阿斯麥稱美國反華法案“是個糟糕的主意”，專家：其高層表態凸顯美國與盟友矛盾日益激化
當地時間14日，荷蘭半導體裝置巨頭阿斯麥發佈今年第三季度財報。阿斯麥首席財務官戴厚傑在財報發佈會後接受記者採訪時表示，該公司反對美國國會提出的《硬體技術控制多邊協同法案》（簡稱MATCH法案）。該法案旨在進一步限制阿斯麥向中國銷售深紫外（DUV）光刻裝置。戴厚傑認為，這是一個糟糕的主意，將“適得其反”，加速中國本土技術的自主研發。
公開報導顯示，MATCH法案於今年4月提出，旨在向包括阿斯麥在內的非美國企業施壓，要求其遵守與美國企業相同的對華出口限制。荷蘭外貿與發展合作大臣舍爾茨瑪此前表示，荷蘭已向美國國會議員和美國政府表達反對意見，特別是針對該法案域外效力的反對意見。
對外經濟貿易大學國家安全與治理研究院研究員梁懷新15日對《環球時報》記者表示，MATCH法案的提出，實質上反映出美國發現，僅依靠自身對成品半導體的管控，已難以阻止中國實現晶片自主創新。但美國沒有意識到，此舉將進一步倒逼中國在半導體領域開展全流程自主創新，從成品半導體向製造技術及裝置環節深度拓展。
根據阿斯麥發佈的財報，該公司今年第三季度對華銷售額環比上升109%，中國在其裝置銷售額中的佔比從第二季度的14%升至23%。阿斯麥預計，今年中國市場將佔其總銷售額的約20%。阿斯麥首席執行官克里斯托夫·富凱表示，中國對半導體製造裝置的需求依然強勁，晶圓製造廠的持續建設預計將支撐2027年及以後的市場需求。
中關村現代資訊消費應用產業技術聯盟理事長項立剛對《環球時報》記者表示，阿斯麥強勁的季度業績主要得益於人工智慧需求推動先進製造產能持續擴張，使高端光刻裝置訂單保持高位。與此同時，中國半導體裝置製造商正加速研發和製造光刻機等關鍵裝置。隨著2028年至2030年中國本土光刻裝置產業競爭力逐漸增強，市場格局可能發生重大變化。
梁懷新進一步表示，阿斯麥高管的表態體現出美國與其盟友及西方半導體企業之間日益激化的矛盾。美國既要求盟友在半導體等核心議題上向其靠攏，又堅持“美國優先”原則，甚至通過第三方制裁施壓跨國企業，罔顧企業實際經營利益。無論MATCH法案最終能否通過，美國想要將盟友和西方半導體企業捆綁到對華制裁的“戰車”上，都將面臨持續的內部矛盾。 (環球網)