兩種工具，包括TWINSCAN NXT：1970i和1980i深紫外光微影（DUV）系統，用於生產電腦晶片。

WINSCAN NXT：1970i和1980i深紫外光微影（DUV）微影機系統，DUV光刻機通常使用193nm波長的光源，單獨使用時可能難以直接生產7納米製程的晶片，但透過結合多重曝光等先進技術，理論上可以生產7nm、5nm晶片。

艾司摩爾發言人莫爾斯說：「由於這是技術性調整，這項宣佈不至於對本公司2024年財務展望，或我們在2022年11月投資者日允諾的長期目標，造成任何影響。」

二、新規背景與核心內容

背景分析：近年來，隨著全球科技競爭的加劇，半導體作為資訊技術的核心基礎，其戰略地位日益凸顯。荷蘭作為半導體製造裝置的重要出口國，其政策動向對全球半導體供應鏈具有深遠影響。這次荷蘭政府推出的新規，是在美國對華科技制裁不斷升級的背景下，對自身出口管制政策的重要調整。

核心內容：新規主要聚焦於對ASML公司特定產品的出口管制，特別是針對TWINSCAN NXT：1970i和1980i深層紫外光微影（DUV）系統。這兩款裝置是生產先進電腦晶片的關鍵工具，廣泛應用於全球多家半導體製造商的生產線。新規要求，ASML在出口這些裝置時，需向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可證，這一變化反映了荷蘭在維護自身出口管理自主權方面的決心。

三、新規對ASML及全球半導體產業的影響

對ASML的影響：儘管ASML發言人表示，此次調整屬於技術性調整，不會對公司的財務展望和長期目標造成顯著影響，但實際上，新規的實施無疑增加了ASML在出口審批過程中的複雜性和不確定性。一方面，荷蘭政府可能會根據國家安全利益，對特定出口申請進行更嚴格的審查；另一方面，這也可能促使ASML在供應鏈佈局上進行調整，以應對可能的出口限制。

對全球半導體產業的影響：首先，新規將進一步加劇全球半導體供應鏈的緊張局勢。由於ASML的裝置在全球半導體生產中佔據重要地位，任何出口限制都可能影響相關企業的生產計畫和產能佈局。其次，新規可能促使其他國家和地區加快自主研發和生產半導體製造裝置的步伐，以減少對外部供應鏈的依賴。最後，這也將引發對國際貿易規則和全球科技治理體系的深刻反思，促使各國在維護自身科技安全的同時，尋求更平衡、更包容的國際合作模式。

四、應對策略

隨著全球科技競爭的持續加劇，半導體產業的國際合作與競爭將呈現出更加複雜多變的態勢。荷蘭新出口管制政策的出台，既是對當前國際情勢的回應，也是對未來發展趨勢的一種預判。未來，各國在半導體領域的競爭與合作將更加緊密地交織在一起，形成既競爭又合作的複雜格局。

因應策略：對於ASML等半導體製造裝置企業而言，應密切關注國際政策動態，並加強與各國政府的溝通與合作，確保自身在全球供應鏈中的穩定地位。同時，加大研發投入，推動技術創新與產品升級，提升自主可控能力。對於全球半導體產業而言，則需要加強國際合作與協調，共同維護供應鏈的穩定與安全，推動全球半導體產業的健康發展。此外，各國政府也應秉持開放合作的精神，加強對話與協商，共同建構更公正合理的國際科技治理體系。 （芯榜+）