中國國產光刻膠重磅突破！

該款光刻膠產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列，業內人士認為，其對標產品是“很常用的膠”，門檻不算高。

光刻膠產業化再度傳出利多。

據東湖國家自主創新示範區官網今日（10月15日）消息，近日武漢太紫微光伏科技有限公司（下稱“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計。

該產品“對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較於國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限解析度達120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜後烘留膜率優秀，其對後道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異”。

據悉，太紫微公司由華中科技大學武漢光伏國家研究中心團隊創立。該團隊立足於關鍵光刻膠底層技術研發，在電子化學品領域深耕二十餘載。武漢光伏國家研究中心是科技部於2017年批准建設的第一批，也是唯一的一批6個國家研究中心之一，其前身為2003年獲批的武漢光伏國家實驗室（籌）。

值得注意的是，天眼查資訊顯示，太紫微公司成立於2024年5月31日，註冊資本200萬元，實控人為朱明強，最終受益股份77%。

除了朱明強本人外，太紫微公司的另外兩家股東，湖北高碳光伏科技有限公司、武漢市馬斯洛普管理諮詢合夥企業，朱明強則分別持股100%和8%。

華中大學官網資料顯示，朱明強為華中科技大學武漢光伏國家研究中心二級教授，光學與電子資訊學院雙聘教授。主要研究領域為有機及納米光伏子學，研究方向包括集中於光刻製造、有機納米光伏子學和超解析度成像。

▌太紫微公司的KrF光刻膠產品，是什麼水平？

一位光刻膠廠商人士向《科創板日報》記者表示，中國國產對標國外廠商UV1610產品的光刻膠量產確實是個好消息。

不過，在KrF系列光刻膠產品中，T150 A對標的UV1610產品算是“很常用的膠”，門檻不算高，但由於常用所以需求量會比較大。UV1610產品北京科華、徐州博康等中國廠商都有能力生產。

從市場競爭情況來看，“UV1610這一款產品，實際留給其他廠商的市場空間並不多。”據上述人士稱，目前北京科華直接代理了UV1610的原廠，主要為原廠提供代工，其他廠商“玩不了”。而徐州博康主打配方和生產“全中國國產”，有能力做UV1610，不過目前重心更多放在BARC（底部抗反射塗層）產品上。

其進一步指出，太紫微光稱其產品已通過半導體工藝量產驗證，並實現配方全自主設計，但最終成效還是要看市場與客戶的反饋。據介紹，光刻膠產品在客戶端驗證周期通常需要2年。

▌中國國產光刻膠走到了那一步？

目前，中國半導體光刻膠中國國產化率仍處於較低水平。資料顯示，其中KrF、ArF光刻膠對外依賴最為嚴重，中國國產化率均僅在1%水平。

西部證券指出，中國半導體光刻膠市場超90%主要依賴進口，本土廠商雖起步較晚，但目前處於中國國產化加速期。彤程新材、華懋科技、晶瑞電材、上海新陽等中國公司均有G/I線、KrF、ArF膠佈局，開發重點為普適性光刻膠和技術難度較低的成熟製程光刻膠，使產品匯入後能大範圍應用，在產品開發和驗證上持續與下游晶圓廠進行積極協作。

據《科創板日報》不完全統計，中國已有多家公司有KrF光刻膠產品佈局：

上海新陽稱，KrF光刻膠已有銷售，銷量逐步增加，合肥工廠目前在試生產階段；晶瑞電材多款KrF光刻膠已量產並供應多家半導體客戶。

另外，鼎龍股份稱已開發出7款KrF光刻膠產品，包括1款能達到KrF極限解析度120nm L/S 和130nm Hole的光刻膠；八億時空上海半導體項目已成功實現KrF光刻膠用PHS樹脂百公斤等級的量產；飛凱材料光致抗蝕劑產品包括應用於半導體領域的i-line及KrF光刻配套Barc材料。

“從根本上來說，中國國產光刻膠的上游原材料還是要依靠進口，需要突破的是配方，目前中國國產的光刻膠原材料配方穩定性等較國外有差距。”還有光刻膠從業者向《科創板日報》記者表示，“除了原材料配方之外的技術領域的突破，難度並不算大。”

有新材料領域產業基金投資人士分析認為，“從細分維度來看，原材料、配方這兩大因素較為關鍵。像降本、突破性能指標，匹配下遊客戶等需要依靠這兩部分實現突破。在此基礎上，再是生產工藝、裝置等方面突破，這些會對降本等產生直接影響。”

另有新材料領域投資人士持有相似觀點並表示，中國現在主要研究的是光刻膠原材料配方。‌“相較於技術突破，更值得關注的是這家公司（太紫微公司）使用的主料、輔料都是那裡採購的。目前，中國企業在光刻膠原材料方面存在一定的進口依賴，中國相關光刻膠原材料基本都從日本進口。不排除釋放這種消息（小K註：指太紫微公司光刻膠產品通過半導體工藝量產驗證），是為企業造勢的可能。” (科創板日報)