光阻這東西聽著不起眼，卻是晶片製造裡繞不開的硬骨頭，不是隨便找個替代品就能湊活的。它直接決定晶片的精度和良率，沒它晶片生產線就得停擺。而高階光阻這塊，日本五家企業攥了幾十年，尤其是深紫外線、極紫外線這兩種關鍵型號，幾乎把市場封得嚴嚴實實。全球九成以上的高端貨都出自日本廠商，以前中國是他們最大的買家，訂單排著隊送上門，日本廠商自然把中國市場當成穩賺不賠的搖錢樹，日子過得順風順水。很多人都在琢磨，日本真敢徹底斷供嗎？這個問題的答案，其實早就藏在二零一九年的日韓貿易風波里。當時日本因為歷史糾紛，一氣之下把光阻列入出口管制清單，直接卡住了韓國三星、海力士的脖子。兩家企業的庫存一下子就見底了，只剩下兩個月的用量。當時不少人都覺得，韓國沒有替代方案，只能低頭妥協，可誰也沒想到，不到一年時間，韓國就完成了關鍵突破，直接把日本供應商踢出了核心供應鏈，自己的生產線照樣轉得風生水起。韓國的案例徹底說明，光阻的技術障礙確實高，但絕不是不可踰越的天塹。日本企業的優勢，說白了就是四十年存下來的製程資料庫，和上萬件專利障礙。從配方到檢測標準，甚至包裝桶的材質、密封方式，都做成了獨一份的私人訂製。別的國家想跟風追趕，就得從零開始摸索，連產品測試的參數都找不到參考，只能自己一點點試錯。這也是為什麼過去幾十年，沒有多少企業能撼動日本的壟斷地位。但中國現在的情況，比當年的韓國好太多了。首先我們有全球最齊全的十四奈米以上成熟製程產業鏈，中芯國際、華虹半導體、長江儲存這些龍頭企業，手上的光阻庫存都常備半年以上。就算日本突然翻臉斷供，中國企業也有足夠的緩衝時間，把實驗室裡的產品拉到產線上驗證、最佳化良率。這個速度肯定比當年韓國快得多，不用陷入手忙腳亂的被動局面。更關鍵的是，我們有實實的資金支援和破局的決心。國家大基金加上地方專案扶持，過去幾年往光阻計畫投入的資金已經達到幾百億。真金白銀的支援，讓國內企業不用為研發經費煩惱。南大光電、晶瑞電材、徐州博康、紅太陽、彤程新材這些企業，早就不是只停留在紙面上的研發，深紫外乾式、浸沒式光刻膠，都已經在晶圓廠跑通了批次驗證，良率已經追得上日本同類產品，部分型號甚至實現了供貨，慢慢從實驗室走向產量。日本企業心裡跟明鏡似的，中國市場佔他們光阻總收入的四成左右，是絕對不能失去的核心市場。二零二五年信越化學對華出貨量已經開始下滑，但他們不敢完全停供。因為他們比誰都清楚，一旦中國像韓國一樣徹底完成替代，他們就會永遠失去這個最大的客戶，到時候手上的技術和產能，再多也沒用。韓國用一年幹成的事，以中國現在的產業鏈基礎和技術積累，最多十八個月就能複製，甚至做得更好。其實日本真正的護城河，從來不是技術有多玄乎，而是以前中國企業買得太便宜、太方便，沒動力花大力氣自己研發。大家都覺得直接進口更省事、成本也低，可現在風向徹底改變了。中國企業只要有一款產品驗證通過，日本的對應型號就必須降價求賣，不然訂單直接就沒了。這就是典型的“誰先動手誰吃虧”，日本越卡脖子，中國企業的替代動力就越足，反而加速了自己的退出。當然，極紫外光阻目前確實還差點火候。金屬污染物要控制到ppt 等級，這個精確度要求不是鬧著玩的，難度比深紫外光阻高了不只一個檔次。但中國研發團隊這兩年已經摸到了門道，在樹脂合成、光酸產生劑這兩個核心環節，取得了許多突破。實驗室裡的測試資料越來越好看，距離真正上產線，其實就差最後一步大規模穩定性驗證。這個過程可能需要一點時間，但絕對不是遙不可及。日本企業現在最害怕的，不是中國突然買不到他們的產品，而是中國突然不需要了。二零二五年這波隱形限制，看似是為中國企業設定障礙，實際上反而把他們的量產節奏又往前推了一大步。