#DUV光刻機
中國開始量產國產DUV光刻機
近日外媒及國內權威管道確認,上海微電子自研SSA800系列193nm浸沒式DUV深紫外光刻機正式進入量產階段,成為國內可商業化交付的28nm製程光刻核心裝置。2026年規劃首批產出5台裝置,2027年產能擴充至20台以上,整機國產化率超85%,可原生滿足28nm晶片製造,依託多重曝光工藝可向下相容14nm成熟製程。首批裝置將優先交付中芯國際、華虹半導體、長鑫記憶體等頭部晶圓廠,用於功率半導體、記憶體晶片、車規級MCU等大批次成熟工藝生產。在海外持續收緊DUV裝置出口與維保管制的背景下,國產DUV量產直接補齊晶片製造最關鍵短板,打破艾斯摩爾在浸沒式光刻領域的獨家壟斷,標誌國內半導體裝置自主可控從技術攻關邁入規模化商用落地新階段。 國產浸沒式DUV光刻機量產是半導體產業鏈里程碑式突破,直接避險海外裝置管制風險,保障國內成熟製程晶圓廠擴產產能穩定。裝置放量將帶動光刻光源、雙工件台、光學鏡頭、精密結構件等上萬項零部件國產替代訂單集中釋放,倒逼上游精密製造、光學材料、特種陶瓷產業技術迭代。中長期將完善國內晶片製造閉環,降低成熟製程晶片對外裝置依賴,夯實功率晶片、記憶體晶片自主化根基,重塑全球半導體裝置供需格局。 相關上市公司梳理(不作個股買入推薦) 整機股權端,張江高科通過子公司參股上海微電子,直接受益整機量產估值重估。核心零部件領域,華卓精科為光刻機雙工件台獨家供應商,是裝置核心剛需部件;福晶科技供應DUV光源核心非線性光學晶體,深度繫結國產光源廠商;波長光電、炬光科技提供光刻照明系統、光學透鏡與光場勻化元件,訂單確定性較強。精密結構件方面,富創精密、華亞智能批次供貨光刻機腔體與鈑金結構件;先導智能佈局光刻特種陶瓷零部件與光源配套。配套耗材與工藝端,至純科技提供光學元件濕法清洗裝置,強力新材光刻膠、容百科技光刻配套電子化學品同步受益晶圓廠產線擴容,全鏈條充分分享國產DUV規模化放量紅利。 (翔談財經)
美國:禁售、禁維修浸沒式DUV光刻機!
美國對中國半導體製造裝置的出口管制正從行政令走向立法化。一個跨黨派議員小組近日提出《MATCH法案》,旨在進一步限制向中國出口電腦晶片製造裝置,直接影響到荷蘭ASML等裝置供應商以及中芯國際、華虹、華為等中國頭部晶片製造商。這項於周四晚公佈的法案草案,核心目標是保護美國在人工智慧領域的領先地位,防止中國公司獲得其無法自制的晶片製造工具,並確保位於美國盟國的公司面臨與美國競爭對手相同的限制。此前美國已通過川普或拜登政府主導實施了多輪出口限制,但此次是國會層面的立法行動。議員們表示,他們的重點是將限制措施對準中國依賴進口的技術領域,例如用於晶片電路圖案化的浸沒式DUV光刻裝置。該市場由荷蘭ASML主導,日本尼康為次要競爭者。根據法案,不僅禁止向上述五家中國領先晶片企業出售此類裝置,還將禁止對這些裝置進行維修和維護服務。這意味著,即便中國晶片製造商現有進口的浸沒式DUV光刻機,未來也可能因無法獲得原廠維修而面臨停產風險。該法案若通過,將對中國成熟製程和先進儲存晶片的產能擴張構成實質性打擊。目前,該法案尚處於提出階段,後續需經國會表決和總統簽署方能生效。 (晶片行業)
450億顆晶片停滯!荷蘭徹底封鎖DUV光刻機,歐媒:壟斷玩不下去了
