不過,近年來中國國產光刻膠的研發和量產方面都取得了一系列的突破和進展。近日來自武漢光谷的鼎龍股份,12月9日發佈公告稱:公司旗下的某款浸沒式ArF晶圓光刻膠及某款KrF晶圓光刻膠產品前後順利通過客戶驗證,並於近期分別收到共兩家國內主流晶圓廠客戶的訂單,合計採購金額超百萬元人民幣。
對比上表,我們知道半導體光刻膠產品也是按晶片製程進行分類的,隨著製程的縮小生產難度也逐步升高。這意味著,鼎龍股份實現ArF和ArFi光刻膠的驗證,其已實現除EUV光刻膠或7nm以上製程的覆蓋。
尤其值得注意的是,鼎龍股份針對KrF、ArF光刻膠的技術要求設計單體結構、樹脂結構、配方等,提高純化、過濾、混配等工藝等級,開發出KrF、ArF光刻膠專用樹脂及其高純度單體、光致產酸劑等關鍵材料以及光刻膠產品,實現從關鍵材料到光刻膠產品自主可控的全流程中國國產化。
當然,中國國產光刻膠產業的進展和突破並不止鼎龍股份一家,如南大光電、上海新陽、彤程新材等在不同產品線上實現驗證和量產。具體如下表:
尤其值得注意的是,目前上海新陽正在研發EUV光刻膠,而ArF線光刻膠已有南大光電、徐州博康、彤程新材以及鼎龍股份實現了量產。
因此,中國國產光刻膠產業正駛入快車道,可以說中國國產光刻膠已經逐步形成從研究、開發、產品化再到產業化上下游協同發展的產業格局,甚至部分地區正在形成小產業叢集,如武漢。
當然,從上表我們也可以目前高端光刻膠依然主要掌控在:日本合成橡膠(JSR)、東京應化、信越化學、住友化學、富士膠片、杜邦等少數幾家日本和美國廠商手中,其幾乎佔據了全球半導體光刻膠市場的大部分江山,尤其在高端技術方面擁有著絕對優勢。
而我們知道光刻膠應用領域不僅在半導體領域,目前主要應用領域有:半導體光刻膠、PCB光刻膠和顯示光刻膠。其中半導體光刻膠的技術壁壘最高,PCB光刻膠的技術難度相對較低。
目前,中國國產光刻膠可以量產的主要集中於中低端PCB及面板領域,以及紫外寬譜、g線等低端製程環節;ArFi、ArF、KrF等具較高技術壁壘的產品正在突圍;而EUV高技術壁壘的高解析度光刻膠基本被日美頭部企業壟斷。各類光刻膠中國國產化率情況具體如下:
具體來說,目前半導體光刻膠的中國國產化率情況,g線光刻膠約為30%,I線光刻膠約為30%,KrF光刻膠不足10%,ArF光刻膠低於2%。
雖然在ArF以上的高端光刻膠中國國產化率較低,但隨著中國國產光刻膠廠商的集體突圍,不斷突破技術壁壘;中國國產光刻膠正向最後的高端堡壘發起了進攻;相信在中國國產光刻膠上下游企業的密切合作之下,打破日本壟斷全球光刻膠產業指日可待,甚至飆叔推斷或許光刻膠領域將是首批實現中國國產替代的高端半導體材料。 (飆叔科技洞察)