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黃仁勳、陳南翔評價華為“韜(τ)定律”
近期,華為提出的半導體全新“韜定律(Tao)”在國內半導體圈引發熱烈討論,這套新技術路線徹底打破了傳統晶片製程迭代邏輯,成為行業關注焦點。該技術主打依託3D堆疊、先進封裝以及架構整合等核心方式,無需依賴EUV極紫外光刻裝置,就能有效提升晶片性能與電晶體密度,業界更是預判其未來可實現媲美1.4奈米等級的運算能力,這也讓市場持續探討,該技術是否會撼動台積電長期領跑的先進半導體技術優勢。 針對行業熱議的“韜定律”,NVIDIA(輝達)首席執行長黃仁勳在近期舉辦的活動上,首度公開受訪回應相關話題。他直言,華為推出的這套技術確實是一次重要的技術突破,具備極高的創新價值。通過晶粒堆疊、混合鍵合等核心技術,華為能夠在不進一步縮小晶片製程的前提下,將晶片電晶體數量提升兩倍、三倍甚至四倍,切實實現了晶片性能的跨越式提升,是一套極具實用性的創新技術方案。 與此同時,黃仁勳也明確表示,華為的這項創新並不會對台積電構成技術威脅。核心原因在於,晶粒堆疊、3D封裝、混合鍵合等相關先進技術,台積電早在近十年前就已佈局研發、深耕落地,目前相關技術體系已經十分成熟、先進,擁有深厚的技術積累和量產經驗。 長江存儲陳南翔近日在行業大會上也表示:認可華為 “韜定律”,呼籲半導體人勇擔重任。他稱讚華為提出的 “韜定律”,認為這是中國半導體給全球產業的貢獻。 (半導體行業圈)