信越、傑斯爾這些日本巨頭的財報裡，中國區收入佔一年比一年低，他們比誰都著急。以前靠壟斷躺著賺錢的日子，早就一去不復返了，現在只能眼睜睜看著中國企業一點點蠶食他們的市場份額。晶片產業最殘酷的規則就是，供應鏈安全從來不是靠別人的良心，而是靠自己手上有實力的替代方案。日本當年想用光阻教訓韓國，結果反而倒逼韓國完成了技術自主，把自己教訓了一頓。現在輪到中國，日本要是還想重蹈覆轍，下場只會更慘。因為中國的市場規模、產業鏈完整度和研發投入，都不是當年的韓國能比的，一旦徹底失去中國市場，日本光阻企業的好日子也就到頭了。中國企業這幾年最聰明的做法，就是悶頭干實事，不吵不鬧，踏實把產品做好，一步步通過驗證，把日本貨一條條踢出合格供應商名單。這種低調務實的態度，反而讓替代過程走得更穩、更紮實。等那天國產深紫外光阻在國內市場的佔比過半，形成了規模效應，成本進一步降低，日本再想把產品賣進來，就真的沒機會了。而這一天，並不會太遠。很多人還在擔心斷供的風險，其實真正可怕的，從來不是一時買不到，而是永遠只能依賴進口，永遠被別人掐著脖子。現在的局面其實很明朗，日本越卡，中國的替代速度就越快，反而加速了供應鏈去日本化的處理程序。這可能就是最諷刺的地方，日本想用科技壟斷當武器，最後卻成了倒逼中國技術自主的催化劑。光阻這張牌，日本攥了四十年，曾經是他們叱吒全球半導體行業的王牌，現在卻成了燙手山芋，扔也不是，攥也不是。中國這邊不急著喊疼，也不搞虛頭巴腦的口號，只管沉下心來，把替代品做得又好又便宜，用實實在在的產品說話。等國產光阻徹底站穩腳跟，全球半導體供應鏈的格局就會徹底改寫，到最後，輸得最慘的，恐怕還是那個曾經壟斷一切、卻選錯了對手的人。說到底，這場光阻領域的博弈，本質上是自主可控與技術壟斷的較量。中國的目標從來不是簡單替代，而是重構全球半導體供應鏈的話語權。以前我們跟著別人的規則走，現在我們要自己訂定規則。日本的壟斷時代終將過去，而中國半導體產業的自主之路，只會越走越寬、越走越穩。這不是一句口號，而是正在發生的事實，是無數企業和研發人員，用汗水和堅持換來的必然結果。 （科技直擊）

光刻技術是推動積體電路晶片製程製程持續微縮的核心驅動力之一。光阻領域取得新突破根據科技日報，近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者透過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態下解析了光阻分子在液相環境中的微觀三維結構、介面分佈與纏結行為，指導開發出可顯著減少光刻缺陷的產業化方案。相關論文近日刊發於《自然·通訊》。「顯影」是光刻的核心步驟之一，透過顯影液溶解光阻的曝光區域，將電路圖案精確地轉移到矽片上。光阻如同刻畫電路的顏料，它在顯影液中的運動，直接決定電路畫得準不準、好不好，進而影響晶片良率。長期以來，光阻在顯影液中的微觀行為是“黑盒子”，工業界的製程優化只能靠反覆試錯，這成為製約7奈米及以下先進製程良率提升的關鍵瓶頸之一。為破解難題，研究團隊首次將冷凍電子斷層掃描技術引入半導體領域。研究人員最終合成出一張解析度優於5奈米的微觀三維“全景照片”，一舉克服了傳統技術無法原位、三維、高解析度觀測的三大痛點。彭海琳表示，冷凍電子斷層掃描技術為在原子/分子尺度上解析各類液相介面反應提供了強大工具。深入掌握液體中聚合物的結構與微觀行為，可推動先進製程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關鍵製程的缺陷控制與良率提升。