01 前沿導讀在上海舉辦的SEMICON China 2026展會當中，日本光學巨頭尼康攜旗下工業鏡頭產品以及光刻機裝置參展。尼康在展台當中表示，未來將會加大對中國市場的投入，為中國市場提供更高優先順序的裝置資源。尼康所說的提供裝置資源，涵蓋了對中國市場銷售二手的i線裝置和DUV光刻機、對特定的光刻機裝置提供技術升級服務、為不同客戶提供裝置的安裝和移機等特色服務。並且尼康在展台當中，還特別強調以上這些針對中國市場的特色服務，將是尼康光刻機業務重返巔峰的關鍵策略。02 業務低迷據尼康年度財報表示，尼康在過去半年內只銷售了9台光刻機裝置，並且這9台裝置都是成熟製程的產品。包括光刻機在內的尼康精密裝置業務，其全年營業利潤僅為15.44億日元，同比暴跌89.8%。而同為光刻機裝置企業的荷蘭ASML，在2025年總共銷售了535台光刻機裝置，其中高價值的EUV光刻機銷量48台，DUV光刻機銷量279台，計量與檢查系統銷量208台，而且ASML的毛利率達到了52.8%。不管是銷量還是盈利能力，ASML都是全球光刻機產業的龍頭。尼康在上世紀八十年代左右，憑藉著日本通產省政府推動的VLSI（超大規模積體電路）計畫，與佳能一起成為了日本光刻機產業的兩大核心企業。尼康負責攻克步進式光刻機裝置，佳能負責攻克投影式光刻機裝置。當時全球光刻機的霸主是美國GCA，其市場佔有率常年保持在50%以上。尼康的首款光刻機NSR-1010G，就是參照美國GCA的光刻機進行仿製的產品。從外觀到內部的晶圓台設計，從內部設計到技術指標，幾乎一模一樣。美國GCA對此不以為然，GCA認為尼康就算複製他們家的光刻機，也只能是複製外觀，複製不了裡面的核心技術。早期的尼康光刻機，幾乎都依賴於日本本土企業的支援，例如日本NEC、東芝等晶片製造商。隨後尼康開始基於1010G光刻機進行自主設計，並且從1010G開始，尼康在銷售光刻機的同時，還附贈給客戶5名工程師的服務包，開始在客戶服務上面下功夫。尼康的客戶服務是打敗美國GCA的核心因素，在滿足於內需市場之後，尼康開始在國際範圍內搶奪GCA的客戶，甚至還在美國建設分公司，以便尼康可以更好的服務美國客戶。從1980年代開始，光刻機的市場霸主從美國GCA逐步過渡到了日本尼康，隨後便迎來了尼康與ASML的競爭。當時光刻機技術陷入瓶頸，193nm的波長無法繼續縮短。尼康投入巨額資金走硬體升級的路線，打算通過素質更高的雷射和鏡頭元件將193nm波長縮短至157nm。而ASML選擇採用台積電研發處長林本堅的浸潤式技術，在鏡頭與掩範本之間加入一層超純水當做介質，光源打入水中形成折射，將193nm的波長縮短至134nm。此前林本堅拿著該技術找尋尼康進行商業化合作，但尼康對此技術並不認同，而且尼康已經在傳統路線上投入大量資源，於是便否決了與林本堅的合作。當ASML推出首款量產的浸潤式光刻機之後，尼康就已經被宣告落後了。儘管尼康在後來也推出了浸潤式光刻機，但是在效率、性能、耐用性上面，要比ASML的裝置差很多，並沒有太多國際客戶接納尼康的浸潤式裝置，幾乎都是日本本土企業採購使用。從此開始，尼康的光刻機業務開始走下坡路。03 重返巔峰此次尼康針對中國市場進行的重點投入，可以算是為中國企業提供了全流程服務。從封裝光刻機到前端曝光光刻機，再到光刻機配套的對準站裝置，尼康全部拿出來為中國客戶提供技術服務。並且尼康較為先進的浸潤式光刻機NSR-S625E，以及尼康最新款的乾式DUV光刻機NSR-S333F也被拿出來投入到中國市場上服務中國客戶。據尼康株式會社發佈的官方資料顯示，尼康基於旗艦浸潤式光刻機NSR-S636E技術平台降級推出 了最新的乾式DUV光刻機NSR-S333F。該裝置在上一代NSR-S322F的基礎上升級製造效率和疊加精度，並且還擁有尼康最先進的技術平台，適用於邏輯晶片、儲存晶片、圖像感測器等產品的製造。2025年10月份接受客戶訂單，2026年下半年進行首批交付。參考資料：Introducing the NSR-S333F ArF Scanner - Now Open for Orders Starting in October | News | Nikon About Ushttps://www.nikon.com/company/news/2025/0925_01.html現在全球擁有光刻機製造能力的國家企業屈指可數，日本的尼康和佳能、荷蘭的ASML、中國的上海微電子及其分支企業。