最近晶片圈徹底炸了鍋,荷蘭突然官宣了光刻機出口的新規定,沒有任何預兆,一時間整個行業都亂了套。最直觀的影響就是,全球有450億顆晶片訂單直接停滯,沒法生產、沒法交付,不管是國內的工廠,還是國外的合作商,全都慌了神,只能被動等著,一點轍都沒有。可能有人會問,不就是一台光刻機嗎?至於鬧這麼大動靜?其實大家不知道,光刻機就是晶片製造的“核心命脈”,沒有它,再厲害的晶片設計也只是紙上談兵,根本造不出來。而全球高端光刻機市場,基本被荷蘭ASML一家壟斷,尤其是EUV和DUV兩種光刻機,前者造高端手機晶片,後者造咱們日常用的成熟製程晶片,都是剛需中的剛需。早在2023年,荷蘭就卡過咱們一次,但當時只卡最頂尖的EUV光刻機,咱們普通人平時接觸不到,對日常影響不大。可誰也沒想到,這管控力度越來越大,荷蘭直接裝都不裝了,新規狠到超出所有人預期——28nm、45nm這些成熟製程的DUV光刻機,只要是出口到中國,直接暫停發貨,連申請許可的機會都沒有,更狠的是,當天宣佈當天執行,連一天緩衝期都不給。這一下可把所有人都整懵了,國內的晶圓廠懵了,連荷蘭自己的ASML估計都沒反應過來。新規宣佈前一天,還有國內晶圓廠和ASML對接發貨,合同簽了、預付款付了,結果第二天就被通知“貨發不了,合作也黃了”,換誰誰不慌?荷蘭為何突然來這麼一出?說穿了就2個原因。一是被美國逼的,二是自己太飄了。美國這些年一直怕咱們晶片產業崛起,天天給荷蘭吹耳邊風,甚至拿貿易制裁威脅,逼著荷蘭擴大管控範圍,想把咱們的晶片產業卡死在搖籃裡。而荷蘭自己呢,覺得全球就它能造頂尖光刻機,咱們離不開它,只要一卡DUV,咱們的工廠就會停工,到時候只能求著它,既能賺大錢,還能賣美國一個人情,算盤打得噼啪響。可它千算萬算,沒算到自己搬起石頭砸自己的腳。450億顆晶片停滯,可不是鬧著玩的。一輛家用車就需要幾十上百顆成熟製程晶片,控發動機、導航、空調,少一顆都造不出來,新規一出,不少汽車廠直接停工,提車周期從1個月漲到3個月以上,熱門車型直接斷供。家裡的智能家電也受影響,訂好的冰箱、洗衣機遲遲不發貨,商家光違約金就賠了上千萬。工業、醫療領域更慘,生產線停工、醫療裝置供應不足,整個產業鏈全停擺了。國內晶圓廠首當其衝,斥巨資買的裝置要麼卡在港口,要麼沒法獲得技術支援,手裡握著訂單卻造不出晶片,只能眼睜睜違約,不少中小型廠家都快撐不下去了。而ASML也沒好到那去,中國是它第三大市場,佔全球營收20%,新規一出,對華訂單斷崖式下跌,今年1月還裁員1700人,連技術骨幹都沒保住。這時候歐洲媒體先炸了,《德國商報》吐槽,半導體產業本來就是全球分工,沒有那個國家能獨吞,荷蘭這麼幹,遲早害了自己。《金融時報》也說,卡中國的結果,是歐洲自己受損。而他們說的“一切都結束了”,其實是西方靠技術壟斷卡脖子的時代,徹底結束了。很多人擔心,咱們的晶片產業是不是徹底沒希望了?恰恰相反,荷蘭的禁令,反而把國產晶片“逼”出了一條生路。以前不少企業還想著走捷徑,能買ASML裝置就不搞研發,可現在才明白,靠別人永遠靠不住。如今國內企業卯足勁搞研發,28nm晶片大規模量產,14nm晶片穩定供貨,國產DUV光刻機也完成測試,送到晶圓廠驗證,效果遠超預期,光刻膠、蝕刻機等關鍵材料也實現突破,徹底擺脫進口依賴。其實道理很簡單,科技領域從來不是零和博弈,半導體產業高度全球化,合作才能共贏。荷蘭想靠壟斷卡脖子,最終只會被市場淘汰。歐媒說的沒錯,西方技術壟斷的時代結束了,而咱們的國產晶片,在封鎖中逆勢崛起,未來只會越來越強,再也不用怕被別人“卡脖子”。 (W侃科技)