中國光阻市場成長率超過全球光阻是半導體製程不可或缺的重要材料。當下的全球光阻市場，幾乎被來自日本的JSR、東京應化、信越化學、富士電子等企業所瓜分，也讓日本在全球半導體製造鏈中佔據著舉足輕重的地位，這都源於日本長久以來的積累。近年來，中國企業在光阻領域持續取得技術突破，市佔率穩定提升。根據國際半導體產業協會（SEMI）統計，2024年全球光阻市場規模達27.32億美元，較去年成長16.15%；2024 年中國大陸半導體光阻市場規模7.71億美元，達到歷史新高，成為全球最大的光刻膠市場，較去年同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25%，遠同期成長42.25。根據SEMI《世界晶圓廠預測》報告顯示，2025年全球7nm以下節點晶圓產能將成長16%，依舊為成長速度最快的製程節點；除此之外，8~45nm節點、50nm以上節點、DRAM、3DNAND等製程晶圓產能將分別成長6%、5%、7%、5%。先進製程的高速成長將促進KrF、ArF以及EUV光阻依舊維持高速成長的態勢。融資客盯上5隻概念股從已公佈的2025年前三季業績數據來看，數據寶統計，依照三季報、業績快報、預告淨利下限計算（無下限則取公告數值），11隻光阻概念股前三季淨利年增率（含扭虧為盈），包括晶瑞電材、久日新材、新創公司、新創公司（含扭虧為盈），包括晶瑞電材、久日新材、新創公司等。晶瑞電材淨利成長率最高，公司今年前三季實現淨利1.28億元，年增192.03倍，主要係本期產品毛利上漲，交易性金融資產價格波動所致。本公司的光阻及高純度化學品已用於儲存晶片製造。久日新材今年前三季實現淨利272萬元，年減虧為盈。報告期間內，公司穩步實現了部分光引髮劑產品漲價策略落地，非經常性損益為1003萬元。目前公司的主要產品有光引髮劑、半導體i-線光阻、發光二極體g-線/h-線光阻、面板光阻以及光阻用重氮萘醌類光敏劑、肟酯類引髮劑、沒食子酸類產品等。瑞聯新材預計2025年前三季淨利為2.81億元，年增51.54%。報告期間內，顯示材料類股保持平穩發展，為公司整體業績提供了堅實基礎。醫藥與電子材料類股營業收入大幅成長，提升了公司整體營收規模，有效推動了公司淨利水準的提升。目前公司儲備有多款光阻材料產品，部分光阻單體材料已量產，部分產品處於客戶驗證階段。資金面上，資料寶統計，截至10月23日，10月以來融資淨買進超1億元的光阻概念股有5隻，分別為雅克科技、新萊應材、聖泉集團、華懋科技、湖北宜化。雅克科技10月以來融資淨買進金額5.38億元，排名第一。該公司是國內顯示光阻業界領先的供應商，同時擁有紅綠藍彩色光阻、TFT-PR 光阻和OC/PS 封裝透明光阻等多個品類，廣泛運用在超薄大尺寸液晶顯示器（LCD）和有機發光顯示器（OLED）。（數據寶）

中國在光阻技術領域取得重大突破！最近北大傳來個好大消息－彭海琳教授團隊用冷凍電子斷層掃描技術，把光阻在顯影液裡的「小動作」看得明明白白，還針對性開發了減少缺陷的方案，12吋晶圓的缺陷數量直接降了99%以上。這一步，可算是捅破了先進製程良率提升的「窗戶紙」。光阻這東西，在晶片製造裡有多關鍵？打個比方，它就像給矽片畫電路的“顏料”，顯影液溶解它的過程，相當於用“洗畫筆”的方式把電路印到矽片上。但以前沒人能看清光阻在顯影液裡是怎麼動的，只能靠反覆試錯調製程。尤其是7nm以下先進製程，良率上不去，很大程度就卡在這層「黑盒子」裡。北大團隊的辦法很巧妙：他們把顯影後的溶液快速凍成玻璃態，把光刻膠的狀態「凍」在那一刻，再用冷凍電鏡拍不同角度的二維圖，用演算法拼出解析度優於5奈米的三維「全景照」。