荷蘭ASML受美國出口管制的影響，已經無法將EUV光刻機和較為先進的浸潤式DUV光刻機出口給中國企業。雖然美國敦促日本禁止將光刻機出售給中國企業，但是日本光刻機已經不包含美國技術體系，所以美國無法通過最小比例原則來強制性封鎖日本光刻機的對華出口，這就給了日本光刻機企業一個機會。ASML無法與中國企業建立更廣泛的合作，所以尼康就打算通過中國市場來填補ASML留下的市場缺口，從而振興尼康光刻機業務的經濟效益。尼康最新發佈的乾式DUV光刻機NSR-S333F，在光源波長、鏡頭解析度上面與中國工信部在2024年公佈的國產乾式光刻機不相上下。但是尼康的裝置基於先進的浸潤式平台降級打造，其套刻精度為≤ 4nm。在套殼精度上面，尼康的裝置要強於中國乾式DUV光刻機的≤ 8nm。從技術指標上面來看，尼康的光刻機要比我們的國產裝置更具商業化優勢。但是尼康的產品就算再好、技術水平再先進、價格再實惠，其本質上也是外國的技術裝置。這對於當下追求晶片產業鏈自主可控的各大中國企業來說，日本尼康的裝置可以考慮購買，但絕不能是因為購買尼康的產品而忽略國產裝置的發展。 (逍遙漠)

近日，日本光學巨頭尼康（Nikon）發佈了其歷史上最為慘烈的虧損預警——預計2025財年將出現850億日元的巨額虧損，創下公司自1917年創立以來的百年最差紀錄。其核心的光刻機業務遭遇全線潰敗，讓昔日光刻霸主正陷入空前生存危機。援引多處報導顯示：過去半年，尼康光刻機僅出貨9台，且全部為技術含量較低的成熟製程老款裝置，技術代際明顯滯後。這意味著，這家曾經與英特爾、AMD深度繫結、制定行業標準的王者，在先進製程領域已徹底失去競爭力。尼康不僅未能承接住這一波AI算力爆發的紅利，反而因訂單大幅萎縮和庫存積壓，陷入了前所未有的財務泥潭。與之形成刺眼對比的是，2025年荷蘭ASML狂賣327台，僅高端EUV光刻機就出貨48台，佔據全球高端市場絕對主導地位。一個時代的轉折點曾與ASML、佳能並稱“光刻機三巨頭”的尼康，2001年時還佔據全球光刻機市場約40% 份額，全球幾乎每兩台光刻機中就有一台產自尼康。這家當時被晶片巨頭們競相追捧的對象，如今市佔率已跌至個位數，市場競爭力幾近歸零。從巔峰到谷底，尼康的墜落並非一夜之間。它的命運轉折，恰好映照出全球光刻機市場三十來年的風雲變幻，也向業界拋出一個殘酷的問題：當行業老大一騎絕塵，曾經的王者該如何自處？當技術路線被對手鎖死，後來者還有沒有翻盤的機會？從巔峰到谷底，尼康的潰敗之路尼康光刻機的“黃金時代”要理解尼康的隕落，得先回到它的光輝歲月。尼康的光刻機業務起步於上世紀70年代，依託其在相機鏡頭領域的核心技術優勢，快速切入半導體光刻裝置市場。彼時，全球半導體產業正處於快速崛起的初期，晶片製程從微米級向奈米級逐步邁進，光刻裝置作為晶片製造中最核心、最複雜的裝置，成為各大企業爭奪的焦點。憑藉精準的市場判斷和領先的光學技術，尼康迅速在光刻機市場站穩腳跟，並在上世紀80年代迎來爆發。當時，尼康推出的193nm波長乾式光刻機，憑藉超高的解析度和穩定性，成為全球晶片廠商的首選裝置，一舉主導了193nm乾式光刻時代的市場。據行業資料顯示，在1990年代中期，尼康的光刻機全球市場份額一度突破50%，與佳能平分秋色，兩者合計佔據全球光刻機市場90%以上的份額，形成了“日企雙雄”壟斷的格局。這一時期的尼康，最核心的競爭力在於與全球頂尖晶片企業的深度繫結。當時，英特爾、AMD等美國晶片巨頭，正全力推進CPU製程的升級，而尼康的光刻機，憑藉穩定的性能的領先的技術，成為這些企業的核心供應商。尼康為英特爾量身定製的光刻裝置，完美匹配其CPU的生產需求，幫助英特爾在與AMD的競爭中佔據優勢。據悉，從英特爾、AMD、IBM到德州儀器，全球晶片巨頭為了求得一台尼康光刻機，不惜成立對接團隊常駐尼康矽谷分部，只為爭取優先供貨權。坊間甚至流傳，有半導體老闆親赴尼康工廠蹲點，預付全款只為求一個偵錯名額。這種深度繫結，也讓尼康獲得了穩定的訂單和豐厚的利潤，進一步鞏固了其行業地位。除了繫結美國巨頭，尼康在日本本土也擁有強大的客戶基礎。索尼、東芝、日立等日本半導體企業，均是尼康的核心客戶，這種“本土協同”的優勢，讓尼康在全球市場中如虎添翼。在巔峰時期，尼康的光刻機不僅是技術的標竿，更是行業標準的制定者，其推出的光刻技術規範，被全球多數晶片廠商採納。在尼康的鐵騎之下，美國光刻機鼻祖GCA被迫宣告破產；彼時的ASML，也還只是一個在歐洲市場掙扎、市場份額不足10%的小廠商，根本無法與尼康相提並論。