歐洲智庫再出狠招:若中國不放鬆稀土管制,或將切斷ASML對華DUV光刻機售後支援
據彭博社援引歐洲外交關係委員會(ECFR)旗下智庫最新報告披露,若中國持續強化對關鍵稀土元素的出口管制,歐盟或將採取“對等反制”措施——推動荷蘭政府限制ASML對中國大陸客戶現有DUV光刻機的售後服務,甚至暫停相關裝置的維護與技術支援。這一提議標誌著中歐在高科技與關鍵資源領域的博弈正從“隱性摩擦”走向“顯性對抗”。報告指出,中國自2023年起逐步收緊對鎵、鍺、鏑、鋱等用於半導體、新能源和國防工業的關鍵稀土材料的出口許可,已對歐洲多個戰略產業造成實質性衝擊。而作為回應,歐洲方面正考慮將ASML在中國市場的巨大存在感轉化為談判籌碼。中國市場:ASML不可割捨的“收入支柱”根據ASML於2025年10月發佈的第三季度財報,中國大陸市場貢獻了高達24億歐元的系統銷售收入,佔其全球系統銷售額的42%。值得注意的是,其中超過90%的訂單來自深紫外(DUV)光刻機,尤其是NXT:1980Di及以下型號的成熟製程裝置。儘管美國主導的出口管制早已禁止向中國出口極紫外(EUV)光刻機,並對部分高端浸沒式DUV機型(如NXT:2000i及以上)實施嚴格限制,但大量用於28nm及以上成熟製程的DUV裝置仍被允許交付至非敏感用途的晶圓廠,包括汽車晶片、電源管理IC、工業控制晶片等廣泛領域。這些“非先進但不可或缺”的晶片,構成了現代工業社會的底層基礎設施。一旦ASML停止對已售裝置的維護服務,將直接導致中國數百條產線面臨停擺風險。歐洲的兩難:施壓 vs. 自損然而,此舉對歐洲自身亦是一把雙刃劍。ASML首席財務官羅傑·達森在財報電話會上坦言:“即便面臨地緣政治壓力,中國仍是ASML最大且最具韌性的單一市場。我們預計2026年來自中國的收入仍將保持穩定。”若全面切斷DUV售後支援,不僅將重創ASML營收——相當於一夜損失近四分之一的系統銷售收入,還可能加速中國本土光刻裝置的替代處理程序。這正是前CEO彼得·溫寧克多年來反覆警告的風險:“封鎖只會催生更快的自主創新。”事實上,這一趨勢已然顯現。在2025年上海灣芯展上,由上海微電子拆分成立的“上海芯上微裝”首次公開展示多款面向化合物半導體與先進封裝的國產光刻裝置。據《科創板日報》現場採訪,該公司核心團隊均來自原上海微電子光刻項目組,明確以“快速市場化”和“前道裝置攻關”為戰略目標。雖然目前尚無7nm以下邏輯晶片用國產光刻機問世,但中國已在刻蝕、薄膜沉積、清洗、量測等環節基本實現裝置全國產化。光刻,成為最後一塊“硬骨頭”。技術現實:DUV仍是不可替代的主力儘管EUV被視為摩爾定律延續的關鍵,但其高昂成本令多數廠商望而卻步。第一代EUV光刻機售價超1.2億美元,而新一代High-NA EUV更是飆升至3.8億美元。即便是台積電這樣的行業龍頭,也對大規模部署持謹慎態度。相比之下,DUV技術成熟、性價比高,配合多重曝光工藝,仍可支撐14nm甚至7nm晶片的量產——中芯國際即在2023年利用ASML NXT:1980Di裝置成功試產7nm晶片。兩年過去,受限於裝置獲取瓶頸,中國先進製程雖未突破5nm,但在成熟製程領域產能持續擴張,對DUV裝置的依賴有增無減。博弈升級:資源與技術的“相互挾持”歐洲智庫此次提議,本質上是一場“資源換技術”的戰略試探。