一、鼎龍股份，光刻膠全流程中國國產化 不過，近年來中國國產光刻膠的研發和量產方面都取得了一系列的突破和進展。近日來自武漢光谷的鼎龍股份，12月9日發佈公告稱：公司旗下的某款浸沒式ArF晶圓光刻膠及某款KrF晶圓光刻膠產品前後順利通過客戶驗證，並於近期分別收到共兩家國內主流晶圓廠客戶的訂單，合計採購金額超百萬元人民幣。 對比上表，我們知道半導體光刻膠產品也是按晶片製程進行分類的，隨著製程的縮小生產難度也逐步升高。這意味著，鼎龍股份實現ArF和ArFi光刻膠的驗證，其已實現除EUV光刻膠或7nm以上製程的覆蓋。 尤其值得注意的是，鼎龍股份針對KrF、ArF光刻膠的技術要求設計單體結構、樹脂結構、配方等，提高純化、過濾、混配等工藝等級，開發出KrF、ArF光刻膠專用樹脂及其高純度單體、光致產酸劑等關鍵材料以及光刻膠產品，實現從關鍵材料到光刻膠產品自主可控的全流程中國國產化。

晶片產業長期以來受制於技術瓶頸，未能實現顯著進展，但光阻作為核心半導體材料仍吸引了大量的關注。然而，由於光阻市場容量有限，且參與競爭的企業眾多，使得許多中小型的FA和VC對於深入這一領域顯得有些猶豫和不積極。 對於這樣一個關鍵的材料，國產化進程到底如何？在目前的年報公佈期間，我們不妨深入探討不同公司在這方面所取得的進展。雖然這些資訊來自年度報告，資料可能略顯不足，不過依然能夠從中窺探到某些細微端倪。我希望能夠透過這次分析，為大家提供一定的參考和協助。 畢竟曾經的二三十億市場，也大有可能成長為百億市場！參考四重曝光出5nm、7nm的案例。 以下內容，涉及：容大感光、鼎龍股份、上海新陽、南大光電。