在當時，尼康可謂風光無限，其輝煌程度甚至超過如今的ASML。光刻業務成為集團的核心盈利支柱，帶動相機、望遠鏡等其他業務共同發展，尼康也一度成為日本製造業的驕傲，被視為技術立國的典範。沒有人會想到，這樣一個站在行業頂端的王者，會在短短二三十年後，陷入如此艱難的境地。三重失誤，一步步錯失時代浪潮轉折發生在2002年。那一年，時任台積電資深處長的林本堅，敲開了尼康的大門。針對當時193nm乾式光刻機遭遇瓶頸、下一代157nm光源研發進展緩慢的局面，林本堅提出了一個顛覆性設想：在鏡頭與晶圓之間注入一層水。利用水的折射率，可以將193nm光源的等效波長縮短至134nm，從而繞過157nm路線的諸多難題。這就是後來改變半導體歷史的浸沒式光刻技術路線。這本來是一條成本更低、效果更好的捷徑，卻遭到尼康幾乎所有高管的反對。從會長到技術帶頭人，甚至沒有人有耐心細聽林本堅的解釋。尼康的代表當場質問：“如果水污染了鏡頭，你們台積電賠得起嗎？如果氣泡導致批次報廢，這個責任誰擔？”更深層的原因在於路徑依賴。當時尼康已經在157nm乾式光刻機上投入了超過數億美元。轉攻浸沒式路線，意味著此前投入全部打水漂。據華商韜略報導：尼康不僅拒絕了林本堅，甚至試圖利用自己的行業威望來封殺這個構想。據林本堅後來回憶，尼康高層曾給台積電研發副總蔣尚義打電話稱：“請管好你們的林本堅，不要讓他到處推銷這種破壞行業共識的構想，這會讓大家分心並浪費資源。”在尼康碰壁後，林本堅飛往荷蘭。彼時的ASML尚在夾縫中求生，急需破局機會。ASML的技術靈魂馬丁·范登布林克（Martin van den Brink）力排眾議，將ASML所有資源押注在這個瘋狂的想法上。2004年，ASML與台積電合作推出世界上第一台浸潤式光刻機ArFi，憑藉更高的精度和更低的成本橫掃全球市場。2007年，ASML市佔率突破60%，首次形成碾壓態勢；2010年後，ASML市佔率突破70%，尼康、佳能被徹底拉開差距。尼康引以為傲的頂級鏡頭，在新的技術路線面前瞬間失色。尼康和佳能被迫放棄157nm路線轉而跟進浸沒式，但早已為時過晚。在浸沒式ArF光刻領域，ASML憑藉其成熟的TWINSCAN雙工件台技術已牢牢掌握九成以上的市場份額。這是一場教科書級的技術誤判。尼康並非沒有技術能力，而是被自己的成功經驗禁錮，對體系之外的新技術有一種天然的排斥。然而，浸沒式的失利只是開始，尼康真正的“滑鐵盧”還在後面。面對浸沒式光刻機戰役的慘敗，尼康將希望寄託於下一代技術：EUV（極紫外光刻）。這種波長更短（13.5nm）、能夠在晶片上雕刻更微小電路的技術，被其視為重返巔峰的關鍵一役。時任尼康光刻機技術負責人的馬立稔和，立下雄心壯志：全自研、全日本產。他試圖在封閉的牆內，復刻那個精密製造征服世界的時代。同時，已失去晶片霸主地位的日本政府也傾力支援，將其視為國運之戰。以經濟產業省為主導，日本建構了一個龐大的“產官學”聯合體，投入數百億日元資金，聯合尼康、佳能、東京電子、信越化學等產業鏈企業，共同攻關。這是一次典型的日本式衝鋒：資源集中，目標單一。但此時，世界已經變了。就在尼康傾力EUV項目的2012年，ASML接到了來自英特爾、三星、台積電的首次大規模戰略投資。三大客戶共同出資，幫助ASML加速研發EUV，同時建起了自己的EUV聯盟。這個聯盟不僅捆綁了全球最頂尖的晶片製造商，還集結了德國蔡司（鏡頭）、美國Cymer（光源）等全球最強的產業鏈企業。這種"垂直合作"模式讓ASML能夠集中資源於系統整合與核心技術突破，而非面面俱到。這也是尼康失敗的深層原因之一。長期以來，日本企業篤信全自研的生產模式，核心零部件（透鏡、光源、精密機械）均選擇高度自研。這種“垂直整合”在技術迭代慢的時代能保證極致品質，但當EUV這種需要全球高度協作的行業，研發費用動輒百億美金、涉及10萬個零部件的“人類工業巔峰”到來時，尼康發現，它早已無力支付這張入場券。而ASML“利益捆綁、風險共擔”的選擇了使其走向了完全不同的道路。更要命的是，曾經在晶片上吃過日本大虧的美國，以國家安全為由，將尼康、佳能等日系廠商排除在EUV技術聯盟之外，切斷了它們獲取美國頂尖技術的通道。至此，尼康的“全自研”，變成了“閉門造車”。截止2018年，尼康在EUV項目上的投資據估算超過千億日元，堪稱公司歷史上最大單筆技術押注。但這筆投入換來的，僅是一台無法商用的原型機。當ASML的EUV光刻機早已在台積電產線上瘋狂迭代時，尼康的原型機依舊在實驗室吃灰。