售賣二手DUV光刻機、提供升級服務、提供翻新方案，尼康公開叫板美國製裁，打算依靠中國市場重返巔峰

2026/03/31

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在上海舉辦的SEMICON China 2026展會當中，日本光學巨頭尼康攜旗下工業鏡頭產品以及光刻機裝置參展。尼康在展台當中表示，未來將會加大對中國市場的投入，為中國市場提供更高優先順序的裝置資源。

尼康所說的提供裝置資源，涵蓋了對中國市場銷售二手的i線裝置和DUV光刻機、對特定的光刻機裝置提供技術升級服務、為不同客戶提供裝置的安裝和移機等特色服務。

並且尼康在展台當中，還特別強調以上這些針對中國市場的特色服務，將是尼康光刻機業務重返巔峰的關鍵策略。

據尼康年度財報表示，尼康在過去半年內只銷售了9台光刻機裝置，並且這9台裝置都是成熟製程的產品。

包括光刻機在內的尼康精密裝置業務，其全年營業利潤僅為15.44億日元，同比暴跌89.8%。

而同為光刻機裝置企業的荷蘭ASML，在2025年總共銷售了535台光刻機裝置，其中高價值的EUV光刻機銷量48台，DUV光刻機銷量279台，計量與檢查系統銷量208台，而且ASML的毛利率達到了52.8%。

不管是銷量還是盈利能力，ASML都是全球光刻機產業的龍頭。

尼康在上世紀八十年代左右，憑藉著日本通產省政府推動的VLSI（超大規模積體電路）計畫，與佳能一起成為了日本光刻機產業的兩大核心企業。

尼康負責攻克步進式光刻機裝置，佳能負責攻克投影式光刻機裝置。當時全球光刻機的霸主是美國GCA，其市場佔有率常年保持在50%以上。

尼康的首款光刻機NSR-1010G，就是參照美國GCA的光刻機進行仿製的產品。從外觀到內部的晶圓台設計，從內部設計到技術指標，幾乎一模一樣。

美國GCA對此不以為然，GCA認為尼康就算複製他們家的光刻機，也只能是複製外觀，複製不了裡面的核心技術。

早期的尼康光刻機，幾乎都依賴於日本本土企業的支援，例如日本NEC、東芝等晶片製造商。

隨後尼康開始基於1010G光刻機進行自主設計，並且從1010G開始，尼康在銷售光刻機的同時，還附贈給客戶5名工程師的服務包，開始在客戶服務上面下功夫。

尼康的客戶服務是打敗美國GCA的核心因素，在滿足於內需市場之後，尼康開始在國際範圍內搶奪GCA的客戶，甚至還在美國建設分公司，以便尼康可以更好的服務美國客戶。

從1980年代開始，光刻機的市場霸主從美國GCA逐步過渡到了日本尼康，隨後便迎來了尼康與ASML的競爭。

當時光刻機技術陷入瓶頸，193nm的波長無法繼續縮短。尼康投入巨額資金走硬體升級的路線，打算通過素質更高的雷射和鏡頭元件將193nm波長縮短至157nm。

而ASML選擇採用台積電研發處長林本堅的浸潤式技術，在鏡頭與掩範本之間加入一層超純水當做介質，光源打入水中形成折射，將193nm的波長縮短至134nm。

此前林本堅拿著該技術找尋尼康進行商業化合作，但尼康對此技術並不認同，而且尼康已經在傳統路線上投入大量資源，於是便否決了與林本堅的合作。

當ASML推出首款量產的浸潤式光刻機之後，尼康就已經被宣告落後了。

儘管尼康在後來也推出了浸潤式光刻機，但是在效率、性能、耐用性上面，要比ASML的裝置差很多，並沒有太多國際客戶接納尼康的浸潤式裝置，幾乎都是日本本土企業採購使用。從此開始，尼康的光刻機業務開始走下坡路。

此次尼康針對中國市場進行的重點投入，可以算是為中國企業提供了全流程服務。

從封裝光刻機到前端曝光光刻機，再到光刻機配套的對準站裝置，尼康全部拿出來為中國客戶提供技術服務。

並且尼康較為先進的浸潤式光刻機NSR-S625E，以及尼康最新款的乾式DUV光刻機NSR-S333F也被拿出來投入到中國市場上服務中國客戶。

據尼康株式會社發佈的官方資料顯示，尼康基於旗艦浸潤式光刻機NSR-S636E技術平台降級推出了最新的乾式DUV光刻機NSR-S333F。

該裝置在上一代NSR-S322F的基礎上升級製造效率和疊加精度，並且還擁有尼康最先進的技術平台，適用於邏輯晶片、儲存晶片、圖像感測器等產品的製造。

2025年10月份接受客戶訂單，2026年下半年進行首批交付。

參考資料：

Introducing the NSR-S333F ArF Scanner - Now Open for Orders Starting in October | News | Nikon About Us

https://www.nikon.com/company/news/2025/0925_01.html

現在全球擁有光刻機製造能力的國家企業屈指可數，日本的尼康和佳能、荷蘭的ASML、中國的上海微電子及其分支企業。

荷蘭ASML受美國出口管制的影響，已經無法將EUV光刻機和較為先進的浸潤式DUV光刻機出口給中國企業。

雖然美國敦促日本禁止將光刻機出售給中國企業，但是日本光刻機已經不包含美國技術體系，所以美國無法通過最小比例原則來強制性封鎖日本光刻機的對華出口，這就給了日本光刻機企業一個機會。

ASML無法與中國企業建立更廣泛的合作，所以尼康就打算通過中國市場來填補ASML留下的市場缺口，從而振興尼康光刻機業務的經濟效益。

尼康最新發佈的乾式DUV光刻機NSR-S333F，在光源波長、鏡頭解析度上面與中國工信部在2024年公佈的國產乾式光刻機不相上下。

但是尼康的裝置基於先進的浸潤式平台降級打造，其套刻精度為≤ 4nm。在套殼精度上面，尼康的裝置要強於中國乾式DUV光刻機的≤ 8nm。

從技術指標上面來看，尼康的光刻機要比我們的國產裝置更具商業化優勢。但是尼康的產品就算再好、技術水平再先進、價格再實惠，其本質上也是外國的技術裝置。

這對於當下追求晶片產業鏈自主可控的各大中國企業來說，日本尼康的裝置可以考慮購買，但絕不能是因為購買尼康的產品而忽略國產裝置的發展。 (逍遙漠)