01前沿導讀據美國戰略與國際研究中心研究員格雷戈裡·C·艾倫表示，中國科技公司已聘請ASML員工開發國產的光刻機裝置，但整體進度仍然處於落後狀態。隨後艾倫補充表示，在美國禁令生效之前，中國企業與ASML緊急簽訂了採購協議，囤積了ASML部分老款光刻機，以便繼續製造那些不太先進的晶片。02取得成功美國經濟歷史學家、外交政策研究院主任克里斯·米勒在個人作品《Chip War》中指出，先進的光刻機裝置是人類迄今為止創造過的最複雜的工業機器，其供應鏈企業遍佈全球，包括了歐洲、美國、亞洲在內的5100家企業。涉及學科複雜，包括材料學、物理學、化學、機械製造、設計光學等各類科學技術。ASML的成功依託於全球資源體系的支援，並且服務於全球範圍內的客戶群體。美國的對華限制讓ASML中國區業務出現不穩定因素，先封鎖了中國企業在2018年採購的EUV光刻機，隨後又接連封鎖了浸潤式光刻機的出口，這極大刺激了中國本土裝置企業，讓中國自主技術裝置迎來了大規模的集中發展。ASML前CEO與現任CEO紛紛在接受採訪時指出，已經知曉中國企業在開發先進的國產光刻機裝置這件事，這完全合情合理。中國是一個14億人口的大國，作為一個世界上最大的經濟體，中國企業絕對不會接受在關鍵技術上面被別人卡脖子的困境，美國試圖阻止中國發展科技，那麼中國就會更加努力地取得成功。在先進晶片和EUV光刻機受到封鎖之後，中國企業積極採取備選技術方案，通過可採購到的ASML浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術製造國產7nm晶片。該技術需要光刻機一次曝光，然後經過兩次沉積-刻蝕工藝的交替實現電晶體半間距的縮短，以此來達到等效7nm工藝的特性。這種技術雖然可以製造7nm晶片，但是其能效、性能、良品率、成本均無法與先進的EUV技術相比。在積極解決先進晶片卡脖子的困境時，中國企業還在持續推進國產化裝置的技術進度。2024年中國工信部公佈了兩台光刻機裝置，一台KrF一台ArF。最先進的ArF裝置已經具備了65nm解析度，可以實現65nm—40nm的晶片製造。雖然只是兩台幹式光刻機裝置，但對於中國之前90nm的裝置來說技術進步明顯。03裝置出口ASML中國區總裁沈波此前在中國進博會上對媒體表示，從1988年ASML將第一台裝置運送到中國至今，中國大陸地區包括光刻機以及測量台在內的裝置數量達到了1400台左右。這些ASML的裝置，一部分被拿去生產等效工藝為7nm的先進晶片，另一部分被用於製造28nm、14nm工藝的成熟晶片，這些成熟工藝的晶片被廣泛應用於汽車、工業控制、物聯網、消費電子等領域，佔全球總市場需求的60%以上。大規模囤貨確保了在未來可能完全斷供的情況下，中國龐大的製造業基礎不至於因缺少裝置而停擺，為經濟安全構築了關鍵防線。據ASML財報顯示，2023年至2025年，中國市場為其貢獻的總銷售佔比極高，某些季度一度達到了40%以上的規模佔比。依靠ASML裝置形成的製造產業鏈，是整個全球晶片製造業的技術標準，同時也是中國國產光刻膠、鏡頭、工作台等裝置材料相對比的範本。研發團隊可以將國產部件接入現有產線進行測試，對比其與進口原件的性能差距，從而獲得最直接的反饋資料進行迭代最佳化。ASML的裝置能達到現在這麼穩定的水平，也是經過了長時間的技術偵錯與大量的資料資訊當做參考。依照ASML的標準進行國產技術的最佳化，這要比閉門造車效率高得多。如今來自於美國的外部壓力，已經迫使中國半導體產業從單點突破轉向系統發展。在刻蝕、沉積、清洗、檢測等多個裝置領域，北方華創、中微公司等本土廠商已加速進入主流產線，芯上微裝等本土光刻機企業也正在有條不紊的推動技術進步。中國企業依靠內需市場以及前幾年所囤積的進口裝置，正在成熟製程領域形成規模優勢和成本優勢。這不僅能滿足內需，還可能以更具競爭力的價格參與全球市場，從而在半導體產業的基本盤中佔據主導地位，削弱傳統巨頭的利潤基礎，為向高端進軍積累資本和市場話語權。 (逍遙漠)