當2018年台積電宣佈7nm製程量產時，ASML憑藉EUV壟斷了全球90%的高端光刻機訂單，形成沒有替代品的技術霸權。最終，尼康公司不得不宣佈：終止EUV光刻機的商業化開發。除了技術路線的連環誤判，尼康在市場策略上也犯下致命錯誤。它過度押注單一巨頭英特爾。2024年，英特爾因巨額虧損大幅削減資本開支，直接導致尼康訂單暴跌。同時，尼康未能及時拓展台積電、三星等核心晶片廠商，訂單缺口無從填補。外部政策環境更是雪上加霜。過去五年，中國曾是尼康最大的"救命稻草"。隨著大陸晶圓廠擴產，尼康精密裝置對華銷量佔比一度超過40%。然而，在美國對中國實施半導體裝置出口管制時，尼康選擇了緊跟美國步伐，放棄合作機會，導致尼康裝置交付延誤、成本飆升，中國客戶紛紛轉向國產替代，進一步擠壓其生存空間。《日經亞洲》曾對此指出，中國已成全球第三個擁有完整光刻機製造能力的國家，尼康再想憑高價舊款分羹，早已錯失良機。2025年9月，尼康關閉了營運58年的橫濱工廠，標誌著其光刻機業務進一步收縮。而70歲的馬立稔和即將卸任。從技術帶頭人一路走到權力巔峰，這位尼康老將曾試圖以一己之力挽回昔日榮光，但終究力有不逮。ASML：從“守成”到“進攻”在尼康一步步走向潰敗的同時，ASML則從一個行業追隨者，已成長為全球光刻機市場的絕對霸主。在高端光刻機領域。ASML的壟斷地位無人能及。尤其是EUV光刻市場，ASML更是一家獨大，掌控著7nm及以下先進製程晶片製造的“咽喉”，無論是台積電、三星，還是英特爾，都依賴ASML的EUV光刻機。據統計，ASML在EUV光刻機市場的份額達到100%，在高端DUV光刻機市場的份額也達到90%以上，形成了堅實的技術壁壘和市場護城河。這構成了它的“現金牛”和壟斷根基。但ASML並未止步於此。隨著摩爾定律逼近物理極限，單純依靠電晶體微縮來提升晶片性能的成本越來越高，難度越來越大。產業界將目光投向了另一個方向：先進封裝。隨著晶片製程不斷逼近物理極限，先進封裝技術成為提升晶片性能的重要路徑。這正是輝達的H100/B200等AI晶片所依賴的核心技術——台積電CoWoS、InFO等封裝技術的重要性由此凸顯。ASML敏銳地意識到：僅控制“前道製造”，或許已不足以主導未來。如果能夠在先進封裝裝置領域佔據優勢，就能夠從“前道製造”延伸至“後道封裝”，實現對整個晶片製造流程的掌控，進一步擴大自己的市場份額，鞏固行業霸權。於是，ASML轉向“進攻”，開始向先進封裝裝置領域進行佈局和探索。正可謂，當對手還在泥潭時，贏家已經開始重新定義新戰場。2025年10月，ASML邁出實質性步伐，推出首款先進封裝光刻機 TWINSCAN XT:260，正式進軍先進封裝市場。這款裝置採用365nm i線光源，實現400nm解析度圖案化，主要應用於RDL、TSV等關鍵工序。其套刻精度達±1.2nm，較前代提升52%，生產效率達每小時270片晶圓，較前代提升4倍。TWINSCAN XT:260的推出，標誌著ASML正式進入先進封裝裝置市場，而其憑藉光刻裝置領域積累的技術優勢和品牌影響力，迅速獲得了市場的認可。據業內消息，台積電、三星等核心客戶已經紛紛下單，訂購ASML的先進封裝光刻機，用於其Chiplet技術的研發和量產。但這或許只是開始。近日，據業內人士消息透露，ASML已著手研發混合鍵合機台，並攜手EUV光刻機磁懸浮系統元件供應商Prodrive、VDL-ETG等合作夥伴聯合推進。混合鍵合是下一代3D整合的核心技術，能夠實現銅對銅的直接鍵合，省去凸塊，大幅提升互聯密度。能看到，ASML正試圖將光刻機的技術壁壘——精密對準、高精度運動控制——複製到後道裝置，搶奪原本屬於Besi、應用材料等裝置廠商的蛋糕。ASML首席技術官Marco Pieters此前曾公開表示，公司會持續研判半導體行業的長期發展趨勢，重點關注封裝、鍵合等領域所需的裝置基座研發，為佈局相關業務做好技術儲備。ASML的出擊釋放出一個明確訊號：裝置巨頭之間的戰爭，已從單一工序演變為對整個晶片製造流程的鏈式競爭。誰能提供從前道到後道的系統級解決方案，誰就能在下一輪產業洗牌中掌握更大話語權。佳能：偏安一隅，在夾縫中尋找“奇點”在尼康潰敗、ASML稱霸的格局下，佳能選擇了第三條路。作為三巨頭之一，佳能同樣錯失了EUV時代。但它沒有像尼康那樣在高端市場硬碰硬，佳能很清楚，在波長競賽上它已無法追上ASML，而是務實轉身，聚焦差異化生存。一方面，佳能深耕成熟製程光刻機市場。