中國晶片產業近年來在美國的打壓下，仍展現出了驚人的成就與創新力。最近，一位被譽為光刻機之父的台積電前技術研發副總林本堅，在接受外媒採訪時，對中國晶片產業給予了高度的評價和肯定。 他認為，中國不僅可以利用現有的設備，實現7奈米製程的晶片製造，甚至有可能突破5奈米的技術壁壘。他的這番話，引起了外界的廣泛關注與討論。本文將從以下幾個方面，分析中國晶片產業的現狀和未來的發展前景： 光刻機是晶片製造過程中的核心設備，它可以將電路圖案刻印到矽片上，從而形成晶片的基本結構。光刻機的性能和精度，直接決定了晶片的製程等級和性能。目前，全球光刻機市場的主導者是荷蘭的ASML公司，它擁有最先進的EUV（極紫外線）光刻機，可實現5奈米以下的製程製造。 林本堅是台積電的前技術研發副總，他在光刻機技術的發展上，扮演了關鍵的角色。他被譽為浸潤式光刻機之父，是因為他在2000年提出了浸潤式光刻機的概念，這是一種利用水層來增加光刻機的分辨率的技術，可以實現90奈米以下的工藝製造。當時，日本的佳能和尼康佔據了光刻機市場的絕大部分份額，他們都使用的是乾式光刻機，對於浸潤式光刻機的技術並不感興趣。林本堅和台積電選擇了和ASML合作，共同研發浸潤式微影機。2008年，ASML的浸潤式光刻機成功問世，打破了日本的壟斷，成為了光刻機產業的領導者。台積電也藉助浸潤式微影機的技術優勢，成為了晶片代工產業的佼佼者。