稀土是晶片製造中不可或缺的材料——從磁體到拋光液,從雷射器到感測器,無不依賴稀土元素。而光刻機則是晶片製造的“心臟”。雙方各自握有對方難以短期替代的關鍵資產。但這場博弈的風險極高。若歐洲真對ASML售後下手,不僅可能觸發中方更嚴厲的稀土反制,還可能徹底激化中國加速建構“去美化+去歐化”供應鏈的決心。屆時,ASML或將永久失去全球最大半導體增量市場。正如一位不願具名的歐洲半導體分析師所言:“用今天的收入去賭明天的談判優勢,是一場危險的豪賭。而中國,已經不再是沒有備胎的玩家。” (晶片研究室)
美國科技媒體:中國自研的晶片裝置迎來新突破,ASML高管在多年前的預言成真了
01 前沿導讀據美國科技媒體Wccftech轉載《金融時報》的資訊報導稱:中國企業正在測試一款全新的前端製造裝置,該裝置搭載了浸潤式系統,可以製造14nm、7nm等製程工藝的晶片,這與ASML的浸潤式DUV光刻機在技術上面如出一轍。02 自主裝置自從美國對荷蘭政府施壓,對華封鎖了EUV光刻機之後,中國企業又花費了大量資源從ASML採購了未被限制的DUV光刻機,這些裝置在2022和2023年期間進行了集中交付。並且在同一年當中,中國的5G國產7nm晶片實現量產商用。2024年,美國政府的新一輪制裁來襲,在之前的基礎上實行DUV光刻機的出口限制,將NXT:1970i、NXT:1980i、NXT:2000i及以上型號這些較為先進的浸潤式DUV光刻機全部封鎖,切斷ASML與中國市場的一切合作。美國經濟歷史學家克里斯·米勒在其個人作品《Chip war》中寫到:中國第一步的發展方案是建立一個去美化的供應鏈體系,也就是在製造晶片的整個環節當中將美國供應商剔除,採用歐洲或者是亞洲的技術裝置。建立一個尖端、全國範圍內的供應鏈至少需要10年以上的時間,這段時間的投入成本將會超過1兆美元,一上來就走純國產供應鏈體系,相當不划算。並且在2024年的世界知識論壇當中,米勒也提到了EUV光刻機是ASML吸納了全球頂尖供應商,花費了30多年才完成的裝置,是人類迄今為止在工業裝置領域最複雜的產品。光是製作光源部件就需要450000個零部件以上,如果將每一個零部件全部國產化,那麼這個代價是不可估量的,除了必要的資金投入之外,還需要專業的技術人員和基礎的資源供應,這是一項需要打持久戰的工程。荷蘭科技記者馬克·海金克幾年前對ASML公司進行了專訪,他採訪了包括馬丁·范登布林克、范霍特、彼得·溫寧克在內的核心領導者。據ASML的領導層表示,早在2018年和2019年的時候,ASML就已經發現中國的上海微電子公司正在攻克浸潤式技術。該技術對於中國企業來說難度不小,那怕是造出來了國產浸潤式光刻機,距離投入生產線製造晶片也還需要一定的時間。不過美國的制裁限制,給了中國企業機會,迫使許多中國企業開始投入大量的資金去抱團發展,解決卡脖子的困境。中國的國產光刻機雖然較國際水平落後,但是在美國的封鎖下,中國晶片公司會主動採用國產裝置來製造晶片。在實際的製造中不斷提升自身的技術水平,中國企業很有可能將會在眨眼間變得羽翼豐滿,縮短與歐美國家的技術差距。03 全產業發展以往的國產裝置發展,其困難點不在於技術開發,而在於市場化發展。裝置是需要拿出來用的,是需要投入市場創造利益價值的,而不是放在實驗室裡和紙面的技術報告上。但是推動國產裝置的市場化發展又需要企業的支援,國外的裝置在性能和價格上優勢巨大,這也就造成了國內的企業不願意優先採用國產裝置,產業鏈陷入死胡同。