依託在光學領域的積累，佳能提供高性價比的產品，穩守i-line、KrF等成熟製程市場這一基本盤，使其在二、三線晶圓廠中擁有極高的忠誠度。雖然技術層級低於ASML的EUV和ArFi裝置，但佳能穩守利基市場，在功率器件、感測器、顯示驅動、先進封裝等成熟製程領域活得滋潤。另一方面，佳能正在進行一場新的探索：奈米壓印（NIL）。這項技術的原理與光學光刻完全不同，NIL不使用複雜的光學系統將圖案投影到晶圓上，而是像蓋章一樣，直接將帶有電路圖案的範本壓印在晶圓的光刻膠上，再用紫外線固化。理論上，奈米壓印優勢顯著：解析度可媲美甚至超越EUV，成本僅為EUV系統的十分之一，單片製程成本約為EUV的四分之一；能耗更是降低九成以上——EUV整機功率可達1兆瓦，而NIL僅需約100千瓦。佳能於2014年收購了奈米壓印公司Molecular Imprints Inc.，推出自有技術品牌J-FIL。2023年10月，佳能正式推出FPA-1200NZ2C奈米壓印光刻系統，宣稱可用於生產5nm晶片，未來甚至有望下探至2nm。SK海力士已從佳能引進奈米壓印裝置，計畫用於3D NAND快閃記憶體量產。這是對EUV體系的徹底繞過，如果奈米壓印能在對缺陷率包容度較高的儲存晶片領域率先大規模量產，佳能或將能直接改寫遊戲規則。然而，奈米壓印的商用之路依然佈滿荊棘，範本壽命與缺陷控制是該技術面臨的兩大核心難題。由於範本直接接觸晶圓，其上的奈米級結構極其脆弱。目前量產測試顯示，範本壽命僅能支撐壓印約50片晶圓，遠不及光學掩模的10萬片級壽命。佳能聲稱新設計可延長十倍，但業界實測仍不理想。更致命的是缺陷複製問題：範本上任何微小缺陷都會被覆制到所有晶圓上，造成嚴重的重複缺陷。而要檢測範本缺陷，所需裝置產能相當於全球掩模檢測裝置一整年的供應量，經濟效益明顯不符。此外，NIL的套刻精度與產能仍落後ASML的EUV系統。由於佳能採用單晶圓台架構，無法同時執行測量與壓印，最高產能僅約每小時25片晶圓。正如業界形容：“NIL就像一隻設計完美的精密鐘錶，性能與成本都遠勝競品，但關鍵齒輪卻是玻璃制的——看似完美，卻撐不過實際運轉。”佳能顯然意識到這一點，仍在持續投入研發。2026年1月，佳能宣佈在世界上首次開發並實際應用了一種名為IAP（噴墨自適應平坦化） 的突破性晶圓平坦化技術，利用奈米壓印技術積累，可將300mm晶圓表面的地形起伏控制在5nm以內，計畫2027年商用。這可以視為奈米壓印技術的衍生應用，繞開核心難題，先在細分領域尋找突破口。佳能的路徑給行業一個啟示：當主流技術路線已被巨頭壟斷，後來者未必需要正面硬剛。在夾縫中尋找技術奇點，圍繞長尾客戶建構差異化競爭力，同樣可以贏得生存空間。復盤與啟示：光刻機戰場的規則變了復盤全球光刻機三巨頭的發展路徑，不難發現，如今的光刻機市場，已經形成了“ASML稱王，佳能偏安，尼康掉隊”的格局。三家企業的命運沉浮，折射出全球光刻機行業的深刻變革，釋放出諸多值得深思的訊號，也為行業內的其他企業，提供了寶貴的啟示。企業基因的博弈尼康和佳能的困境，在很大程度上反映了日本製造業在面臨顛覆式技術變革時的共性問題——路徑依賴與完美主義。日本企業在技術研發上，往往追求極致的完美，一旦投入資源研發某一種技術路線，就很難輕易放棄，這種“路徑依賴”，讓其在面對新的技術浪潮時，難以快速調整戰略，最終錯失機遇。尤其是在顛覆性技術面前，過往的成功經驗往往是最大的包袱。尼康在浸沒式技術面前的遲疑，本質上是對自身“垂直整合”模式的自信——核心部件全部自研，才能保證絕對品質。但當光刻機的複雜程度呈指數級上升時，這種封閉體系反而成為創新阻礙。沒有任何一家公司能夠獨自掌握所有尖端技術。ASML的成功，恰恰得益於其開放與協作。ASML敏銳地捕捉到技術變革的趨勢，快速調整技術路線，與全球頂尖供應商展開深度合作，建構了龐大的產業鏈生態。這種開放的協作模式，讓ASML能夠集中精力專注於核心技術的整合與最佳化，同時借助全球資源，快速提升產品性能，降低研發成本，最終實現了行業壟斷。這種開放協作建立的生態系統優勢，或許比單打獨鬥更難被覆制。這背後，是企業基因的差異。日本企業的“垂直整合”基因，強調自給自足、精益求精，在技術相對穩定的時代，能夠發揮優勢；但在技術快速迭代、複雜度不斷提升的今天，這種基因反而成為創新的阻礙。ASML的開放協作基因，強調資源整合、靈活應變，更適應新時代的行業發展趨勢。此外，ASML的成功，還得益於其持續創新的基因。