重大突破！國產EUV光阻經過驗證，DUV光阻全線量產、商用！

作為半導體製程中不可缺少的材料，半導體光阻在半導體製造中扮演了至關重要的角色。目前全球高階半導體光阻市場主要被日本和美國公司壟斷，日本更是佔據全球80%的市場份額，處於絕對領先地位。

但隨著國產半導體產業的進步，以及相關企業自主研發投入的加大，國產光阻取得了令人矚目的突破。

一、EUV光阻經初步驗證

近日，九峰山實驗室與華中科技大學聯合研究團隊，支持華中科技大學團隊突破「雙非離子型光酸協同增強反應的化學放大光阻」技術。

而這款具有自主智慧財產權的光阻體系已在產線上完成了初步製程驗證，並同步完成了各項技術指標的檢測優化，實現了從技術開發到成果轉化的全鏈條打通。這項研究成果可望為光刻製造的共通性難題提供明確的方向，同時為EUV光阻的著力開發做技術儲備，也就是說該技術可以應用於EUV光阻領域。

這意味著，一旦國產EUV光刻機獲得突破，國產EUV光阻可直接跟上，在先進製程的晶片製造方面，我們也已經有了逐漸成熟的技術儲備了。

當然，目前九峰山實驗光阻只是實現了初步的驗證。但在DUV光阻上，國產廠商也取得了巨大的突破。

二、南大光電，量產浸沒式光阻

在國產光阻的研發和產業化上最近兩年也在大跨步前進，其中低調的南大光電在過去的一年光阻領域取得了較大突破。

而我們知道半導體光阻產品也是按晶片製程分類的，主要有：g線光阻，對應436nm；i線光阻，對應365nm；KrF線光阻，對應248nm；ArF線光阻膠對應193nm；EUV線光阻，對應13.5nm。

綜合以上信息，我們可以推斷南大光電最新的ArF光阻產品或可適用於7nm製程工藝。

這意味著，國產光阻正在進入了高階晶片製造領域。無疑，這已經對日本半導體材料的壟斷地位發出了挑戰。

三、國際、中國光阻主要公司

根據TECHCET數據2022年全球半導體光阻市場規模年增7.5%達到近23億美金。 2021年至2026年，半導體光阻市場年複合成長率預計為5.9%，其中成長最快的產品是EUV和KrF光阻。

全球光阻市場主要由JSR、東京應化、杜邦、信越化學、住友及富士膠片等製造商所壟斷，尤其是在半導體光阻的高端的KrF和ArF領域，市場集中度更高。

因此，雖然目前半導體光阻占主導地位的依舊是美、日廠商；但此次華科大EUV光阻的突破，以及南大光電ArF光阻的量產以及銷售，將是國產半導體領域的一個重要里程碑，但也只是萬裡長徵的第一步，接下來如何在產品上更快進入國際主流市場，以及如何與國際大廠競爭將是全新的挑戰！ (飆叔科技洞察)