ASML 技術護城河

ASML的EUV光刻技術實現了極高精度，其機器運輸需大量資源，總成本高達2.5億美元。關鍵技術包括將雷射發射至錫滴產生電漿體光源，該過程每秒執行5萬次，熱量達太陽表面40倍。EUV機器還依賴超光滑鏡子，精度極高。

ASML的技術進步支援摩爾定律，使半導體更先進，助力如NVIDIA等公司製造複雜晶片。ASML在光刻領域領先，技術護城河深厚，其他公司難以超越。

1.首先，這裡有一個視訊，代表ASML技術👇

2. ASML實現幾乎難以想像的精度。

這種精度（EUV）需要花費 2.5 億美元：

- 40 個集裝箱

- 20輛卡車

- 3 架大型噴氣機

運輸1台EUV機器。

3. 以下是光刻工藝的一些關鍵部分：

- EUV 機器的光源是將雷射發射到大約一粒花粉大小的錫滴上。

- 你必須敲擊這些錫滴兩次。一次擊平錫滴，一次將其蒸發成電漿體。

- 這個汽化過程需要的熱量是太陽表面熱量的 40 倍（太陽表面溫度為 5,500 攝氏度）。

4. 為了使這個過程更加複雜......

- 上述操作每秒必須執行 50,000 次，這意味著該過程每 0.00002 秒發生一次。

這就是為 EUV 機器建立光源的過程。那麼用於聚焦光線的鏡子呢？

5. ASML鏡子：

這些鏡子光滑得令人難以置信。

如果這些鏡子和德國面積一樣大，那麼最大的瑕疵也將小於一毫米。

這意味著它們的精度可以讓你從地球上發射一束雷射擊中月球上的乒乓球。

6. 摩爾定律很大程度上依賴於ASML

如果ASML能夠繼續推進其技術，我們將繼續獲得更先進的半導體，這將使輝達（nvidia）製造的晶片能夠執行比現在更複雜的演算法。

7. 無人接近ASML

你可能已經猜到了，在光刻領域沒有人能接近ASML ——他們的護城河在另一個層面上。

以下是總結，解釋了原因👇

以上內容為翻譯，僅供參考學習 (芯榜+)