ASML計畫到2026年將日本子公司員工增至600人，受日本半導體企業EUV系統引入推動。 Rapidus和美光科技計畫在日本部署EUV光刻系統，分別用於DRAM和先進晶片生產。 ASML將在日本增設服務中心，支援日本半導體企業，包括Rapidus和美光。 日本政府補貼推動半導體企業擴張，旨在成為先進晶片製造領導者。