在壟斷高端光刻機市場後，ASML並沒有固步自封，而是敏銳地捕捉到先進封裝技術的機遇，加速跨界佈局，從單一的光刻裝置供應商，向全流程半導體裝置供應商轉型，持續擴寬自己的護城河。不過，佳能在錯失機遇後，相比尼康展現出更強的戰略靈活性。它沒有固守傳統光刻技術，而是聚焦差異化選擇，探索新路徑，發展長尾客戶，在夾縫中獲得了自己的生存空間。這種"知進退"的智慧，值得其他非頭部廠商借鑑。競爭維度升維：從“單機”到“生態”光刻機的戰爭暫時可能已經結束，但半導體裝置的戰爭才剛剛開始。ASML向先進封裝的擴張，標誌著裝置巨頭之間的競爭維度已經升級。當光刻機市場的勝負已定，ASML開始利用其在精密對準、高精度運動控制領域的技術壁壘，向後道裝置延伸，試圖建構從“前道製造”到“後道封裝”的全流程解決方案。據Yole Group預測，全球先進封裝市場規模將從2024年的380-460億美元增長至2030年的790-800億美元，年複合增長率達9.4%-9.5%。這一增量市場，將成為裝置巨頭們爭奪的新戰場。這也意味著，未來的半導體裝置市場，競爭將不再是單點突破，而是系統級的技術整合能力，將從單一環節開始向全流程佈局轉型。誰能提供更完整的解決方案，幫助客戶降低系統複雜度、縮短上市周期，誰就能在下一輪競爭中佔據主動。另外還值得注意的是，地緣政治因素也將深刻影響未來半導體裝置市場的格局。近年來，全球半導體產業的地緣政治博弈日益激烈，出口管制、技術封鎖等措施，不僅影響了企業的發展，也改變了行業的供應鏈格局。未來，企業在制定戰略時，也要充分考慮地緣政治因素，建構多元化的供應鏈，降低經營風險。寫在最後尼康的倒下，更像一個警鐘，提醒所有科技企業：在這個由資本和技術雙重驅動的殘酷行業裡，沒有永遠的王者，只有時代的適應者。尼康並非沒有技術，也並非沒有資金。它輸在對新趨勢的誤判，輸在封閉體系的慣性，輸在未能及時調整客戶結構的遲緩。當技術路線轉向時，昔日的資產可能瞬間變成負債。ASML的今天，源於二十年前那次擁抱浸沒式技術的果敢，源於建構全球開放生態的戰略遠見。但歷史已經證明，霸權往往是衰落的前奏。當ASML從光刻機霸主向“全產業鏈整合者”擴張時，它也在面臨新的風險：技術複雜度的進一步攀升、地緣政治的不確定性、以及潛在顛覆性技術的威脅。據中商產業研究院預測，2026年全球光刻機市場規模預計將達392億美元。在這個規模巨大且快速膨脹的賽道上，遊戲規則已然改寫，技術範式的轉換、商業模式的創新、生態系統的博弈，隨時可能顛覆既有格局。唯一確定的是，半導體產業的競爭永遠不會停歇。唯有保持開放、擁抱變革，以及對時代變遷始終保持敬畏的企業，才能在下一次技術浪潮中存活下來。尼康的潰敗，是一曲舊時代的輓歌；而ASML的擴張與佳能的探索，則是新戰局的序章。光刻機的故事遠未結束，它只是翻到了更複雜、更殘酷的一頁。 (半導體行業觀察)

2026年開春，一則重磅消息在日本產業界，炸響了驚雷。作為日本驕傲的百年光學巨頭尼康，2025財年預虧850億日元，創下公司歷史上最大虧損紀錄。這個數字，再次擊碎了日本產業的顏面。喪鐘尼康解釋，導致自身虧損的核心原因是：3D印表機業務拖累。但更多人卻將目光投向一個刺眼的數字：尼康光刻機業務，過去半年僅賣了9台，而且賣的幾乎全是成熟製程裝置。而地球另一端，荷蘭ASML也交出了半年答卷：僅高端EUV光刻機就狂賣20多台，總出貨量更高達160台。9對160，這不是差距，這是輓歌、喪鐘。在東京，尼康總部大樓的會議室裡，空氣凝固得讓人窒息。會長馬立稔和一臉憔悴，作為公司內部最懂光刻機技術的高管，他曾親眼見證了尼康昔日的輝煌。也正因為如此，眼前這般慘淡，才最為誅心。時鐘撥回到1980年代，那是尼康的沸騰年代。彼時的尼康，代表了日本精密製造的巔峰水平，它在專業相機與半導體光刻機兩大核心領域同時登頂全球。尤其光刻機，是半導體工業的心臟。而尼康的光刻機，又是業界的佼佼者。曾有媒體形容尼康光刻機的精度，堪比在富士山頂，精準命中東京街頭的一枚縫衣針。 甚至有人斷言：沒有尼康，就沒有現代半導體工業。那是尼康呼風喚雨的時代。從英特爾、IBM到德州儀器……全球晶片巨頭為了求得一台尼康光刻機，不惜放下身段。他們成立對接團隊，常駐尼康矽谷分部，只為爭取優先供貨權。坊間更流傳，有半導體老闆親赴尼康工廠蹲點，預付全款只為求一個偵錯名額。那時的尼康，壟斷了全球光刻機市場的半壁江山，地位正如今天的ASML，是不可撼動的霸主。在它的鐵騎之下，美國光刻機鼻祖GCA被迫宣佈破產，而今天的巨頭ASML，彼時不過是夾縫求生的小玩家，完全沒有話語權。