這種局面需要有企業站出來支援國產裝置,並且帶動整個產業鏈變得活躍起來。美國的制裁在一定程度上推動了國產自主裝置的發展,但是也讓中國裝置企業出現了惡性競爭的情況,讓研發國產裝置變成了替代國產裝置,同類型企業之間不斷通過推出新產品來搶佔國內市場,造成產業鏈抗風險能力大幅度下降。中微半導體的董事長尹志堯先生在今年的半導體大會上面重點提到了這件事,並且呼籲國內的企業不要內卷,要分工明確的聯合起來一起解決卡脖子的問題。不管是北方華創、中微半導體、新凱來這種裝置公司,還是最近被爆出來的國產浸潤式光刻機,其背後均有國家政府的力量支援,正在一步步推動國產供應鏈的正循環發展。 (逍遙漠)
新凱來:中國光刻機的“破壁者”——當華為基因遇上舉國體制,一場改寫全球半導體產業鏈的戰爭
編者按:2025年3月,上海國際半導體展的鎂光燈下,一家中國企業的展台被圍得水洩不通。展台上,一台標註著“中國首台全自主28nm DUV光刻機”的裝置正在運行,玻璃罩內,雷射束精準地切割著矽片,如同在雕刻一塊微縮版的中國地圖。這家名為“新凱來”的企業,四年前還只是華為內部一個不足百人的研發部門。而此刻,它帶著31款裝置向ASML、應用材料等國際巨頭髮起正面挑戰。全球半導體產業的地殼運動,正在這家企業的展台上悄然發生。01 華為的“技術遺產”與一場隱秘的交接2021年的華為,正處於“至暗時刻”。美國商務部的一紙禁令,讓這家中國科技巨頭的全球供應鏈驟然斷裂。時任華為輪值董事長的徐直軍在一次內部會議上說:“我們要用三年時間,在半導體領域再造一個‘備胎計畫’。”鮮為人知的是,這場自救運動中埋下了一顆關鍵火種——華為將“星光工程部”整體剝離,轉由深圳國資委控股的深芯恆科技投資公司接手。這個成立於2018年的部門,原本承擔著華為自研半導體裝置的使命。在矽谷某智庫的評估報告中,這個部門被標註為“中國最危險的半導體技術儲備庫”。“這不是簡單的資產剝離,而是一次戰略性的技術轉移。”一位接近交易的投行人士透露,華為通過股權設計保留了核心技術授權和優先採購權,而深圳國資委則以500億元產業基金為新公司注入“國家資本”。這種“民企基因+國有資本”的混改模式,後來被業內稱為“新凱來模式”。02 破壁之戰:在技術無人區架橋鋪路半導體裝置被稱為“工業皇冠上的鑽石”,全球前五大裝置廠商壟斷著85%的市場。當ASML的EUV光刻機被西方嚴密封鎖時,新凱來選擇了一條更艱難的突圍路徑。2023年,其與哈爾濱工業大學聯合實驗室傳出突破:基於深紫外(DUV)光源的“多重自對準圖形化技術”,成功在45nm光刻機上實現7nm晶片試產。“這就像用普通手術刀完成了顯微外科手術。”中科院微電子所所長葉甜春評價道。儘管這種工藝的成本比EUV高出30%,但它讓中國首次觸摸到先進製程的脈搏。更值得關注的是,新凱來同步佈局的奈米壓印光刻技術,正在蘇州實驗室進行第三代原型機測試——這項可能顛覆傳統光刻路徑的技術,被日本經濟新聞稱作“東方人的技術奇襲”。刻蝕機的“極限遊戲”在刻蝕裝置領域,新凱來上演了更具戲劇性的逆襲。2024年,其“武夷山”系列刻蝕機進入中芯國際14nm產線,將晶圓良率從55%提升至78%。這背後是一組震撼的資料:裝置腔體溫度波動控制在±0.01℃,電漿體密度均勻性達98.7%,這些指標已超越應用材料同類產品。在深圳龍崗的華為基地,有一條直通新凱來研發中心的專用光纜。