9月17日消息，據報導，在近前的峰會上，黃仁勳回應了主持人提問的中國什麼時候能搞定先進光刻機，黃仁勳判斷中國到2030年就能做出自己的先進光刻系統！
他還提到一旦技術成熟，中國公司就有很強的大規模生產能力，國產裝置進入本土晶圓廠只是時間問題。
國外對中國光刻機的進展一直是非常關心的，在這方面各種表態都有，有意思的是前不久蔡司半導體負責人Frank Rohmund也回答了類似的問題，表示中國要做出國產EUV光刻機可能還需要約15年。
相比之下，黃仁勳的判斷更樂觀，不過這兩個回答之間也沒有可比性，蔡司回應的是EUV，黃仁勳說的是先進光刻機，EUV當然是先進光刻機，但DUV依然也是先進光刻機，2030年也不會落伍，重要性也不會因為EUV量產了就降低，兩種技術是獨立的生態。(國芯網)