當年還是一名普通工程師的馬立稔和，見證了尼康的登峰造極。當時的他，應該不會想到自己會在30年後成為尼康的統帥，更想不到自己作為統帥的尼康會走到今天這步田地。傲慢尼康是如何一步步輸掉的?答案藏在幾個關鍵人物的命運博弈中。其中的最大轉折點發生在2002年。那一年，時任台積電資深處長的林本堅，敲開了尼康的大門。針對當時193nm乾式光刻機遭遇瓶頸、下一代光源研發停滯的局面，天才科學家林本堅提出顛覆性設想：在鏡頭與晶圓之間注入水，借助水的高折射率，一舉突破當時被視為天塹的光源極限。也就是後來著名的浸沒式光刻機路線。這本來是一條成本更低、效果更好的捷徑，卻遭到尼康幾乎所有高管的反對。從會長吉田莊一郎到光刻機技術帶頭人馬立稔和，甚至沒有人有耐心細聽林本堅的解釋。在他們看來，尼康光學鏡頭是全球第一的精密儀器，把如此精密、價值不菲的透鏡泡在水裡，簡直是對光學工程的褻瀆。尼康的代表當場質問林本堅：“如果水污染了鏡頭，你們台積電賠得起嗎?如果氣泡導致批次報廢，這個責任誰擔?”更重要的是，當時尼康已經在157nm乾式光刻機上，投入七億多美金。轉而搞浸沒式路線，之前的巨額投入將全部打水漂。這也是吉田莊一郎們最不能接受的。所以，尼康不僅拒絕了林本堅，甚至還試圖利用自己在行業內的威望來封殺這個構想。據林本堅後來回憶，尼康高層曾在他拜訪之後，給時任台積電研發副總蔣尚義打過投訴電話，大意是：“請管好你們的林本堅，不要讓他到處推銷這種破壞行業共識(157nm路徑)的構想，這會讓大家分心並浪費資源。”但林本堅並沒有放棄自己的想法，在尼康碰壁之後，他飛往了荷蘭。在那裡，他見到了ASML的技術靈魂馬丁·范登布林克，一個有著典型歐洲人冒險基因的工程師。彼時的ASML尚在夾縫中求生，急需一個破局的機會，林本堅的想法令范登布林克欣喜若狂。此後，范登布林克力排眾議，將ASML所有的資源押注在這個瘋狂的想法上。沒過多久，ASML就聯合台積電，攻克了浸沒式技術。結果眾所周知。2004年，ASML浸沒式光刻機問世，橫掃全球。尼康引以為傲的頂級鏡頭，在新的技術路線面前，頓失風騷，其高端光刻機市場的半壁江山，也一起消失。孤勇如果說浸沒式技術的失誤是重創，那麼EUV的豪賭，則是壓垮尼康的最後一根稻草。面對浸沒式光刻機的失利，尼康並沒有放棄，而是將目光瞄準了下一代技術：EUV(極紫外光)。這是一種波長更短，能夠在晶片上雕刻更小電路的光源。彼時的馬立稔和已經從一名普通工程師，成長為光刻機技術負責人，眼裡看到的仍是那個屬於尼康的巔峰年代。他不但在尼康內部啟動了EUV預研，擔任原型機的技術掌舵人，而且還立下雄心壯志：全自研、全日本產。馬立稔和試圖在封閉的牆內，復刻那個精密製造征服世界的時代，重現日本製造的奇蹟。已經失去晶片霸主地位，不忍再失光刻機的日本政府也給予了大量支援，甚至將其視為國運之戰。為了集中力量攻克EUV光刻機技術，日本政府以經濟產業省(METI)為主導，建構了一個龐大的“產官學”怪物，不但投入數百億日元資金，吸引東京大學、京都大學、築波大學等眾多院校的頂尖光學與材料專家參與，還聯合尼康、佳能、東京電子、信越化學等上下游產業鏈企業，一起攻關、研發。這是一次典型的日本式衝鋒：資源集中，目標單一。2012年，馬立稔和升任尼康常務執行董事、全面接管EUV項目後，這場戰役也進一步升級。他手握重兵，試圖用金錢和意志，以及日本上下的必勝決心，砸開EUV的大門。但此時，馬立稔和面對的，是一個早已變天的世界。當尼康還在為雄心勃勃的全自研沾沾自喜時，地球另一端的ASML正在編織一張巨大的網。就在馬立稔和全面接管EUV項目當年，ASML接到了英特爾、三星、台積電的首次大規模戰略投資，建起了自己的  EUV聯盟，不僅捆綁英特爾、三星、台積電三大客戶，還集結了全球最強的產業鏈企業參與，德國蔡司鏡頭、美國Cymer光源都是其成員。更要命的是，曾經在晶片上吃過日本大虧的美國，以國家安全為由，將佳能、尼康等日系廠商，排除在EUV技術聯盟外，進而也切斷了尼康獲取美國頂尖技術的通道。日本政府對此束手無策，馬立稔和的全自研、全日本產，因此變成了“閉門造車”。至2018年，尼康在EUV項目上的投資，據估算超千億日元，堪稱公司歷史上最大的單筆技術押注。但這筆投入，換來的只是一台無法商用的原型機。當ASML的EUV光刻機早已在台積電產線上瘋狂迭代時，尼康的原型機依舊在實驗室吃灰。最終，馬立稔和不得不宣佈：終止EUV光刻機的商業化開發。尾聲對尼康而言，這本來是一場可以避免的悲劇。