天價光刻機正式投產！

近日，英特爾砸了約7億美元（約人民幣50.8億元），把ASML的首批兩台High NA EUV光刻機搬進了自家工廠，已經正式投產！

這可不是普通的機器，一台的售價就高達3.5億美元，約25.4億元，兩台裝置就超過了50億元，貴的離譜。它高得能塞滿一間會議室，每小時能“列印”185片晶圓，一個季度就能吐出3萬片，直接塞進幾千顆晶片。如此龐大的體積下，也融合了數量更多、規格更精密的零部件。而且可靠性、量產效率等也遠高於上一代裝置。

更誇張的是，它能把原本需要三次曝光、40道工序的活兒，硬生生壓縮到一次曝光、幾步搞定，達到產能和良率提升，減少製造每片晶圓的能耗，活脫脫像個“晶片製造界的閃電俠”。

在初步測試中，ASML的新型High NA EUV裝置可靠性大約是上一代的兩倍。新的ASML EUV裝置使用光束將特徵列印到晶片上，也可以使用更少的曝光完成與早期裝置相同的工作，從而節省時間和錢。

英特爾計畫使用High NA EUV裝置來幫助開發Intel 18A（1.8nm）製造技術，該技術計畫於今年晚些時候與新一代PC晶片一起量產。而借助這些裝置，英特爾也有望在2026或者2027年，進一步提升晶片製程工藝技術，實現14A製程技術的量產。 (半導體技術天地)