美研究員：中國企業不但囤積ASML的光刻機，而且還聘請ASML員工開發國產裝置

2026/04/02

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據美國戰略與國際研究中心研究員格雷戈裡·C·艾倫表示，中國科技公司已聘請ASML員工開發國產的光刻機裝置，但整體進度仍然處於落後狀態。

隨後艾倫補充表示，在美國禁令生效之前，中國企業與ASML緊急簽訂了採購協議，囤積了ASML部分老款光刻機，以便繼續製造那些不太先進的晶片。

美國經濟歷史學家、外交政策研究院主任克里斯·米勒在個人作品《Chip War》中指出，先進的光刻機裝置是人類迄今為止創造過的最複雜的工業機器，其供應鏈企業遍佈全球，包括了歐洲、美國、亞洲在內的5100家企業。

涉及學科複雜，包括材料學、物理學、化學、機械製造、設計光學等各類科學技術。

ASML的成功依託於全球資源體系的支援，並且服務於全球範圍內的客戶群體。

美國的對華限制讓ASML中國區業務出現不穩定因素，先封鎖了中國企業在2018年採購的EUV光刻機，隨後又接連封鎖了浸潤式光刻機的出口，這極大刺激了中國本土裝置企業，讓中國自主技術裝置迎來了大規模的集中發展。

ASML前CEO與現任CEO紛紛在接受採訪時指出，已經知曉中國企業在開發先進的國產光刻機裝置這件事，這完全合情合理。

中國是一個14億人口的大國，作為一個世界上最大的經濟體，中國企業絕對不會接受在關鍵技術上面被別人卡脖子的困境，美國試圖阻止中國發展科技，那麼中國就會更加努力地取得成功。

在先進晶片和EUV光刻機受到封鎖之後，中國企業積極採取備選技術方案，通過可採購到的ASML浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術製造國產7nm晶片。

該技術需要光刻機一次曝光，然後經過兩次沉積-刻蝕工藝的交替實現電晶體半間距的縮短，以此來達到等效7nm工藝的特性。

這種技術雖然可以製造7nm晶片，但是其能效、性能、良品率、成本均無法與先進的EUV技術相比。

在積極解決先進晶片卡脖子的困境時，中國企業還在持續推進國產化裝置的技術進度。

2024年中國工信部公佈了兩台光刻機裝置，一台KrF一台ArF。最先進的ArF裝置已經具備了65nm解析度，可以實現65nm—40nm的晶片製造。

雖然只是兩台幹式光刻機裝置，但對於中國之前90nm的裝置來說技術進步明顯。

ASML中國區總裁沈波此前在中國進博會上對媒體表示，從1988年ASML將第一台裝置運送到中國至今，中國大陸地區包括光刻機以及測量台在內的裝置數量達到了1400台左右。

這些ASML的裝置，一部分被拿去生產等效工藝為7nm的先進晶片，另一部分被用於製造28nm、14nm工藝的成熟晶片，這些成熟工藝的晶片被廣泛應用於汽車、工業控制、物聯網、消費電子等領域，佔全球總市場需求的60%以上。

大規模囤貨確保了在未來可能完全斷供的情況下，中國龐大的製造業基礎不至於因缺少裝置而停擺，為經濟安全構築了關鍵防線。

據ASML財報顯示，2023年至2025年，中國市場為其貢獻的總銷售佔比極高，某些季度一度達到了40%以上的規模佔比。

依靠ASML裝置形成的製造產業鏈，是整個全球晶片製造業的技術標準，同時也是中國國產光刻膠、鏡頭、工作台等裝置材料相對比的範本。

研發團隊可以將國產部件接入現有產線進行測試，對比其與進口原件的性能差距，從而獲得最直接的反饋資料進行迭代最佳化。

ASML的裝置能達到現在這麼穩定的水平，也是經過了長時間的技術偵錯與大量的資料資訊當做參考。依照ASML的標準進行國產技術的最佳化，這要比閉門造車效率高得多。

如今來自於美國的外部壓力，已經迫使中國半導體產業從單點突破轉向系統發展。

在刻蝕、沉積、清洗、檢測等多個裝置領域，北方華創、中微公司等本土廠商已加速進入主流產線，芯上微裝等本土光刻機企業也正在有條不紊的推動技術進步。

中國企業依靠內需市場以及前幾年所囤積的進口裝置，正在成熟製程領域形成規模優勢和成本優勢。

這不僅能滿足內需，還可能以更具競爭力的價格參與全球市場，從而在半導體產業的基本盤中佔據主導地位，削弱傳統巨頭的利潤基礎，為向高端進軍積累資本和市場話語權。 (逍遙漠)