日本將首次引入EUV光刻機，ASML日本員工計畫增至600人

ASML計畫到2026年將日本子公司員工增至600人，受日本半導體企業EUV系統引入推動。

Rapidus和美光科技計畫在日本部署EUV光刻系統，分別用於DRAM和先進晶片生產。

ASML將在日本增設服務中心，支援日本半導體企業，包括Rapidus和美光。

日本政府補貼推動半導體企業擴張，旨在成為先進晶片製造領導者。

JASM的6nm/7nm晶片生產需EUV裝置，增加對ASML服務需求。

EUV光刻市場預計未來幾年快速增長，至2028年市場規模達252億美元。 (芯榜)