當林本堅的大腦裡，迸發出浸沒式技術的念頭時，尼康是他最早接觸的光刻機廠商之一，也是首選的託付對象。但傲慢和對技術的盲目自信，讓馬立稔和以及尼康的高管們，對自己體系之外的新技術有一種天然的排斥。錯失浸沒式紅利之後，尼康原本有機會翻盤，卻又走上盲目迷信全自研、全精密光學的垂直整合模式，將自主創新變成了閉門造車。隨著EUV項目的終止，尼康正陷入前所未有的困局：在前方，ASML早已絕塵而去;而後方，中國光刻機勢力正以雷霆之勢，蠶食其賴以生存的中低端腹地。昔日霸主，如今只能在夾縫中艱難喘息，9對160正是這種困局的真實寫照。2025年9月，尼康關閉了營運58年的橫濱工廠，標誌著其光刻機業務進一步收縮。而70歲的馬立稔和也即將卸任。從技術帶頭人一路走至權力巔峰，這位尼康老將，曾試圖以一己之力，挽回昔日榮光，但終究力有不逮。馬立稔和的離去，標誌著日本光刻機時代的落幕。而當年那個被他嘲笑的方案，現如今成了尼康高山仰止般的存在。站在辦公室，看著玻璃窗裡映出的那張蒼老的臉，馬立稔和心裡可能在想：“當年要是給林本堅一張試驗台，那怕是試一試……”尼康的失敗，是日本產業加拉帕戈斯化的又一例證：在殘酷的科技產業，最危險的不是技術落後，而是傲慢、封閉，是拒絕向外看，陷入進化的孤島。 (前瞻經濟學人)

2026年開春，日本產業界被一則消息炸懵了。百年光學巨頭尼康，預告2025財年預虧850億日元，創下歷史最大虧損。尼康對外解釋，虧損是3D印表機業務拖累。但明眼人都清楚，真正的癥結在光刻機業務。過去半年，尼康光刻機僅賣出9台，還全是成熟製程裝置。對比之下，荷蘭ASML的答卷格外刺眼。同期僅高端EUV光刻機就狂賣20多台，總出貨量高達160台。9對160，這不是差距，是無法踰越的鴻溝。會長馬立稔和一臉憔悴，他是公司最懂光刻機的高管。親眼見證過巔峰，再面對如今的慘淡，才最誅心。翻出舊資料，很難想像尼康曾有過那樣的輝煌。上世紀80年代，它是日本精密製造的代名詞。專業相機和半導體光刻機兩大領域，同時登頂全球。那時的尼康光刻機，精度堪稱行業標竿。有媒體形容，其精度堪比在富士山頂，命中東京街頭的縫衣針。甚至有人斷言，沒有尼康，就沒有現代半導體工業。全球晶片巨頭，都要圍著尼康轉。英特爾、IBM、德州儀器，為求一台裝置放下身段。有半導體老闆親赴工廠蹲點，預付全款求偵錯名額。當時的尼康，壟斷全球光刻機半壁江山。美國光刻機鼻祖GCA被它逼到破產。如今的巨頭ASML，彼時只是夾縫求生的小玩家。當年還是普通工程師的馬立稔和，見證了這一切。他或許從未想過，30年後自己掌舵時，尼康會跌落至此。尼康的衰敗，藏在兩次關鍵的決策失誤裡。第一個轉折點，是2002年拒絕林本堅的提議。時任台積電資深處長的林本堅，提出浸沒式光刻機構想。在鏡頭與晶圓間注水，突破193nm乾式光刻機的瓶頸。這是條成本更低、效果更好的捷徑。但尼康所有高管都反對，包括當時的技術帶頭人馬立稔和。他們覺得，把精密鏡頭泡在水裡，是對光學工程的褻瀆。更關鍵的是，尼康已在157nm乾式技術上投入7億多美金。轉向新路線，意味著前期投入全部打水漂。尼康不僅拒絕，還試圖封殺這個“異想天開”的構想。被尼康拒絕後，林本堅去了荷蘭，找到了ASML。ASML當時急需破局，果斷押注浸沒式技術。2004年，ASML浸沒式光刻機問世，橫掃全球市場。尼康引以為傲的鏡頭技術，瞬間失去優勢。高端光刻機市場的半壁江山，一夜易主。這一次失誤，成了尼康衰落的開端。如果說浸沒式是重創，EUV研發就是壓垮它的最後一根稻草。馬立稔和不甘心，立志靠EUV翻盤。他提出雄心勃勃的目標：全自研、全日本產。日本政府也全力支援，將其視為國運之戰。集結頂尖院校和企業，投入數百億日元攻關。這種封閉的“產官學”模式，看似強勢，實則埋下隱患。與此同時，ASML走了一條完全不同的路。它聯合英特爾、三星、台積電組建EUV聯盟。集結德國蔡司、美國Cymer等全球頂尖產業鏈資源。美國更是出手，將尼康排除在EUV技術聯盟之外。尼康的全自研，徹底變成了閉門造車。至2018年，投入超千億日元，只換來一台無法商用的原型機。馬立稔和最終無奈宣佈，終止EUV商業化開發。尼康徹底失去了追趕ASML的可能。2025年9月，尼康關閉了營運58年的橫濱工廠。如今的尼康，陷入了前後夾擊的困局。前方ASML絕塵而去，後方中國光刻機勢力不斷崛起。它賴以生存的中低端市場，正被逐步蠶食。70歲的馬立稔和即將卸任。從技術骨幹到公司會長，他拼盡全力，卻終究無力回天。他的離去，標誌著日本光刻機時代的落幕。 (1 ic芯網)