這一照可照出大問題——原本以為溶解的光刻膠會分散在液體裡，結果大部分都「黏」在氣液介面；更關鍵的是，這些黏在介面的聚合物會纏成30奈米左右的小團，掉在矽片上就成了缺陷，讓本該分開的電路連在一起。找到了問題根源，解決方法就有了。團隊提了倆招：一是適當提高烘烤溫度，讓聚合物少纏點；二是優化顯影工藝，讓矽片表面始終有層液膜，把這些小團「衝」走。倆招一結合，12吋晶圓的缺陷幾乎清零，這對先進製程良率提升簡直是「雪中送炭」。這突破的意義遠不止於光阻本身。冷凍電鏡技術這次在半導體領域的應用，相當於給研究液相反應裝了台「顯微鏡」——以後催化、合成甚至生命過程裡的液體反應，都能在原子分子尺度上看清楚了。對晶片產業來說，從光刻到蝕刻、清洗，這些關鍵環節的缺陷控制都能更精準，下一代晶片的性能和可靠性又多了層保障。再看市場，光阻這兩年漲得快。 2023年國內市場109億，2024年沖到114億以上，像KrF光阻這些中高端產品，國產替代的步子越邁越大，2025年預計能到123億。以前光阻市場被日企卡得緊​​，現在技術突破+市場成長，咱們的半導體產業鏈又硬了一截。從“看不清楚”到“精準調控”，中國晶片製造的每一步突破，都是在為未來鋪路。等那天7nm、5nm良率穩穩提上去，那些卡脖子的“小門檻”，自然就變成咱的“大優勢”了。 （萬大叔）

01. 前沿導讀根據《日本經濟新聞網》通報指出，在日本企業幾乎長期壟斷的光阻領域，中國正在迎頭趕上。光阻是搭配光刻機與刻蝕機使用的化學材料，光阻的品質直接決定了半導體產品的品質。該產業長期被日本企業壟斷，富士軟片、東京應化這兩家企業佔了全球90%的光阻供應。而在更先進的EUV光阻領域，日本企業直接壟斷了全球96.7%的材料供應。在政策推動下，中國光阻產業正在快速發展，部分材料已經進入了客戶驗證階段或少量供應階段，中高端快速替代的趨勢不可避免。02. 產業市場日本半導體產業的發展，起源於日本東通工株式會社的井深大。井深大拿出2.5萬美元從美國貝爾實驗室的母公司西方電氣手中購買了晶體管的專利授權，開始用美國技術製造收音機並打算以此牟利。隨後井深大帶開發出了TR-55型號的微型收音機，並將該產品的品牌命名為索尼。索尼TR-55在國內外引起了搶購，大賣熱賣，而井深大也將自己所創辦的日本東通工株式會社更名為索尼。索尼拉開了日本半導體產業的序幕，催生了日本電氣公司（NEC）、東芝、富士、尼康、東京電子等日本半導體企業的大爆發。為了與美國競爭，日本啟動了超大規模的產業研發計畫。該計畫由日本政府主導，以日立、三菱、富士通、東芝、NEC五大公司為核心，聯合日本電氣技術實驗室、日本工業技術研究院電子綜合研究所、電腦綜合研究所一起協同發展，其投資規模達到了720億日元。日本的產業研發計畫涵蓋了全產業鏈，第一研究所建設在日立公司，負責電子束裝置和微縮曝光裝置的研發；第二研究所建設在富士通，負責可變尺寸電子束裝置的研發；第三研究所建設在東芝，負責掃描裝置和影印裝置的研發；第四研究所建置在電氣綜合試驗所，負責對基礎材料進行研發；第五研究所建設在三菱公司，負責製造製程技術以及投影曝光設備的研發；第六研究所建置在NEC，負責對產品的封裝設計、測試、評估把關，也是產品製造的最後一環節。這種思路清晰的全產業鏈共同發展，將分散的技術力量聚集到一起進行聯合攻關，讓日本企業在與美國的競爭當中拔得頭籌， 也實現了全產業鏈的協同發展。03. 國產替代如今的中國半導體產業，也正在學習當年日本的發展模式。