美國：禁售、禁維修浸沒式DUV光刻機！

美國對中國半導體製造裝置的出口管制正從行政令走向立法化。一個跨黨派議員小組近日提出《MATCH法案》，旨在進一步限制向中國出口電腦晶片製造裝置，直接影響到荷蘭ASML等裝置供應商以及中芯國際、華虹、華為等中國頭部晶片製造商。

這項於周四晚公佈的法案草案，核心目標是保護美國在人工智慧領域的領先地位，防止中國公司獲得其無法自制的晶片製造工具，並確保位於美國盟國的公司面臨與美國競爭對手相同的限制。此前美國已通過川普或拜登政府主導實施了多輪出口限制，但此次是國會層面的立法行動。

議員們表示，他們的重點是將限制措施對準中國依賴進口的技術領域，例如用於晶片電路圖案化的浸沒式DUV光刻裝置。該市場由荷蘭ASML主導，日本尼康為次要競爭者。根據法案，不僅禁止向上述五家中國領先晶片企業出售此類裝置，還將禁止對這些裝置進行維修和維護服務。

這意味著，即便中國晶片製造商現有進口的浸沒式DUV光刻機，未來也可能因無法獲得原廠維修而面臨停產風險。該法案若通過，將對中國成熟製程和先進儲存晶片的產能擴張構成實質性打擊。目前，該法案尚處於提出階段，後續需經國會表決和總統簽署方能生效。 (晶片行業)