#UCIe
Intel:異構整合技術演進及先進封裝載體展望
分享一份Intel在2024年VLSI上的報告,聚焦異構整合技術,探討其歷史演變、當前以先進封裝為核心的落地應用,以及未來擴展所需的關鍵技術方向、挑戰與機遇,強調 HI 對計算和通訊領域持續進步的核心作用。報告主要內容總覽 HI 的核心價值HI歷史演進先進封裝作為HI載體的現狀HI未來的擴展與升級關鍵資訊摘錄1先進封裝載體報告列出 5 類關鍵先進封裝技術,包含具體參數、優勢與應用進展。FCBGA/FCLGA:凸點間距約 100μm,全球市場份額超 40%,支援 120×120mm 尺寸,2017 年起已量產。EMIB(嵌入式多晶片互連橋):凸點間距從 55μm 逐步縮減至 36μm,支援 TSV 技術,提升互連密度。Foveros Direct:採用 Cu-Cu 直接鍵合,凸點間距≤25μm,功耗效率最優(約 0.05pJ/bit),2023 年起進入量產爬坡。玻璃核心基板封裝:凸點間距 < 10μm,支援大尺寸(6 倍以上掩模等效面積),助力 448G 速率與可插拔連接器。共封裝光學(Co-Packaged Optics):整合波導的玻璃耦合方案,實現高良率、低成本,推動光互連落地。2 UCIe 的動機與價值報告明確,標準化晶片互連介面(UCIe)是HI未來規模化擴展的關鍵支撐,是建構開放生態的核心。通過開放的高速晶片間介面(UCIe),建構 “封裝上的平台”,實現不同工藝、不同廠商晶片粒的混合搭配,可打破掩模尺寸限制,使 SoC 可突破單晶片規模;縮短產品上市時間(支援晶片粒復用);降低成本(減少 IP 移植、最佳化工藝選擇);支援定製化解決方案,推動創新規模化。在性能方面,相比封裝外 SerDes,功耗降低至 1/20,I/O 性能提升 20 倍,適配 2D/2.5D/3D 先進封裝場景。其他主要頁面展示(銳芯聞)