01前沿導讀據路透社報導稱，中國企業正在加快自主裝置的應用環節，多個中國晶片製造商在增加新的半導體製造產能時，都會有至少50%的製造裝置來自於本土供應商。此舉意在提升中國自研裝置的大規模應用，用國產裝置來替換掉曾經採購的進口裝置，將自主晶片的外部風險降到最低。02國產化據機構分析，中國企業大批次使用國產製造裝置這件事有兩點需要注意的問題，第一個問題是相關部門需要對特定的晶圓廠給予政策上面的允許，另一個問題是晶圓廠需要提交採購裝置的資訊，以此來證明裝置的支出至少有一半用於中國供應商。該行動是中國自主產業鏈的關鍵一環，50%只是一個基準線，其最終的目標是實現100%的國產化產業鏈，最大限度保護自主技術的安全性，從根源上杜絕被卡脖子的問題。美國持續多次對荷蘭施壓，先封鎖了EUV光刻機對華出口，隨後又封鎖了先進浸潤式光刻機的對華出口，導致中國企業在光刻機領域與國際產業鏈出現脫節的情況，只被允許從ASML購買十多年前的老舊成熟裝置。國產光刻機也在持續推進當中，已經完成了65nm解析度乾式光刻機的整機應用，目前正在推進浸潤式和EUV。儘管國產光刻機取得了一些成果，但現階段還無法與ASML的裝置相比，也無法大規模投入到生產線上替代ASML的裝置。在28nm及以上的成熟製程生產線中，100%的國產化製造是有望在近幾年實現的，但是在具有Fin FET電晶體結構的先進生產線中，如今還是以ASML的進口裝置為主，國產裝置無法填補這個缺口。據環球網引述日經亞洲發佈的新聞表示，儘管中國本土企業在多個前沿領域取得顯著進展，開發出了足以替代進口品牌的刻蝕、檢測、沉積、化學拋光等重要的本土製造工具，但中國企業仍面臨著一個難以踰越的技術障礙——光刻。光刻機不但複雜，而且造價昂貴，此前只有荷蘭ASML、日本的佳能、尼康等三家公司製造。對於中國企業來說，完成國產光刻機的開發，並且將其應用到國產晶片的製造環節，這是中國科技自立自強道路上必須要解決的問題。研發動力是中國晶片產業走向成功的關鍵因素，諷刺的是，美國對中國企業連讀多年的制裁壓制，為中國企業提供了從未有過的強大動力。幾乎所有的中國企業都在儘可能使用本土企業製造的裝置，那怕是曾經高度依賴進口裝置的中國企業，也將國產裝置納入供應鏈體系。部分中國製造商採用國產裝置後，因性能以及穩定性等因素導致產能下降，但是這並未阻止他們繼續使用國產裝置。通過汲取多次的失敗經驗來最佳化裝置，ASML此前已經證明了這是一條有效的方法。03產業規模據新華財經發佈的新聞指出，北方華創在2024年全球半導體裝置廠商規模榜單中排名第六，其全年營收同比增長35.1%，達到了298億元。在前五名當中，ASML優勢巨大排名第一，日本東京電子排名第四，剩下三個席位均由美國企業所佔據。北方華創雖全球排名第六，但是其市場經濟規模距離第五名的美國科磊有明顯差距。在絕對的產品技術與市場規模層面，國產廠商已經達到了國際主流水平，下一步就是要對行業巨頭髮起挑戰。而美國的出口管制以及國內的產業扶持政策，都在更加利多北方華創等本土裝置製造商。美國不允許中國企業購買進口裝置，那麼採購裝置這個環節就出現了空檔期，本土製造商自然而然就成為了相關企業的首選目標。據路透社報導指出，中國本土製造商在2025年全年訂購了400件以上的國產光刻機以及相關元件，總金額約為1.2億美元。在這400多件的訂單當中，包括了整機以及相關備用件，並沒有直接給出整機的數量。據ASML財報顯示，ASML用於成熟晶片製造的ArF乾式光刻機平均成本為2790萬美元，落後一點的KrF光刻機為1446萬美元，而先進的浸潤式光刻機的造價高達8250萬美元。按照ASML裝置的標準進行估算，中國製造商訂購裝置所花費的1.2億美元，大約相當於8台ASML的KrF光刻機。由此可以得出，中國企業採購的國產裝置基本都是面向於成熟晶片節點。先保證成熟晶片的自主可控，然後依靠成熟晶片所帶來的規模化經濟效益，帶動產業鏈進行先進裝置的自主研發，實現同步發展。 (逍遙漠)