🔷從光刻縮放走向Pattern Engineering 🔷重構High-NA EUV時代的先進圖形化路線圖 最近我發現，整個半導體行業正在悄悄發生一場“認知切換”。 過去大家總覺得，先進製程的核心就是拼EUV光刻機、拼更小電晶體，但當我看完這份技術報告後，我突然意識到：未來真正決定晶片競爭力的，可能已經不是“曝光次數”，而是“圖形工程（Pattern Engineering）”能力。