這條每秒傳輸40TB資料的“數字臍帶”,見證著兩個企業間複雜的共生關係。“我們給新凱來的不是訂單,而是一整套技術需求圖譜。”華為海思某負責人透露,從5G基站晶片的耐高溫要求,到手機處理器對鰭式場效應電晶體的特殊結構,華為將十年積累的“需求庫”向新凱來開放。這種深度協同產生了驚人的化學反應:新凱來ALD裝置研發周期從24個月縮短至14個月,故障預測演算法精準率提升至95%。更隱秘的是資本層面的聯動。通過深創投旗下的半導體母基金,新凱來與華為投資的科益虹源(光刻膠)、晶瑞電材(高純試劑)等企業形成技術聯盟。這種“鏈主企業+專精特新”的生態矩陣,正在重構中國半導體產業的底層邏輯。03 國家意志與市場邏輯的共振在新凱萊蘇州工廠的牆上,掛著三幅意味深長的照片:2000年張汝京創辦中芯國際時與上海市領導的合影;2014年國家積體電路大基金成立儀式;2022年新凱來首台光刻機下線場景。這三張照片,勾勒出中國半導體產業從市場換技術到自主創新的歷史轉折。國家大基金二期70億元的戰略投資,助力新凱來在三年內建成三大研發中心。新凱萊研發投入佔比始終保持在35%以上,是行業平均水平的2.3倍。這種投入強度背後,是國資委考核指標的創新——對新凱來的評估中,專利數量權重高於營收增速。但國家資本並未取代市場規律。在深圳國資委的混改方案中,新凱來管理層持有15%的期權池,核心技術人員享受項目利潤分成。這種“國家隊掌舵、市場機制划槳”的模式,或許正是其能快速迭代的關鍵。04 全球產業鏈的“中國變數”2024年,應用材料公司在年報中首次將新凱來列為“戰略級競爭對手”;ASML則緊急調整對華銷售策略,向中國開放部分DUV光刻機限購。這些變化背後,是一個正在被重塑的全球權力結構。諮詢公司貝恩的報告顯示:到2026年,中國半導體裝置國產化率將從2021年的7%提升至35%。而新凱來在其中扮演著“鏈主”角色——其供應商名單上,富創精密的真空腔體、江豐電子的靶材、華卓精科的雙工件台,這些曾經依賴進口的部件,如今都打上了中國製造的烙印。更具象徵意義的事件發生在2025年1月:新凱來宣佈在德國慕尼黑設立歐洲研發中心,這是中國半導體裝置企業首次在西方技術腹地建立前哨站。正如《經濟學人》評論:“當中國人開始輸出半導體技術標準時,全球化進入了新回合。”05 未完成的戰爭:在刀鋒上起舞雖然取得了重大技術突破,但是我們仍需保持清醒。畢竟,新凱來的28nm光刻機良率仍比ASML低15個百分點;其刻蝕裝置尚未進入台積電、三星的採購名單;在EUV領域,中國仍落後至少兩個技術代際。但歷史總是給予破壁者超額獎賞。1930年代,美國通用電氣衝破歐洲企業對鎢絲燈泡的壟斷;1970年代,日本尼康在光刻機領域超越德國蔡司;今天,新凱來們正試圖在半導體裝置領域復刻這些傳奇。後記新凱來的故事,本質上是兩種力量的交響:一個是華為代表的民營企業創新動能,一個是國家主導的產業升級意志。當這兩種力量在半導體領域交匯,產生的能量足以擊穿技術鐵幕。正如卡爾·馬克思在《資本論》中所言:“產業革命在它的故鄉英國準備好了的前提,在別處可能以政府主導的方式完成。”在21世紀的半導體革命中,中國正在書寫這個命題的新答案。新凱來的英文名Sicarrier本身的表達就是一種雙關:既做矽基攜帶者和引領者,又要成為新事物的繼往開來者。苟日新,日日新,又日新。期待新凱來凱旋歸來的那一天! (哎呀AI)