依託國家資源所創建的大基金，已經進行了三輪大規模的投資， 其重點投資對像有中芯國際、華虹半導體、長江存儲、中微半導體等、北方華創等國內領先的半導體企業，覆蓋範圍從最上游的材料設備廠商，到最末端的製造企業，扶持全產業鏈發展。日本的大規模積體電路計劃，讓日本在設備材料領域獲得了巨大優勢。即使在後來被美國兩次壓制，日企的先進晶片製造業近乎停滯不前，日本依然可以靠著供應鏈優勢繼續在晶片產業上擴張。根據相關產業數據表示，2023年中國光阻市場規模約109.2億元，2024年達到了114億元以上，預計2025年規模可達123億元以上，呈現出大規模國產化成長的趨勢。除光阻等產品外，中國大矽片產業也呈現持續成長的趨勢。以往該產業與光阻一樣，均為日本企業壟斷的產品。但在近些年國家大力推動下，目前95%的多晶矽、96%的光電矽片產能，皆為中國企業所供應。依託國內龐大且成熟的資源優勢，中國企業在電力供應、綠色可循環產業上有顯著優勢。 資源優勢可以帶動晶片產業的發展，從而展現出極強的後發力量。而美國在近些年當中不斷對中國企業圍追堵截，忽略了資源建設的重要性，導致其ai產業發展陷入電力資源短缺的窘境。ai產業除硬體晶片之外，剩下的就是電力資源和水資源的大規模供應。根據彭博社財經發布的報告顯示，如果將ai產業比喻為虛擬國家，那麼其每年消耗的電量將會位居全球第四的位置，僅次於中國、美國、印度。未來的晶片產業發展是資源的競爭，而中國企業在這場屬於未來的競爭當中處於領先地位。 （逍遙漠）

近期，隨著全球半導體市場逐漸回暖，光阻作為半導體製程不可或缺的重要材料，其生產廠商的訂單也開始增多，擴大產能成了新風向。例如，信越化學宣布，為了擴大半導體光刻材料業務，決定在日本群馬縣伊勢崎市新建第四座生產工廠。東京應化宣佈在韓國京畿道平澤市新建工廠，作為其在韓國的光阻研發、生產和銷售基地。目前，日本企業佔了全球光阻市場約70%到90%的份額，特別是在高端的ArF和EUV光阻領域，市場佔有率甚至超過90%，光阻也成為了日本在全球半導體製造鏈中絕對的依仗。 深耕細作造就光阻“霸主” 光阻被譽為“微納世界的畫家”，在半導體製造中，光刻膠要先被塗覆在矽片或其他襯底上，然後通過光照和後續蝕刻等處理，實現微細圖案的製作。這種高精度的製作技術，使得現代電子產品中的積體電路能夠實現高複雜度和高整合度。光阻的優良特性保證了半導體製造過程的一致性和可靠性，為高效生產提供了堅實的基礎。 光阻類型劃分

晶片產業長期以來受制於技術瓶頸，未能實現顯著進展，但光阻作為核心半導體材料仍吸引了大量的關注。然而，由於光阻市場容量有限，且參與競爭的企業眾多，使得許多中小型的FA和VC對於深入這一領域顯得有些猶豫和不積極。 對於這樣一個關鍵的材料，國產化進程到底如何？在目前的年報公佈期間，我們不妨深入探討不同公司在這方面所取得的進展。雖然這些資訊來自年度報告，資料可能略顯不足，不過依然能夠從中窺探到某些細微端倪。我希望能夠透過這次分析，為大家提供一定的參考和協助。 畢竟曾經的二三十億市場，也大有可能成長為百億市場！參考四重曝光出5nm、7nm的案例。 以下內容，涉及：容大感光、鼎龍股份、上海新陽、南大光電。

作為半導體製程中不可缺少的材料，半導體光阻在半導體製造中扮演了至關重要的角色。目前全球高階半導體光阻市場主要被日本和美國公司壟斷，日本更是佔據全球80%的市場份額，處於絕對領先地位。 但隨著國產半導體產業的進步，以及相關企業自主研發投入的加大，國產光阻取得了令人矚目的突破。 一、EUV光阻經初步驗證 近日，九峰山實驗室與華中科技大學聯合研究團隊，支持華中科技大學團隊突破「雙非離子型光酸協同增強反應的化學放大光阻」技術。